本实用新型涉及一种浓缩池监测装置,尤其涉及一种浓缩池澄清层监测装置，属于矿用检测设备技术领域。
背景技术：
浓缩池的澄清层也叫澄清区、泥线，在浓缩过程中必须要掌握其实际状态。澄清层的掌控得当，可提高浓密机底流浓度，提高设备处理能力，降低能耗；同时可提高溢流水的利用率，降低新水消耗。浓缩池澄清层控制不当会导致溢流水跑混或者底流浓度过低，对上下道工序的生产和溢流水的利用率产生负面影响。若溢流水跑混严重会严重影响生产指标及造成管道堵塞。
河钢集团研山铁矿选矿车间为了控制尾矿浓缩池澄清层，防止溢流水跑混，需派专人定时到浓缩池周边检测。通常的检测方式有两种，一种是岗位人员持带有刻度的玻璃管到浓缩池旁的检测点，把玻璃管垂直插入浓缩池液面以下，玻璃管上端用拇指压紧，垂直提起玻璃管，观察玻璃管中清水、浊水分界点的刻度；另一种是岗位人员用长把儿取样勺插入浓缩池液面以下取样，观察勺中样品清、浊，反复几次，估计澄清层高度。这两种方法不够精准、劳动强度较大，且有一定的安全隐患。
目前市面上较高端的设备为浊度仪，浊度仪价位较高，并且在使用过程中磨损、老化，需要定期维护更换，需要大量持续性费用。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于供一种浓缩池澄清层监测装置。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：
一种浓缩池澄清层监测装置，包括悬浮球、连接杆、顶板、固定装置、超声波测量仪；所述固定装置上自上而下设有第一至第三固定杆；所述第二和第三固定杆一端固定在所述固定装置上，其另一端为设有环状结构的自由端；所述连接杆穿过所述第二和第三固定杆自由端的环状结构，其顶部固定连接顶板，其底部固定连接悬浮球，在所述第二和第三固定杆约束范围内竖直运动；所述超声波测量仪由固定装置的第一固定杆固定在顶板2正上方，用于监测顶板上升或下降的位移变化；所述悬浮球为全封闭中空球，其内部灌装有配重液。
所述配重液和悬浮球的总重量与悬浮球体积比值介于1.05g/cm3到1.1g/cm3之间。
所述浓缩池澄清层监测装置还包括二次显示表；所述二次显示表置于中控室，接收显示超声波测量仪的监测数据。
所述浓缩池澄清层监测装置还包括报警器和控制器；所述控制器的输入端接所述超声波测量仪的输出端，其输出端接报警器的输入端。
所述外罩底部不封闭且位于液面以下；所述外罩靠近浓缩池边缘的一侧设有开窗；所述开窗由活动门控制开关、闭合；所述超声波测量仪、顶板、连接杆、固定装置置于外罩内。
采用上述技术方案，本实用新型取得的有益效果是：
1、本实用新型的构简单、测量精准；
2、本实用新型投资小；
3、本实用新型具有且有二次显示和报警功能。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
图1是本实用新型的结构示意图；
其中：1-超声波测量仪，2-顶板，3-连接杆，4-悬浮球，5-配重液、6-固定装置。
具体实施方式
如图1所示，一种浓缩池澄清层监测装置，包括悬浮球4、连接杆3、顶板2、固定装置6、超声波测量仪1；所述固定装置6上自上而下设有第一至第三固定杆；所述第二和第三固定杆一端固定在所述固定装置6上，其另一端为设有环状结构的自由端；所述连接杆3穿过所述第二和第三固定杆自由端的环状结构，其顶部固定连接顶板2，其底部固定连接悬浮球4，在所述第二和第三固定杆约束范围内竖直运动；所述超声波测量仪1由固定装置6的第一固定杆固定在顶板2正上方，用于监测顶板2上升或下降的位移变化；所述悬浮球4为全封闭中空球，其内部灌装有配重液5，所述配重液5和悬浮球4的总重量与悬浮球4体积比值介于1.05g/cm3到1.1g/cm3之间。
所述浓缩池澄清层监测装置还包括二次显示表；所述二次显示表置于中控室，接收显示超声波测量仪1的监测数据。
所述浓缩池澄清层监测装置还包括报警器和控制器；所述控制器的输入端接所述超声波测量仪1的输出端，其输出端接报警器的输入端。
所述外罩底部不封闭且位于液面以下；所述外罩靠近浓缩池边缘的一侧设有开窗；所述开窗由活动门控制开关、闭合；所述超声波测量仪1、顶板2、连接杆3、固定装置6置于外罩内。
外罩为一长方体结构，底部不封且至于液面以下，犹如一个方形酒杯倒扣在水面之上，外罩靠近浓缩池边缘的一侧开设一个开窗，方便观察和维护内部设施，开窗由活动门控制开关、闭合。外罩材质可选择不锈钢板或非金属材料。
在使用过程中，根据现场情况，把浓缩池澄清层监测装置安装于便于维护的浓缩池周边位置，悬浮球4浸入到浓缩池池水之中，由于浓缩池溢流层到底流层矿浆浓度线性升高，矿浆浓度又和矿浆密度成正比例关系，因此悬浮球4会悬浮于与其密度相同的浑浊层。当浓缩池有跑混迹象时，相应浑浊层会上移，悬浮球随之上移，超声波测量仪1将监测到位移变化反映到中控室，当位移大到一定界限会触发报警器。
需特别注意的是，由于各浓缩池所成矿物不同，矿浆密度的分层规律也不尽相同，因此在初次使用时需要对本设备严格校准，确定悬浮球4的悬浮位置，及位移变化尺寸对溢流跑混的影响程度。此外，本设备受外界影响较大，在使用时需要全封闭环境，所以使用方可根据实际情况制作封闭外罩。