一种二级沉淀装置的制作方法

文档序号:14579657发布日期:2018-06-02 03:13阅读:641来源:国知局
一种二级沉淀装置的制作方法

本发明涉及一种废液处理装置,尤其涉及一种二级沉淀装置。



背景技术:

在建筑工程施工现场,因基坑(降水井等)内积水、地下水等较多,但因其中泥沙等污物较多,不能直接用作施工用水,大量水资源被抽排到市政管道或河涌,而现场设置的沉淀池位置固定,不能灵活移动以适应施工需要,且沉渣清除困难;施工现场水资源丰富却难以直接利用,显然,基坑(降水井等)内积水、地下水等水资源被浪费。

现有对基坑(降水井等)内积水、地下水进行过滤沉淀的装置仅仅采用沉淀池对水体内的杂质进行沉淀,但往往水体中还存在许多难以通过沉淀分离的沉淀物以及漂浮物,这些沉淀物和漂浮物均会影响后续再利用的水资源的质量。



技术实现要素:

为了克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种二级沉淀装置,其能对流体中的沉淀物以及漂浮物进行过滤清洗,进一步提高再利用流体资源的质量。

本发明的目的采用如下技术方案实现:

一种二级沉淀装置,包括沉淀箱机构、抽水机构以及储水机构;所述沉淀箱机构相对的两侧分别与所述抽水机构和所述储水机构连通;

所述沉淀箱机构包括一级沉淀箱和二级沉淀箱,所述一级沉淀箱内形成有开口朝上的第一沉淀腔,所述二级沉淀箱内形成有开口朝上的第二沉淀腔;所述一级沉淀箱具有用于围设形成所述第一沉淀腔的第一箱壁,所述二级沉淀箱具有用于围设形成所述第二沉淀腔的第二箱壁;所述一级沉淀箱一侧和所述二级沉淀箱一侧并排连接,所述一级沉淀箱和所述二级沉淀箱之间形成用于分隔所述第一沉淀腔和所述第二沉淀腔的第三箱壁;所述第三箱壁顶端开设有连通所述第一沉淀腔和所述第二沉淀腔的过水口;

所述一级沉淀箱内插接有用于过滤流体中沉淀物的滤网组件;所述二级沉淀箱设有用于分离流体与漂浮物的拨料组件。

进一步地,所述一级沉淀箱远离所述二级沉淀箱的一侧开设有进水口;所述进水口与所述抽水机构连接;

所述二级沉淀箱远离所述一级沉淀箱的一侧开设有出水口;所述出水口与所述储水机构连接;

所述一级沉淀箱深度大于所述二级沉淀箱;所述一级沉淀箱和所述二级沉淀箱底部均呈漏斗状收窄且末端开设有排污口。

进一步地,所述第一箱壁相对的两侧分别设有竖直设置的滑槽;所述滤网组件设有用于与所述滑槽滑动配合的滑块;所述滤网组件包括滤板和集废斗组件,所述集废斗组件设置在所述滤板的下部且置于所述一级沉淀箱的排污口的上方,用于收集流体中的沉淀物;所述滤板顶部低于所述过水口,所述滤板垂直于所述进水口和所述过水口之间的连线,以使流体中的沉淀物均需流经所述滤板。

进一步地,所述滤板包括主滤网和用于使所述滤网组件固定并在所述一级沉淀箱中升降滑动的所述滑块;所述主滤网的两侧固定有所述滑块;

所述主滤网还包括不透水的板面,所述板面上设有若干凸起部;所述凸起部的底部包括有不透水的滤面;所述滤面上设有可供流体通过并用于过滤流体中颗粒物的滤孔;所述滤孔朝下设置。

进一步地,所述拨料组件包括用于拨动流体中漂浮物的拨料滚筒;所述拨料滚筒设有驱动轴,所述驱动轴固定穿接于所述拨料滚筒;所述拨料滚筒外周面均匀固设有多个拨料片组。

进一步地,每个所述拨料片组包括多个拨料片,任意相邻的所述拨料片组的所述拨料片在所述拨料滚筒中心轴线方向上错开分布。

进一步地,所述驱动轴与所述过水口和所述出水口之间的连线相平行;所述第二箱壁的一侧开有用于排出漂浮物的排料口;所述排料口高于所述过水口。

进一步地,所述抽水机构为抽水水泵;所述抽水水泵与所述一级沉淀箱通过管道连接。

进一步地,所述储水机构包括储水塔以及增压水泵;所述储水塔顶部与所述二级沉淀箱通过管道连接;所述储水塔的底部与所述增压水泵连接。

进一步地,所述一级沉淀箱和所述二级沉淀箱顶部均设有用于提拉所述一级沉淀箱和所述二级沉淀箱的拉环。

相比现有技术,本发明的有益效果在于:

(1)通过并排设置一级沉淀箱和二级沉淀箱,使本发明的沉淀箱机构结构更加紧凑,方便转移位置使用,同时也方便将一级沉淀箱中的流体转移到二级沉淀箱中,进一步优化流体沉淀清洗过程;

(2)通过在一级沉淀箱设置滤网组件,使流体中的颗粒沉淀物能得到过滤沉淀;在二级沉淀箱中设置拨料组件,使经过过滤沉淀物的流体中的漂浮物能得到分离,保证流体的洁净。

附图说明

图1为本发明二级沉淀装置结构示意图;

图2为本发明拨料滚筒结构示意图;

图3为本发明滤网组件结构示意图;

图4为本发明板面结构示意图。

图中:10、一级沉淀箱;20、二级沉淀箱;30、抽水机构;40、储水机构;50、第三箱壁;11、第一沉淀腔;12、第一箱壁;13、滤网组件;14、进水口;21、第二沉淀腔;22、第二箱壁;23、拨料组件;24、出水口;25、排料口;51、过水口;60、排污口;131、滤板;132、集废斗组件;1311、主滤网;1312、滑块;1316、板面;1313、凸起部;1314、滤面;1315、滤孔;231、拨料滚筒;232、驱动轴;233、拨料片组;2331、拨料片;41、储水塔;42、增压水泵。

具体实施方式

下面,结合附图以及具体实施方式,对本发明做进一步描述,需要说明的是,在不相冲突的前提下,以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。

如图1~4所示,为了基坑、降水井中的积水使再利用时能够更加洁净,本发明提供一种二级沉淀装置,其包括沉淀箱机构、抽水机构30以及储水机构40;沉淀箱机构相对的两侧分别与抽水机构30和储水机构40连通;抽水机构30能将基坑或降水井内的积水抽出泵入沉淀箱机构中进行沉淀过滤,储水机构40能对过滤后洁净的水体储存并供再次利用。

具体的,沉淀箱机构包括一级沉淀箱10和二级沉淀箱20,一级沉淀箱10内形成有开口朝上的第一沉淀腔11,二级沉淀箱20内形成有开口朝上的第二沉淀腔21;一级沉淀箱10具有用于围设形成第一沉淀腔11的第一箱壁12,二级沉淀箱20具有用于围设形成第二沉淀腔21的第二箱壁22;一级沉淀箱10一侧和二级沉淀箱20一侧并排连接,一级沉淀箱10和二级沉淀箱20之间形成用于分隔第一沉淀腔11和第二沉淀腔21的第三箱壁50,第三箱壁50顶端开设有连通第一沉淀腔11和第二沉淀腔21的过水口51;以使一级沉淀箱10和二级沉淀箱20形成“日”字形结构;该种结构能使沉淀箱机构的结构更加紧凑,方便搬运运输,同时采用共用的第三箱壁50,使一级沉淀箱10中的积水仅需通过第三箱壁50的过水口51就能流入二级沉淀箱20中,使沉淀效率更高。

一级沉淀箱10内插接有用于过滤流体中沉淀物的滤网组件13;二级沉淀箱20设有用于分离流体与漂浮物的拨料组件23。

一级沉淀箱10远离二级沉淀箱20的一侧开设有进水口14;进水口14与抽水机构30连接;

二级沉淀箱20远离一级沉淀箱10的一侧开设有出水口24;出水口24与储水机构40连接;

一级沉淀箱10深度大于二级沉淀箱20;一级沉淀箱10和二级沉淀箱20底部均逐渐收窄呈漏斗状并开设有排污口60,积水中的沉淀物可通过排污口60排出,二级沉淀箱20中的排污口60主要用于将积水中无法被过滤的沉淀物,如质量大于水的油等流体物质沉淀排出。

第一箱壁12相对的两侧分别设有竖直设置的滑槽(图未示);滤网组件13设有用于与滑槽滑动配合的滑块1312,以使滤网组件13在过滤流体中的沉淀物后能够从一级沉淀箱10中抽出清理;滤网组件13包括滤板131和集废斗组件132,集废斗组件132设置在滤板131的下部且置于一级沉淀箱10的排污口60的上方,用于收集流体中的沉淀物,其和滤板131固接可与滤板131一通抽出一级沉淀箱10,使沉淀物能接在集废斗组件132上抽出清理;滤板131顶部低于过水口51,以使流体中的漂浮物能够从滤板131顶部流过进入二级沉淀箱20,滤板131垂直于进水口14和过水口51之间的连线,以使流体中的沉淀物均需流经滤板131被过滤。

优选的,滤板131包括主滤网1311和用于使滤网组件13固定并在一级沉淀箱10中升降滑动的滑块1312;主滤网1311的两侧固定有滑块1312;

具体的,主滤网1311还包括不透水的板面1316,板面1316上设有若干凸起部1313;凸起部1313的底部包括有不透水的滤面1314,这里,凸起部1313截面呈“∠”形;滤面1314上设有可供流体通过并用于过滤流体中颗粒物的滤孔1315;滤孔1315朝下设置,使流体中的沉淀物能被滤孔1315阻隔,流体从滤孔1315中流过后,沉淀物下沉落到集废斗组件132上。

为了使流体与流体中的漂浮物分离,拨料组件23包括用于拨动流体中漂浮物的拨料滚筒231;拨料滚筒231设有驱动轴232,驱动轴232固定穿接于拨料滚筒231;拨料滚筒231外周面均匀固设有多个拨料片组233。

每个拨料片组233包括多个拨料片2331,任意相邻的拨料片组233的拨料片2331在拨料滚筒231中心轴线方向上错开分布,使流体表面的漂浮物均能被拨动。

驱动轴232与过水口51和出水口24之间的连线相平行,使驱动轴232带动拨料滚筒231旋转,将流体中的漂浮物拨到二级沉淀箱20的一侧,避免漂浮物从出水口24流走;第二箱壁22的一侧开有用于排出漂浮物的排料口25;排料口25高于过水口51,避免流体从排料口25一同排出。

抽水机构30为抽水水泵;抽水水泵与一级沉淀箱10通过管道连接。

储水机构40包括储水塔41以及增压水泵42;储水塔41顶部与二级沉淀箱20通过管道连接;储水塔41的底部与增压水泵42连接。

一级沉淀箱10和二级沉淀箱20顶部均设有用于提拉一级沉淀箱10和二级沉淀箱20的拉环,进一步使沉淀箱机构更加便携。

上述实施方式仅为本发明的优选实施方式,不能以此来限定本发明保护的范围,本领域的技术人员在本发明的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本发明所要求保护的范围。

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