一种铝金属过滤膜的制造方法与流程

技术特征：

1.一种铝金属过滤膜的制造方法，其特征在于，所述制造方法至少包括：

S1：提供一铝箔基板；

S2：通过激光加工或机械加工的方式在铝箔基板上制造出一系列微米孔阵列；

S3：利用氢氟酸和盐酸的混合溶液刻蚀经激光加工或机械加工后的铝箔基板和铝箔基板上的孔阵列，得到粗糙铝箔基板表面和粗糙内表面孔壁。

2.根据权利要求1所述的铝金属过滤膜的制造方法，其特征在于：所述S1步骤中铝箔基板为双面抛光的铝箔，铝箔基板的厚度为50μm~500μm。

3.根据权利要求1所述的铝金属过滤膜的制造方法，其特征在于：所述S2步骤中，激光加工所用的激光器可以是纳秒激光器、皮秒激光器、飞秒激光器的其中一种，激光波长为532nm或775nm或1064nm或1550nm，纳秒激光器平均功率为15W~30W，皮秒激光器平均功率为10W~20W,飞秒激光器平均功率为0.5W~2W。

4.根据权利要求1所述的铝金属过滤膜的制造方法，其特征在于：所述S2步骤中，激光加工后微米孔阵列为10×10~10000×10000，微米孔阵列间距为100μm~500μm，微米孔阵列的孔直径为50μm~100μm，微米孔阵列所占据的区域面积为1mm2 ~25m2。

5.根据权利要求1或3所述的铝金属过滤膜的制造方法，其特征在于：所述S2步骤中，激光加工时激光器雕刻次数为15次~75次，激光器扫描速度为40~1000mm/s,激光频率为1Hz~100MHz。

6.根据权利要求1所述的铝金属过滤膜的制造方法，其特征在于：所述S2步骤中，机械加工采用钻床制造，机械加工后的微米孔阵列为10×10~10000×10000，微米孔阵列间距为100μm~500μm，微米孔阵列的孔直径为50μm~100μm，微米孔阵列所占据的区域面积为1mm2 ~25m2，钻床转速为200000r/min~300000 r/min，进给速度为0.8米/分钟~1.2米/分钟，退刀速度为5米/分钟~7米/分钟。

7.根据权利要求1所述的铝金属过滤膜的制造方法，其特征在于：所述S3步骤中，还包括如下步骤：

A1：使用特氟龙量筒量取2.5mL~15mL的质量、分数为10%~40%的氢氟酸水溶液；

A2：使用玻璃量筒量取12.5mL~75mL的蒸馏水；

A3：使用玻璃筒量量取40mL~240mL的质量、分数为36%的盐酸溶液；

A4：将量取好的蒸馏水加入特氟龙烧杯内；

A5：将量取好的盐酸溶液缓慢的加入到量取好的蒸馏水中，一边加入盐酸溶液一边用特氟龙搅拌棒搅拌；

A6：最后将量取好的氢氟酸水溶液缓慢加入稀释的盐酸溶液中，一边加入氢氟酸水溶液一边用特氟龙搅拌棒搅拌；搅拌完成后，刻蚀剂配置完成；

A7：将经激光加工或机械加工后的铝箔基板用特氟龙镊子夹紧并浸入刻蚀剂中缓慢搅5s~15s后取出；

A8：取出有粗糙结构的铝箔基板进行清洗工艺；

A9：清洗工艺结束后将有粗糙结构的铝箔基板取出并用氮气枪吹干，制得粗糙铝箔基板表面和粗糙内表面孔壁。