一种防腐处理系统的制作方法

本发明涉及防腐技术领域，特别涉及一种防腐处理系统。

背景技术：

储罐的应用非常广泛，而储罐中存储的化学物质容易造成储罐内壁被腐蚀，为了缓解这种现象，需要对储罐内壁进行防腐处理。

在对储罐内壁进行防腐处理时，工作人员通常需要在储罐内壁某一区域搭设脚手架，之后再攀爬至该脚手架上，并手持除锈工具对储罐内壁的该区域进行除锈，在除锈完毕后手持喷涂工具对储罐内壁的该区域喷涂防腐层。之后，工作人员还需将脚手架移动至储罐内壁的其他区域，并对该其他区域也进行相同的除锈和喷涂防腐层的工作。

由于工作人员需要攀爬脚手架以及移动脚手架，因此，储罐内壁的防腐处理效率较低，且工作人员的安全难以保证。

技术实现要素：

本申请提供了一种防腐处理系统。解决相关技术中储罐内壁的防腐处理效率较低的问题，所述技术方案如下：

提供了一种防腐处理系统，所述防腐处理系统包括：控制装置、支撑装置以及工作装置，所述工作装置包括：设置在所述支撑装置上的升降滑架，设置在所述升降滑架上的旋转打磨组件以及滑动导轨，以及设置在所述滑动导轨上的喷涂组件，且所述旋转打磨组件能够沿靠近和远离所述升降滑架的方向移动，所述喷涂组件能够沿所述滑动导轨滑动；所述旋转打磨组件用于对待处理表面进行除锈，所述喷涂组件用于对所述待处理表面喷涂防腐层；

所述控制装置与所述支撑装置和所述工作装置建立有通信连接，所述控制装置用于：控制所述支撑装置移动，控制所述升降滑架在所述支撑装置上移动，控制所述旋转打磨组件对所述待处理表面进行除锈，控制所述喷涂组件对所述待处理表面喷涂防腐层。

可选的，所述旋转打磨组件具有依次排布的多个打磨刷。

可选的，所述工作装置还包括：防坠器。

可选的，所述待处理表面为储罐的内壁，所述支撑装置包括：导轨架、旋转底座和两个移动组件；所述储罐的底板为圆形，所述旋转底座的一端设置在所述底板的中心，所述旋转底座的另一端设置有所述导轨架，且所述旋转底座的另一端靠近所述储罐的内壁；所述升降滑架设置在所述导轨架上，并能够在所述导轨架上滑动；所述两个移动组件分别设置在所述旋转底座的另一端的两侧，所述两个移动组件用于带动所述旋转底座的另一端绕所述底板的中心旋转。

可选的，所述旋转底座包括：旋转定位结构和支撑结构，所述旋转定位结构固定设置在所述底板的中心，所述旋转定位结构与所述支撑结构连接，且所述支撑结构远离所述底板的中心的一端能够绕所述底板的中心旋转。

可选的，所述支撑结构包括：两个纵支臂、横支臂、两个万向脚轮以及导轨架底座，每个所述纵支臂的一端均与所述旋转定位结构连接，每个所述纵支臂的另一端均与所述导轨架底座连接；所述横支臂的两端分别与所述两个纵支臂连接，所述两个万向脚轮分别设置在所述横支臂的两端，且均与所述底板接触。

可选的，所述支撑结构还包括：至少一组可调斜撑；每组所述可调斜撑包括两个可调斜撑，且所述两个可调斜撑的一端与所述导轨架连接，所述两个可调斜撑的另一端分别与所述两个纵支臂连接，所述可调斜撑的长度可调节。

可选的，所述至少一组可调斜撑包括：目标组可调斜撑，所述目标组可调斜撑中的所述两个可调斜撑的另一端分别与所述横支臂的两端连接。

可选的，所述两个纵支臂的一端的距离为第一距离，所述两个纵支臂的另一端的距离为第二距离，所述第一距离小于所述第二距离，所述导轨架设置在所述导轨架底座上的第一位置，所述底板的中心与所述第一位置所在的直线垂直于所述横支臂。

可选的，所述储罐防腐系统还包括：两个图像采集装置和显示装置，所述两个图像采集装置与所述显示装置建立有通信连接，所述两个图像采集装置设置在所述升降滑架上，所述两个图像采集装置分别用于采集所述旋转打磨组件和所述喷涂组件所在侧的图像；每个所述图像采集装置用于将采集到的图像发送至所述显示装置，所述显示装置用于显示每个所述图像采集装置发送的图像。

本申请提供的技术方案可以包括以下有益效果：由于控制装置能够控制支撑装置移动，且控制装置能够控制工作装置在支撑装置上移动，因此，在使用该防腐处理系统对储罐内壁进行防腐处理时，无需因工作人员攀爬和移动脚手架而耗费时间，因此，该防腐处理系统的防腐处理效率较高。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本发明。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种防腐处理系统的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种工作装置的正视图；

图3为本发明实施例提供的一种工作装置的俯视图；

图4为本发明实施例提供的一种储罐防腐系统的俯视图；

图5为本发明实施例提供的一种第一可调斜撑的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种目标可调斜撑的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种旋转定位结构的正视图；

图8为本发明实施例提供的一种旋转定位结构的俯视图。

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

储罐内壁防腐是储罐工程建设和大修维护重要的工序，而在对储罐内壁进行防腐处理的过程中，工作人员会因攀爬和移动脚手架而耗费较长时间，因此，储罐内壁的防腐处理效率较低；且工作人员在攀爬移动脚手架时存在较大的安全风险，储罐内的工作环境也较差。本发明实施例提供了一种防腐处理系统，该防腐处理系统可实现储罐内壁防腐自动化处理，解决储罐内壁的防腐处理效率较低、安全风险大且工作环境较差的问题。

图1为本发明实施例提供的一种防腐处理系统的结构示意图，图2为本发明实施例提供的一种工作装置的正视图，图3为本发明实施例提供的一种工作装置的俯视图。请结合图1至图3，该防腐处理系统可以包括：控制装置(图1至图3中均未示出)、支撑装置10以及工作装置20。该工作装置20可以包括：设置在支撑装置10上的升降滑架201，设置在升降滑架201上的旋转打磨组件202以及滑动导轨203，以及设置在滑动导轨203上的喷涂组件204。且旋转打磨组件202能够沿靠近和远离升降滑架201的方向移动，喷涂组件204能够沿滑动导轨203滑动。旋转打磨组件202用于对待处理表面(图1至图3中均未示出)进行除锈，喷涂组件204用于对待处理表面喷涂防腐层。

控制装置与支撑装置10和工作装置20均建立有通信连接，控制装置用于：控制支撑装置10移动，控制工作装置20在支撑装置10上移动，控制升降滑架201在支撑装置10上移动，控制旋转打磨组件202对待处理表面进行除锈，控制喷涂组件204对待处理表面喷涂防腐层。

可选的，该待处理表面可以为储罐的内壁。

综上所述，在本发明实施例提供的防腐处理系统中，由于控制装置能够控制支撑装置移动，且控制装置能够控制工作装置在支撑装置上移动，因此，在使用该防腐处理系统对储罐内壁进行防腐处理时，无需因工作人员攀爬和移动脚手架而耗费时间，因此，该防腐处理系统的防腐处理效率较高。

请继续参考图1至图3，旋转打磨组件202具有依次排布的多个打磨刷(如碗刷2021和轮刷2022)。

可选的，旋转打磨组件202和滑动导轨203可以在升降滑架201的两端相对设置。旋转打磨组件202还可以包括工作台2023、电动推杆2024、转台2025、气动滑台2026、固定板2027、第一气动马达(图1至图3中均未示出)以及第二气动马达(图1至图3中均未示出)。

其中，工作台2023与升降滑架201固定连接，电动推杆2024以及转台2025均设置在工作台2023上，电动推杆2024用于驱动转台2025旋转。气动滑台2026均与转台2025固定连接，固定板2027与气动滑台2026的移动端2026a连接。碗刷2021和轮刷2022均设置在固定板2027靠近储罐内壁的一端，第一气动马达与碗刷2021连接，第二气动马达与轮刷2022连接，第一气动马达用于驱动碗刷2021旋转，第二气动马达用于驱动轮刷2022旋转。气动滑台2026的移动端2026a能够沿靠近或远离储罐内壁的方向移动，在气动滑台2026的作用下，碗刷2021和轮刷2022能够以一定预紧力压在储罐内壁上。

可选的，滑动导轨203可以为直线滑台，喷涂组件204可以为喷枪，该喷枪204与该直线滑台203的滑动端203a连接。

可选的，工作装置20还可以包括：第一电机(图1至图3中均未示出)、齿轮组(图1至图3中均未示出)、四个第一靠轮组205a(图2中示出了两个第一靠轮组中的两个靠轮，图3示出了四个第一靠轮组中的两个第一靠轮组)、两组第二靠轮组205b以及防坠器206。其中，齿轮组固定连接在升降滑架201上，第一电机固定连接在该齿轮组的输入端；另外，支撑装置上可以设置有齿条，该齿轮组的输出端用于与支撑装置上的齿条连接。示例的，该输出端可以为齿轮。在第一电机的作用下，该齿轮可以沿支撑装置上的齿条移动，从而带动整个工作装置20在支撑装置10上移动。

四个第一靠轮组205a分别设置在升降滑架201上靠近图1所示支撑装置10的端面上的四个顶角处，两组第二靠轮205b分别设置在四个顶角中靠近储罐的顶板的两个顶角处，且四组第一靠轮205a以及两组第二靠轮205b均靠在图1所示的支撑装置10上。防坠器206设置在升降滑架201上靠近储罐的底板的一端，在工作装置20急剧坠落时，该防坠器206可以将工作装置20锁死在图1所示的支撑装置10上，防止工作装置20进一步坠落。

图4为本发明实施例提供的一种储罐防腐系统的俯视图，该储罐防腐系统可以为图1所示的储罐防腐系统。请结合图1和图4，支撑装置10可以包括：导轨架101、旋转底座102和两个移动组件103。

其中，旋转底座102的一端设置在形状为圆形的储罐的底板的中心，旋转底座102的另一端设置有导轨架101，且旋转底座102的另一端靠近储罐的内壁，升降滑架201设置在导轨架101上，并能够在导轨架101上滑动。两个移动组件103分别设置在旋转底座102的另一端的两侧，两个移动组件103用于带动旋转底座102的另一端绕底板的中心旋转。

可选的，该导轨架101可以由多个无缝管和多个角钢拼接而成。且该两个移动组件103均包括两个行走轮103a和第二电机(图1和图4均未示出)，该第二电机用于驱动行走轮103a转动。

可选的，旋转底座102可以包括：旋转定位结构1021和支撑结构1022。旋转定位结构1021固定设置在底板的中心，旋转定位结构1021与支撑结构1022连接，且支撑结构1022远离底板的中心的一端能够绕底板的中心旋转。

示例的，支撑结构1022可以包括：两个纵支臂10221、横支臂、两个万向脚轮10223以及导轨架底座10224。其中，支撑机构1022可以包括多个横支臂，该多个横支臂可以包括第一横支臂10222a和第二横支臂10222b，且第一横支臂10222a的长度大于第二横支臂10222b的长度。每个纵支臂10221的一端均与旋转定位结构1021连接，每个纵支臂10221的另一端均与导轨架底座10224连接，第一横支臂10222a以及第二横支臂10222b的两端分别与两个纵支臂10221连接，两个万向脚轮10223分别设置在第一横支臂10222a的两端，且均与储罐的底板接触。

可选的，该两个纵支臂10221的一端的距离d1为第一距离，该两个纵支臂10221的另一端的距离d2为第二距离，第一距离d1小于第二距离d2。导轨架101可以设置在导轨架底座10224上的第一位置，底板的中心与第一位置所在的直线垂直于第一横支臂10222a以及第二横支臂10222b。可选的，纵支臂10221、第一横支臂10222a以及第二横支臂10222b均可以为槽钢。

可选的，支撑结构1022还可以包括：至少一组可调斜撑，每组可调斜撑可以包括两个可调斜撑。其中，该至少一组可调斜撑可以包括第一组可调斜撑，该第一组可调斜撑可以包括两个第一可调斜撑10225a。该两个第一可调斜撑10225a的一端与导轨架101连接，该两个第一可调斜撑10225a的另一端通过两个支撑板a1与两个纵支臂10221连接，且第一可调斜撑10225a的长度可调节。

示例的，图5为本发明实施例提供的一种第一可调斜撑的结构示意图，如图5所示，该第一可调斜撑10225a可以包括依次连接的球头销b1、斜撑底节b2、调节丝杠b3、斜撑顶节b4以及挂钩b5。请结合图4和图5，支撑板a1上可以设置有与球头销b1相配合的第一球头座(图4中未示出)，该可调斜撑10225a的一端可以通过挂钩b5与导轨架101连接，该可调斜撑10225a的另一端可以通过球头销b1和第一球头座与支撑板a1连接。

在使用该防腐处理系统时，工作人员可以通过转动调节丝杠b2调节斜撑底节b1与斜撑顶节b3之间的距离，从而调整第一可调斜撑10225a的长度，以使得导轨架101和储罐的底板保持垂直；从而使得工作装置20在沿导轨架101滑动时，工作装置20可以与储罐的内壁之间的距离保持不变，提高了防腐处理系统的稳定性。

可选的，请继续参考图4，该至少一组可调斜撑还可以包括：目标组可调斜撑，该目标组可调斜撑可以包括两个目标可调斜撑10226a，该两个目标可调斜撑10226a的一端可以与导轨架101连接，该两个目标可调斜撑10226a的另一端可以通过两个支撑板a2与第一横支臂10222a的两端连接。

示例的，图6为本发明实施例提供的一种目标可调斜撑的结构示意图，如图6所示，该目标可调斜撑10226a可以包括依次连接的球头销c1、斜撑底节c2、调节丝杠c3、丝杠连接节c4、n个斜撑标准节c5、斜撑顶节c6以及挂钩c7。其中，丝杠连接节c4和斜撑标准节c5之间通过第一法兰盘结构c8连接，n个斜撑标准节c5之间以及斜撑标准节c5与斜撑顶节c6之间通过第二法兰盘结构c9连接。

请结合图4和图6，支撑板a2上可以设置有与球头销c1相配合的第二球头座(图4中未示出)，该目标可调斜撑10226a的一端可以通过挂钩c7与导轨架101连接，该目标可调斜撑10226a的另一端可以通过球头销c1和第二球头座与支撑板a2连接。需要说明的是，图6中以n＝3为例，实际应用中，n可以为任意正整数，如n＝5，本发明实施例对此不作限定。

图7为本发明实施例提供的一种旋转定位结构的正视图，图8为本发明实施例提供的一种旋转定位结构的俯视图。请结合图7和图8，该旋转定位结构1021可以包括：回转底座10211、回转支承10212、旋臂座10213、旋臂10214、螺旋伸缩机构10215以及导轨台10216，旋臂10214包括两个圆柱导轨10214a，导轨台10216包括两个导向孔(图7和图8中均未示出)。

其中，回转底座10211设置在储罐的底板中心处，且回转底座10211的回转中心线与储罐的底板的回转中心线重合(同为图7所示的中心线m1)。回转支承10212设置在回转底座10211远离底板中心的一端，旋臂座10213设置在回转支承10212远离回转底座10211的一端，旋臂10214与旋臂座10213通过轴连接，且旋臂10214设置在旋臂座10213靠近储罐的内壁的一端。螺旋伸缩机构10215的一端与旋臂10214连接，螺旋伸缩机构10215的另一端与导轨台10216连接，两个圆柱导轨10214a与两个导向孔一一对应，每个导向孔内设置有其对应的圆柱导轨10214a。另外，导轨台10216还可以与图4所示的两个纵支臂10221连接。

在使用该防腐处理系统时，工作人员可以通过调整螺旋伸缩机构10215的长度，来调整图1所示的工作装置20和储罐的内壁之间的距离，以适应底板直径不同的储罐，提高了防腐处理系统的适应性。

可选的，该防腐处理系统还可以包括：两个图像采集装置和显示装置，该两个图像采集装置与显示装置建立有通信连接，该两个图像采集装置可以设置在图2所示的升降滑架201上，两个图像采集装置分别用于采集图2所示的旋转打磨组件202和喷涂组件204所在侧的图像。每个图像采集装置用于将采集到的图像发送至显示装置，显示装置用于显示每个图像采集装置发送的图像。

可选的，控制装置可以包括控制柜，第一电机以及第二电机均通过信号线与该控制柜连接，该控制柜还可以包括控制面板。在使用该防腐处理系统时，工作人员可以通过控制面板来控制第一电机和第二电机，从而控制图1所示工作装置10的移动速度和方向。

可选的，图2所示的工作装置10还可以包括伺服电机和伺服驱动器，该伺服驱动器和伺服电机用来驱动喷涂组件204在直线导轨203上移动，该防腐处理系统还可以包括工控机，该工控机可以包括显示面板，该工控机通过信号线和伺服驱动器连接。在使用该防腐处理系统时，工作人员可以通过工控机的显示面板输入参数来控制伺服器驱动器和伺服电机，从而可以控制喷涂组件204在直线导轨203上的移动方向和速度。

可选的，工作装置10还可以包括第一电磁阀、第二电磁阀以及第三电磁阀，第一电磁阀、第二电磁阀以及第三电磁阀均设置在打磨组件202上，第一电磁阀与气动滑台2026连接，第二电磁阀与第一气动马达连接，第三电磁阀与第二气动马达连接。该防腐处理系统还可以包括遥控器，该遥控器与第一电磁阀、第二电磁阀、电磁阀以及电动推杆2024之间建立有通信连接。在使用该防腐处理系统时，工作人员可以通过使用遥控器来控制第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀以及电动推杆2024的开启和关闭。

在使用本发明实施例提供的防腐处理系统处理储罐前，工作人员应先将构成该防腐处理系统的各个构件通过该储罐的人孔搬运至储罐内，随后在储罐内将该各个构件搭建成防腐处理系统。

在搭建好该防腐处理系统后，工作人员可以先调节可调斜撑的长度，使得导轨架和储罐的底板保持垂直，并通过操作控制柜上的控制面板，使得工作装置到达储罐的内壁上待打磨焊锈的位置，以及通过调整螺旋伸缩机构的长度，使得工作装置上打磨刷的刷头与储罐的内壁上焊锈接触。之后，工作人员可以通过遥控器控制第一电磁阀，使得气动滑台的移动端伸缩，从而调节打磨刷刷头与储罐的内壁之间的预紧力。在调节完打磨刷刷头与储罐的内壁之间的预紧力之后，工作人员可以根据显示装置上显示的图像来操作控制面板，使得工作装置上打磨刷的刷头沿焊锈的锈迹移动，并根据实际情况来调整移动装置的速度。在打磨焊锈的过程中，工作人员还可以通过操作遥控器控制电动推杆，使得旋转打磨组件上的转台旋转，以使得多个打磨刷的排布方向与焊锈的锈迹方向一致。

在清除完储罐的内壁的锈迹后，工作人员可以打开喷枪，并通过在工控机的显示面板输入参数来控制伺服器驱动器和伺服电机，使得喷涂组件在直线导轨上按照设定的参数做往复运动，并通过操作显示面板调整工作装置的移动方向和速度，使得工作装置的移动范围覆盖储罐的内壁的全部区域。该防腐处理系统的动力装置由位于储罐外的一台空压机和发电机组成，该空压机通过气管给气动滑台、第一气动马达以及第二气动马达提供动力，该发电机通过电缆给第一电机、第二电机、伺服电机提供动力。

综上所述，在本发明实施例提供的防腐处理系统中，由于控制装置能够控制支撑装置移动，且控制装置能够控制工作装置在支撑装置上移动，因此，在使用该防腐处理系统对储罐内壁进行防腐处理时，无需因工作人员攀爬和移动脚手架而耗费时间，因此，该防腐处理系统的防腐处理效率较高。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。