光学膜基材涂布系统的制作方法

本实用新型涉及光学膜基材涂布设备技术领域，具体而言，涉及一种光学膜基材涂布系统。

背景技术：

由于现有实验室使用的线棒涂布机都为玻璃或吸附平台，涂布时将涂布基材放置于玻璃或吸附平台，线棒放置于基材上进行涂布。该作业方式容易造成涂布基材背面与平台的刮伤、压伤以及脏污，并且单面涂布的薄膜在干燥的过程中容易发生卷曲；不利于光学膜的样品制备。

技术实现要素：

本实用新型的主要目的在于提供一种光学膜基材涂布系统，以解决现有技术中的光学膜涂布设备易损坏光学膜基材的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种光学膜基材涂布系统，该光学膜基材涂布系统包括：涂布装置，涂布装置包括主体和分别设置在主体两端的两个夹持部，两个夹持部分别夹持光学膜基材的两侧，以将光学膜基材悬空固定。

进一步地，涂布装置还包括：张紧结构，张紧结构设置在主体上，光学膜基材抵接在张紧结构上。

进一步地，张紧结构包括：安装座，安装座设置在主体上；张紧辊，张紧辊可转动地设置在安装座上，张紧辊抵接在光学膜基材的下方。

进一步地，张紧结构为两个，两个张紧结构均设置在两个夹持部之间，并分别设置在主体的两端。

进一步地，夹持部包括：夹持件，夹持件具有夹持光学膜基材的夹持位置及释放光学膜基材的释放位置；气缸，气缸与夹持件驱动连接，气缸用于驱动夹持件在夹持位置与释放位置之间切换。

进一步地，夹持部还包括：基座，基座内部设置有安装腔，夹持件与气缸设置在安装腔中。

进一步地，光学膜基材涂布系统还包括：涂布线棒，涂布线棒用于对安装在涂布装置上的光学膜基材进行涂布；干燥装置，干燥装置用于盛放从涂布装置上取下的涂布完成的光学膜基材。

进一步地，干燥装置包括两个固定板和两个固定杆，两个固定板间隔设置，固定杆的两端分别连接在两个固定板上，两个固定杆与两个固定板围设形成支撑架，涂布装置上取下的涂布完成的光学膜基材盛放在支撑架上。

进一步地，干燥装置还包括：压紧部，压紧部可移动地设置在固定板上，以与固定杆配合压紧涂布装置上取下的涂布完成的光学膜基材。

进一步地，压紧部包括：两个压紧杆，两个压紧杆分别可移动地设置在两个固定杆的上方，两个压紧杆分别与两个固定杆配合，以压住涂布装置上取下的涂布完成的光学膜基材的两端。

应用本实用新型的技术方案，由于本实用新型中的光学膜基材涂布系统包括涂布装置，且涂布装置包括两个夹持部，通过两个夹持部分别对光学膜基材的两侧进行夹持，使光学膜基材悬空固定，从而实现悬空涂布，避免了现有技术涂布过程中，易造成涂布基材背面与平台的刮伤、压伤以及脏污的问题，通过张紧结构张紧光学膜基材，以使光学膜基材的平整性能提升。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示意性示出了本实用新型的光学膜基材涂布系统的涂布装置的实施例的结构图；以及

图2示意性示出了本实用新型的光学膜基材涂布系统的涂布装置的实施例的结构图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、涂布装置；11、主体；12、夹持部；13、安装座；14、张紧辊；20、干燥装置；21、固定板；22、固定杆；23、压紧杆。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

正如背景技术中所记载的，由于现有实验室使用的线棒涂布机都为玻璃或吸附平台，涂布时将涂布基材放置于玻璃或吸附平台，线棒放置于基材上进行涂布。该作业方式容易造成涂布基材背面与平台的刮伤、压伤以及脏污，并且单面涂布的薄膜在干燥的过程中容易发生卷曲；不利于光学膜的样品制备。

为了解决上述技术问题，参见图1和2所示，本实用新型提供了一种光学膜基材涂布系统，该光学膜基材涂布系统包括涂布装置10，涂布装置10包括主体11和分别设置在主体11两端的两个夹持部12，两个夹持部12分别夹持光学膜基材的两侧，以将光学膜基材悬空固定。由于本实用新型中的光学膜基材涂布系统包括涂布装置，且涂布装置包括两个夹持部，通过两个夹持部分别对光学膜基材的两侧进行夹持，使光学膜基材悬空固定，从而实现悬空涂布，避免了现有技术涂布过程中，易造成涂布基材背面与平台的刮伤、压伤以及脏污的问题。为了给使被夹持在两个夹持部上的光学膜基材提供精确的平整性，以保证涂布的过程中薄膜的受力均匀性，本实施例中的涂布装置10还包括张紧结构，张紧结构设置在主体11上，光学膜基材抵接在张紧结构上，工作时，通过张紧结构张紧光学膜基材，以使光学膜基材的平整性能提升。

参见图1所示，具体来说，本实施例中的张紧结构包括安装座13和张紧辊14，其中，安装座13设置在主体11上；张紧辊14可转动地设置在安装座13上，张紧辊14抵接在光学膜基材的下方，工作时，通过张紧辊14抵接在光学膜基材的下方，通过张紧辊14的滚动有效地避免了光学膜基材张紧的过程中发生摩擦损坏，其中张紧辊的直径优选为10mm，其中，在另一实施例中，张紧辊14也可为固定的。

为了进一步地提高对光学膜基材的张紧效果，使其更加平整，本实施例中的张紧结构为两个，两个张紧结构均设置在两个夹持部12之间，并分别设置在主体11的两端。工作时，两个夹持部12分别夹持光学膜基材的两端，且两个张紧结构分别对光学膜基材的两端进行张紧，提供精确的平整特性保证涂布的过程中薄膜受力的均匀性，从而使光学膜基材被平整的张开并悬空，从而保证涂布厚度的稳定。

具体来说，本实施例中的夹持部12包括夹持件和气缸，夹持件具有夹持光学膜基材的夹持位置及释放光学膜基材的释放位置；气缸与夹持件驱动连接，气缸用于驱动夹持件在夹持位置与释放位置之间切换。当然，本实施例中的夹持部中的动力机构也可为电机或液压缸，只要是能够实现对本实施例中的夹持件的驱动即可。本实施例中的夹持件可以为具有传动机构的夹持横片，也可为夹持爪等。

为了便于安装，本实施例中的夹持部12还包括基座，基座内部设置有安装腔，夹持件与气缸设置在安装腔中。

为了对涂布完成的光学膜基材进行悬空干燥，防止其在干燥过程中发生摩擦，本实施例中的光学膜基材涂布系统还包括涂布线棒和干燥装置20，其中，涂布线棒用于对安装在涂布装置10上的光学膜基材进行涂布；干燥装置20用于盛放从涂布装置10上取下的涂布完成的光学膜基材。

参见图2所示，本实施例中的干燥装置20包括两个固定板21和两个固定杆22，两个固定板21间隔设置，固定杆22的两端分别连接在两个固定板21上，两个固定杆22与两个固定板21围设形成支撑架，涂布装置10上取下的涂布完成的光学膜基材盛放在支撑架上，其中，本实施例中的支撑架优选为300mm乘以450mm。当通过涂布线棒将涂布装置上的光学膜基材的两面涂布完成后，工作人员将该光学膜基材放置在支撑架上，以进行干燥。

为了防止光学膜基材从支撑架上脱落，本实施例中的干燥装置20还包括压紧部，压紧部可移动地设置在固定板21上，以与固定杆22配合压紧涂布装置10上取下的涂布完成的光学膜基材。

本实施例中的压紧部包括：两个压紧杆23，两个压紧杆23分别可移动地设置在两个固定杆22的上方，两个压紧杆23分别与两个固定杆22配合，以压住涂布装置10上取下的涂布完成的光学膜基材的两端。其中，固定板上设置有由上至下的导向槽，压紧杆可移动地安装在导向槽中，以对不同厚度的光学膜基材进行压紧。当然，本实施例中的压紧杆也可通过其他方式压紧光学膜基材，如在固定板上自上致下设置多个安装孔，通过和不同安装孔的配合使压紧杆对不同厚度的光学膜基材进行压紧。

从以上的描述中，可以看出，本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果：

由于本实用新型中的光学膜基材涂布系统包括涂布装置，且涂布装置包括两个夹持部，通过两个夹持部分别对光学膜基材的两侧进行夹持，使光学膜基材悬空固定，从而实现悬空涂布，避免了现有技术涂布过程中，易造成涂布基材背面与平台的刮伤、压伤以及脏污的问题。

由于本实用新型中的光学膜基材涂布系统包括涂布装置，且涂布装置包括两个夹持部，通过两个夹持部分别对光学膜基材的两侧进行夹持，使光学膜基材悬空固定，从而实现悬空涂布，避免了现有技术涂布过程中，易造成涂布基材背面与平台的刮伤、压伤以及脏污的问题。

应该指出，上述详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的术语在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。

例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

在上面详细的说明中，参考了附图，附图形成本文的一部分。在附图中，类似的符号典型地确定类似的部件，除非上下文以其他方式指明。在详细的说明书、附图及权利要求书中所描述的图示说明的实施方案不意味是限制性的。在不脱离本文所呈现的主题的精神或范围下，其他实施方案可以被使用，并且可以作其他改变。将容易理解的是，如本文一般所描述的及附图所图示说明的，本公开的方面可以在广泛种类的不同的配置中被编排、代替、组合、分开以及设计，所有这些在本文被明确地考虑。

根据本申请所描述的特定实施方案的本公开将不受限制，其被意图作为各种方面的图示说明。如对本领域技术人员将是清晰的那样，在不脱离本公开的精神和范围下可以作许多修改和变更。在本公开范围内，功能上等同的方法和设备，除了本文所列举的那些之外，从前述说明书来看对本领域技术人员将是清晰的。这样的修改和变更意图落入所附权利要求书的范围内。本公开将仅由所附权利要求书的条款以及这样的权利要求所给予权利的等同物的全部范围限制。将理解的是，本公开不限于特定的方法、试剂、化合物、组成或生物系统，其当然可以变化。也将理解的是，本文所使用的术语仅是出于描述特定的实施方案的目的，而并非意图是限制性的。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。