一种砂磨机的制作方法

本实用新型属于砂磨机领域，特别是涉及一种砂磨机。

背景技术：

卧式砂磨机是连续操作的全密闭式的湿法研磨分散机械，由泵浦输送液体原料进入卧式砂磨机密闭研磨缸内，再由主机推动介子研磨珠高速运转，使原料在狭窄的研磨珠间隙中经加压高速旋转冲击，产生混合、乳化、分散、搓揉、滚动等研磨功能，迅速将物料颗粒磨细和分散聚集体，从而达到原料要求的细度和很窄的粒度分布范围。研磨后再由高速旋转的坚硬钨钢分离隙缝输出研磨缸外，而研磨珠仍被留在缸内。为一次循环研磨作业，连续循环研磨细度可达5μm以下。

卧式砂磨机的研磨作业是在全密闭且具有压力的研磨缸内高速运转研磨，因此需要配合空压机为砂磨机提供气源压力，但是由于砂磨机本身不具备调控气压的能力，因此会造成砂磨机进料时的气压不稳定，从而造成物料进入砂磨机的流速不恒定，导致物料砂磨不均匀，进而产生质量不合格的现象。

技术实现要素：

针对上述存在的问题，本实用新型的技术目的在于提供一种砂磨机。

本实用新型通过以下技术方案实现：

一种砂磨机，包括进料稳定装置，所述进料稳定装置包括安装在砂磨机进料端的圆柱体形的容器，所述容器的容积为进料量的5～10倍；还包括机体、设有机体上的具有内筒与外筒的筒形研磨部件及用于驱动研磨部件的电机，所述内筒与外筒之间形成有冷却腔体，外筒的两端分别设有冷却介质进口及冷却介质出口；研磨部件靠近电机侧设有进料口，远离电机的端部设有出料口，出料口配合安装有温度计；出料口的下部设有放砂口；出料口下部还设有支板；机体上还设有用于冷却研磨部件上的机械密封的冷却油罐。

本实用新型的砂磨机的进料稳定装置，所述容器上配合安装有用于测量容器内压力的压力表。

本实用新型的砂磨机的进料稳定装置，所述进料稳定装置安装在砂磨机进料端与隔膜泵之间。

由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是:

本实用新型的砂磨机进料稳定装置能够自身调节气源压力和进料的流速大小，保证输送到砂磨机内部的压力更加稳定，物料流速更加均匀，砂磨机的进料和砂磨也稳定。

附图说明

图1是进料稳定装置结构图；

图2是砂磨机结构图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作详细描述。

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

实施例一：

如图1所示的砂磨机的进料稳定装置，包括进料稳定装置，所述进料稳定装置包括安装在砂磨机进料端的圆柱体形的容器01，所述容器01的容积为进料流量的5～10倍，优先为，所述容器01的容积为进料流量的6～8倍。

所述容器01上配合安装有用于测量容器内压力的压力表02。

所述容器01为不锈钢材质构造而成，优选为304不锈钢。

所述进料稳定装置安装在砂磨机进料端与隔膜泵03之间。

一种砂磨机，如图2所示，砂磨机的进料端设有上述结构的进料稳定装置。该砂磨机还包括机体11、设有机体11上的具有内筒与外筒的筒形研磨部件12及用于驱动研磨部件的电机13，所述内筒与外筒之间形成有冷却腔体 14，外筒的两端分别设有冷却介质进口15及冷却介质出口16。

研磨部件12靠近电机侧设有进料口17，远离电机的端部设有出料口18，出料口18配合安装有温度计19。

出料口18的下部设有放砂口20。

出料口18下部还设有支板21，用于支撑外部设备的作用。

机体11上还设有用于冷却研磨部件上的机械密封的冷却油罐22，冷却油罐通过泵及冷却介质输送管与机械密封连接，从而对机械密封降温。

进入隔膜泵的气源压力推动隔膜泵对物料进行运输，由于气源压力不稳定，导致物料流速不稳定，当进料压力过大，物料流速过大时，稳定装置会将多余的物料吸收至稳定装置中，使得物料流速更加恒定，当进气压力减小时，稳定装置终端物料会及时补充，起到恒定物料流速的作用。

因此，本申请的实用新型的砂磨机进料稳定装置能够使得物料进料更加稳定，提高物料的生产质量，且该砂磨机结构新颖，砂磨效率高。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专利的技术人员在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述提示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型方案的范围内。