技术总结
本实用新型涉及半导体器件制造技术领域，且公开了一种水性蚀刻光阻剂脱气泡装置，包括顶端开口的除泡罐和真空泵，除泡罐的侧壁顶端固定连通有气管，气管远离除泡罐的一端与真空泵的进气端固定连通，除泡罐的外侧壁顶端螺纹连接有罐盖，除泡罐的顶部开设有环形的安装槽，安装槽的内部嵌设有与安装槽相匹配的橡胶圈，罐盖的内顶部开设有环形的容纳槽，橡胶圈的顶端延伸至容纳槽的内部，橡胶圈的顶部与容纳槽的内顶部相抵，且橡胶圈的内侧壁和外侧壁分别与容纳槽的两个内侧壁相抵，罐盖的顶部固定连通有进料管，除泡罐的底部固定连通有出料管。本实用新型能够有效地对光阻剂进行脱气泡，且有效地避免了光阻剂在倒出时会洒落的问题。
技术研发人员：钟水英;何伟富;何伟豪
受保护的技术使用者：广州森川合成材料有限公司
技术研发日：2019.01.29
技术公布日：2019.11.08