一种杂环化合物生产用温控装置的制作方法

本实用新型涉及杂环化合物技术领域，具体为一种杂环化合物生产用温控装置。

背景技术：

杂环化合物(heterocycliccompounds)是分子中含有杂环结构的有机化合物。构成环的原子除碳原子外，还至少含有一个杂原子。是数目最庞大的一类有机化合物。最常见的杂原子是氮原子、硫原子、氧原子。可分为脂杂环、芳杂环两大类。杂环化合物普遍存在于药物分子的结构之中。杂环化合物环状有机化合物中，构成环的原子除碳原子外还有其他原子时，这类环状有机化合物叫作杂环化合物。非碳原子称为杂原子。最常见的杂原子是氧、硫和氮，杂环上可以有一个杂原子，也可以有两个或更多个杂原子，杂原子可以是--种原子，也可以是两种不同的原子。和环烷烃一样，杂环也可以分为脂杂环和芳杂环两大类。一般来说，芳杂环的环系都有一定程度的稳定性和芳香性，在一般化学反应中，环不易破裂。

在杂环化合物生产中，需要对温度进行控制，以便于更好的加工生产。为此，我们提出一种杂环化合物生产用温控装置。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种杂环化合物生产用温控装置，通过在反应器的外部设置真空箱，在真空箱的底部和外部设置加热盘管和盘管，便于对反应器进行加热和冷却，便于根据操作的需要进行控制温度，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种杂环化合物生产用温控装置，包括反应器和控温箱，所述反应器的外部安装有真空箱，所述真空箱的底部安装有加热盘管，所述真空箱的外部缠绕有盘管，所述盘管的两端分别连通有进液管、冷媒进管和出液管，所述进液管通过水泵与控温箱相连通，所述控温箱中安装有水温调节器，所述真空箱的内部安装有温度传感器。

优选的，所述控温箱中安装有液位器。

优选的，所述出液管上安装有阀门。

优选的，所述反应器与真空箱之间固定连接有固定柱。

优选的，所述加热盘管的外部安装有防护罩。

优选的，所述控温箱的一侧连通有补水管。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过在反应器的外部设置真空箱，在真空箱的底部和外部设置加热盘管和盘管，便于对反应器进行加热和冷却，便于根据操作的需要进行控制温度；

2、本实用新型通过水温调节器控制控温箱中的水温，通过水泵将控温箱中的水抽入到盘管中，有利于对反应器进行保温。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型真空箱的剖面结构示意图；

图3为本实用新型控温箱的剖面结构示意图。

图中：1反应器、2真空箱、3加热盘管、4温度传感器、5盘管、6冷媒进管、7出液管、8固定柱、9防护罩、10进液管、11控温箱、12水温调节器、13水泵、14补水管、15液位器、16阀门。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1～3，本实用新型提供一种技术方案：一种杂环化合物生产用温控装置，包括反应器1和控温箱11，所述反应器1的外部安装有真空箱2，所述真空箱2的底部安装有加热盘管3，所述真空箱2的外部缠绕有盘管5，所述盘管5的两端分别连通有进液管10、冷媒进管6和出液管7，该冷媒进管6便于冷媒介质通入到盘管5中，进行冷却，所述进液管10通过水泵13与控温箱11相连通，所述控温箱11中安装有水温调节器12，所述真空箱2的内部安装有温度传感器4，该温度传感器4有利于监测真空箱2中的温度。

具体的，所述控温箱11中安装有液位器15。该液位器15有利于控制控温箱11中的水位，可以及时补水。

具体的，所述出液管7上安装有阀门16。该阀门16便于控制盘管5中的保温水、冷媒介质排出。

具体的，所述反应器1与真空箱2之间固定连接有固定柱8。该固定柱8有利于提高真空箱2的稳定性，防止温度过高真空箱2发生形变。

具体的，所述加热盘管3的外部安装有防护罩9。该防护罩9将加热盘管3保护起来，防止造成意外伤害。

具体的，所述控温箱11的一侧连通有补水管14。该补水管14便于对控温箱11中进行补水。

工作原理：使用时，将生产杂环化合物的原料放入到反应器1中，根据实际操作的需要，通过真空箱2的底部和外部的加热盘管3和盘管5，对反应器1进行加热和冷却，便于根据操作的需要进行控制温度；通过水温调节器12控制控温箱11中的水温，通过水泵13将控温箱11中的水抽入到盘管5中，有利于对反应器1进行保温，有利于杂环化合物的生产。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。