一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴的制作方法

本实用新型涉及喷嘴技术领域，尤其涉及一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴。

背景技术：

粉末喷涂是一种应用广泛的喷涂技术，其工作过程主要是将粉末通过喷嘴均匀离散的喷入静电场中，通过静电场的作用将粉末吸附在工件表面，然后吸附的粉末经过高温烘烤、固化，并最终形成涂层；

目前的氧乙炔火焰粉末喷嘴为一体式结构，加工难度大，钻孔不容易，并且火焰不集中而导致加热分散，喷涂效率低，沉附效果差。

技术实现要素：

(一)发明目的

为解决背景技术中存在的技术问题，本实用新型提出一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴，优化了喷嘴形式，火焰集中，热效应好，粉末融化均匀，能够使涂覆更加均匀，喷涂效率高，并且降低了原材料和辅料的消耗，减轻了生产成本。

(二)技术方案

为解决上述问题，本实用新型提出了一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴，包括喷嘴本体和喷嘴座；

喷嘴座上竖直设置固定孔，喷嘴本体底端插入固定孔内，且喷嘴本体的底端端面与喷嘴座的底端端面处在同一水平面上；

喷嘴本体上竖直设置喷孔；喷嘴本体包括第一连接件、第二连接件和第三连接件；第三连接件位于第一连接件的上方，且第三连接件与第一连接件通过第二连接件连接；第一连接件外周面竖直设置第一凹槽；第三连接件上竖直设置通孔，第二连接件上竖直设置第二凹槽，且通孔与第二凹槽连通；

喷嘴座包括第一固定件和第二固定件；第一固定件位于第二固定件下方；第三连接件底部压住第二固定件。

优选的，第三连接件的外径与第二固定件的外径相同。

优选的，喷孔的内径小于其两端开口的孔径。

优选的，第一凹槽的数目为多组，且围绕第一连接件呈环形阵列分布。

优选的，第一凹槽中部的宽度大于其两端的宽度。

优选的，通孔的数目为多组，且通孔围绕第三连接件的圆心呈环形阵列分布。

本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果：

优化了喷嘴形式，火焰集中，热效应好，粉末融化均匀，能够使涂覆更加均匀，喷涂效率高，并且降低了原材料和辅料的消耗，减轻了生产成本。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴的结构示意图。

图2为本实用新型提出的一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴的主视图。

图3为本实用新型提出的一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴中第三连接件的俯视图。

图4为本实用新型提出的一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴中第一连接件的仰视图。

附图标记：1、喷嘴本体；2、喷嘴座；3、第一连接件；4、第二连接件；5、第三连接件；6、第一固定件；7、第二固定件；8、固定孔；9、喷孔；10、第一凹槽；11、通孔；12、第二凹槽。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。

如图1-4所示，本实用新型提出的一种用于耐磨材料喷涂的喷嘴，包括喷嘴本体1和喷嘴座2；

喷嘴座2上竖直设置固定孔8，喷嘴本体1底端插入固定孔8内，且喷嘴本体1的底端端面与喷嘴座2的底端端面处在同一水平面上；

喷嘴本体1上竖直设置喷孔9；喷嘴本体1包括第一连接件3、第二连接件4和第三连接件5；第三连接件5位于第一连接件3的上方，且第三连接件5与第一连接件3通过第二连接件4连接；第一连接件3外周面竖直设置第一凹槽10；第一凹槽10的数目为多组，且围绕第一连接件3呈环形阵列分布；

第三连接件5上竖直设置通孔11，第二连接件4上竖直设置第二凹槽12，且通孔11与第二凹槽12连通；通孔11的数目为多组，且通孔11围绕第三连接件5的圆心呈环形阵列分布；

喷嘴座2包括第一固定件6和第二固定件7；第一固定件6位于第二固定件7下方；第三连接件5底部压住第二固定件7。

在一个可选的实施例中，第三连接件5的外径与第二固定件7的外径相同。

在一个可选的实施例中，喷孔9的内径小于其两端开口的孔径。

在一个可选的实施例中，第一凹槽10中部的宽度大于其两端的宽度。

本实用新型中，喷嘴本体1插入喷嘴座2中，第三连接件5底端端面压在第二固定件7上；第一凹槽10竖直设置并围绕第一连接件3呈环形阵列分布；第三连接件5上竖直设置通孔11，第二连接件4上竖直设置第二凹槽12，且通孔11与第二凹槽12连通，通孔11围绕第三连接件5的圆心呈环形阵列分布；喷嘴本体1上竖直设置喷孔9，使用时粉末从喷孔9中喷出；

将喷嘴本体1与喷嘴座2分开，采用分体集块式结构，优化了喷嘴形式，火焰集中，热效应好，粉末融化均匀，能够使涂覆更加均匀，喷涂效率高，并且降低了原材料和辅料的消耗，减轻了生产成本。

应当理解的是，本实用新型的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本实用新型的原理，而不构成对本实用新型的限制。因此，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。此外，本实用新型所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。