一种低温等离子UV光解一体化设备的制作方法

本实用新型涉及废气处理技术领域，具体为一种低温等离子uv光解一体化设备。

背景技术：

废气处理主要是指针对工业场所产生的工业废气诸如粉尘颗粒物、烟气烟尘、异味气体、有毒有害气体进行治理的工作。常见的废气处理有工厂烟尘废气净化、车间粉尘废气净化、有机废气净化、废气异味净化、酸碱废气净化、化工废气净化等。常用的方法有：水吸收法、曝气式活性污泥脱臭法、多介质催化氧化工艺，由于废气对空气的污染非常严重，因此，对于化工厂的废气处理环保部门制定了严格的要求，要求各工厂处理达标后才能进行排放。

经检索，专利公告号为cn208436662u公开了低温等离子uv光解一体机，包括进气管、设备主体、排风管、低温等离子电场区、uv紫外光束区、臭氧氧化区，所述进气管设置在设备主体前端，通过设置在其一侧的连接法兰与设备主体固定连接。

现有技术中低温等离子uv光解一体机所具有的缺点不足：

1.该设备的净气效果不好，处理不完善，易存仔杂物残留，低温等离子电场区的内部缺少搅拌、光催化等机构，不能对废气进行有效处理；

2.该设备缺少废气前期的喷淋过滤机构，影响后续低温等离子的净化操作；

3.该设备缺少进气的气体流量传感机构以及排气的质量检测机构，功能性低。

技术实现要素：

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种低温等离子uv光解一体化设备，解决了设备的净气效果不够好，易存在杂物残留以及其不能检测气体净化质量的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种低温等离子uv光解一体化设备，包括喷淋区、干燥区、等离子处理区、uv光束处理区和基板，所述喷淋区、干燥区、等离子处理区和uv光束处理区从左至右对应设置于基板的上部，所述干燥区的远离喷淋区的一端安装有干燥器，所述干燥器的另一端与等离子处理区连接，所述干燥区与干燥器之间设置有引气组件，所述等离子处理区的内部从左至右对应设置有搅拌杆、支架和竖板，所述等离子处理区的上端安装有减速电机，所述减速电机与搅拌杆转动连接，所述支架的内部安装有电极，所述竖板上依次固定有光催化氧化板，所述光催化氧化板上设置有紫外光发射器，所述等离子处理区的底部设置有冷气管，所述uv光束处理区的内部安装有uv紫外灯管，所述uv紫外灯管之间设置有二氧化钛滤网，所述二氧化钛滤网固定在uv光束处理区的内壁上。

优选的，所述喷淋区的内部上下对应设置有喷淋头和填料，所述喷淋区的底部连接有进气管，且进气管上安装有气体流量计。

优选的，所述uv光束处理区的底部安装有出气风机，所述出气风机外接有出气管，且出气管上安装有气体质量传感器，所述基板的上端安装有plc控制器，所述气体流量计的输出端及气体质量传感器的输出端与plc控制器的输入端电连接。

优选的，所述基板的下端安装有支腿，且支腿设置有四个。

优选的，所述干燥区的内部安装有吸附层。

优选的，所述喷淋区与导气管之间、干燥器与等离子处理区之间以及等离子处理区与uv光束处理区之间均设置有导气管。

优选的，所述引气组件的内部包括引气泵，以及设置在引气泵上的抽气盘和导气端口，所述导气端口与干燥器贯通连接。

优选的，所述等离子处理区和uv光束处理区的外部包裹有防护壳，且防护壳的下端设置有支撑座，所述支撑座设置有两个，两个所述支撑座均固定在基板上。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种低温等离子uv光解一体化设备，具备以下有益效果：

(1)本实用新型通过设置等离子处理区，本实用新型的处理效果完善，能够对废气进行充分的处理，减少气体中的杂物残留，同时本实用新型在等离子处理区的前部设置干燥器，能够对废气进行干燥处理，便于后续等离子处理区对废气的作业，使其净气效果更好，本实用新型在等离子处理区的内部设置了气体搅拌机构、等离子发生机构以及光催化氧化机构，可以对废气进行搅拌和低温等离子处理，其次本装置还可以对气体中的有害物质进行裂解，便于后续的处理。

(2)本实用新型通过设置喷淋区和干燥区，本实用新型设置了废气的喷淋机构和干燥机构，首先通过喷淋过滤的作用去除掉气体中含有的大颗粒杂质，之后在干燥区的内部进行干燥处理，干燥区的内部设置有吸附层和干燥器，可以对气体进行充分干燥。

(3)本实用新型通过设置气体流量计、plc控制器和气体质量传感器，本实用新型设置了进气的进气量检测机构以及出气的气体质量传感机构，便于工作人员观察操作。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中等离子处理区的内部结构示意图；

图3为本实用新型中引气组件的结构示意图。

图中附图标记为：1、喷淋区；2、导气管；3、干燥区；4、引气组件；5、干燥器；6、防护壳；7、等离子处理区；8、uv光束处理区；9、二氧化钛滤网；10、uv紫外灯管；11、出气风机；12、喷淋头；13、填料；14、气体流量计；15、进气管；16、基板；17、吸附层；18、plc控制器；19、支撑座；20、支腿；21、出气管；22、气体质量传感器；23、冷气管；24、支架；25、竖板；26、光催化氧化板；27、紫外光发射器；28、电极；29、减速电机；30、搅拌杆；31、引气泵；32、抽气盘；33、导气端口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1-3所示，本实用新型提供一种技术方案：一种低温等离子uv光解一体化设备，包括喷淋区1、干燥区3、等离子处理区7、uv光束处理区8和基板16，基板16的下端安装有支腿20，且支腿20设置有四个，起到支撑作用，喷淋区1、干燥区3、等离子处理区7和uv光束处理区8从左至右对应设置于基板16的上部，喷淋区1的内部上下对应设置有喷淋头12和填料13，能够过滤掉气体中含有的大颗粒杂物，喷淋区1的底部连接有进气管15，且进气管15上安装有气体流量计14，气体流量计14的型号为nk-fs4001，干燥区3的远离喷淋区1的一端安装有干燥器5，干燥区3的内部安装有吸附层17，采用棉纱及海绵材料复合而成，且干燥器5的另一端与等离子处理区7连接，干燥区3与干燥器5之间设置有引气组件4，引气组件4的内部包括引气泵31，以及设置在引气泵31上的抽气盘32和导气端口33，导气端口33与干燥器5贯通连接，等离子处理区7的内部从左至右对应设置有搅拌杆30、支架24和竖板25，搅拌杆30的设置更便于气体的处理，等离子处理区7的上端安装有减速电机29，减速电机29与搅拌杆30转动连接，支架24的内部安装有电极28，竖板25上依次固定有光催化氧化板26，光催化氧化板26上设置有紫外光发射器27，等离子处理区7的底部设置有冷气管23，喷淋区1与导气管2之间、干燥器5与等离子处理区7之间以及等离子处理区7与uv光束处理区8之间均设置有导气管2，等离子处理区7和uv光束处理区8的外部包裹有防护壳6，且防护壳6的下端设置有支撑座19，支撑座19设置有两个，两个支撑座19均固定在基板16上，uv光束处理区8的内部安装有uv紫外灯管10，uv紫外灯管10之间设置有二氧化钛滤网9，二氧化钛滤网9固定在uv光束处理区8的内壁上，uv光束处理区8的底部安装有出气风机11，出气风机11外接有出气管21，且出气管21上安装有气体质量传感器22，气体质量传感器22的型号为zz-s-tvoc-a，基板16的上端安装有plc控制器18，plc控制器18的型号为s7-300，气体流量计14的输出端及气体质量传感器22的输出端与plc控制器18的输入端电连接。

工作原理：使用时，废气通过进气管15进入喷淋区1的内部，引气组件4能够检测出废气的进气速度，将信号传递给plc控制器18，便于工作人员查看操作，进入喷淋区1之后的气体在填料13的作用下发生过滤，去除掉内部大部分的颗粒物，经过导气管2进入干燥区3,干燥区3内部有吸附层17及引气组件4，吸附层17可以初步吸附掉气体中的水蒸气，通过引气组件4进入干燥器5,干燥器5对气体进行二次干燥处理，处理之后的气体进入到等离子处理区7的内部，通过冷气管23通入冷气，减速电机29带动搅拌杆30转动，对气体进行搅拌处理，电极28产生等离子体，同时紫外光发射器27催化光催化氧化板26产生催化因子，裂解气体中的有害物质，将处理之后的气体进入到uv光束处理区8，通过二氧化钛滤网9和uv紫外灯管10处理，并且同时出气管21排出。

综上可得，本实用新型通过设置喷淋区1、干燥区3、引气组件4、干燥器5、等离子处理区7、uv光束处理区8、气体流量计14、plc控制器18以及气体质量传感器22，解决了设备的净气效果不够好，易存在杂物残留以及其不能检测气体净化质量的问题。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。