技术特征：
1.一种气体处理方法，其具有：使至少包含二氧化碳和氮的原料气体通过容纳有吸附二氧化碳的吸附材料的吸附部，降低所述原料气体中的二氧化碳浓度的吸附工序；将通过所述吸附工序而降低了二氧化碳浓度的所述原料气体供给至生成有机物质的有机物质生成装置的供给工序；以及对通过所述吸附部之前或之后的所述原料气体中的二氧化碳浓度和氮浓度或者供给至所述有机物质生成装置的二氧化碳浓度和氮浓度进行测定的监测工序，在所述监测工序中监测得到的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度超过阈值的情况下，所述吸附工序具有提高所述吸附部降低所述原料气体中的二氧化碳浓度的能力的能力调整工序。2.根据权利要求1所述的气体处理方法，其中，所述吸附工序中使用的所述吸附部包含第1吸附部和第2吸附部，所述第1吸附部和第2吸附部交替进行使二氧化碳被吸附材料吸附的吸附处理和放出被吸附材料吸附的二氧化碳的再生处理，在监测工序中监测得到的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度超过阈值的情况下，所述能力调整工序缩短所述第1吸附部和所述第2吸附部交替进行的所述吸附处理和所述再生处理的切换周期。3.根据权利要求1或2所述的气体处理方法，其中，所述吸附工序中使用的所述吸附部包含第1吸附部和第2吸附部，所述第1吸附部和第2吸附部交替进行使二氧化碳被吸附材料吸附的吸附处理和放出被吸附材料吸附的二氧化碳的再生处理，在监测工序中监测得到的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度超过阈值的情况下，所述能力调整工序降低供给至包含所述第1吸附部和所述第2吸附部的所述吸附部的原料气体的流量。4.根据权利要求1～3中任一项所述的气体处理方法，其中，所述原料气体为进一步包含氢和一氧化碳的合成气体。5.根据权利要求4所述的气体处理方法，其中，所述有机物质以一氧化碳和氢为原料而生成。6.根据权利要求1～5中任一项所述的气体处理方法，其中，所述吸附工序通过压力摆动吸附方式来降低所述原料气体中的二氧化碳浓度。7.一种气体处理装置，其为至少包含二氧化碳和氮的原料气体的气体处理装置，其中，所述气体处理装置具有：具有容纳有吸附二氧化碳的吸附材料的吸附部、将所述原料气体导入所述吸附部的导入部以及将所述原料气体从所述吸附部导出的导出部，并且降低所述原料气体中的二氧化碳浓度的吸附装置；将通过所述吸附装置而降低了二氧化碳浓度的所述原料气体供给至生成有机物质的有机物质生成装置的供给装置；对通过所述吸附部之前或之后的所述原料气体中的二氧化碳浓度和氮浓度进行测定的监测部；以及
在通过所述监测部测定得到的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度超过阈值的情况下，以提高所述吸附部降低所述原料气体中的二氧化碳浓度的能力的方式，对所述吸附部、所述导入部或所述导出部进行控制的控制部。8.根据权利要求7所述的气体处理装置，其中，所述吸附装置的所述吸附部包含第1吸附部和第2吸附部，所述第1吸附部和第2吸附部交替进行使二氧化碳被吸附材料吸附的吸附处理和放出被吸附材料吸附的二氧化碳的再生处理，在通过所述吸附部之前或之后的所述原料气体中的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度或者供给至所述有机物质生成装置的所述原料气体中的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度超过阈值的情况下，所述控制部缩短所述第1吸附部和所述第2吸附部交替进行的所述吸附处理和所述再生处理的切换周期。9.根据权利要求7或8所述的气体处理装置，其中，所述吸附装置的所述吸附部包含第1吸附部和第2吸附部，所述第1吸附部和第2吸附部交替进行使二氧化碳被吸附材料吸附的吸附处理和放出被吸附材料吸附的二氧化碳的再生处理，在通过所述吸附部之前或之后的所述原料气体中的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度或者供给至所述有机物质生成装置的所述原料气体中的二氧化碳浓度和氮浓度的总浓度超过阈值的情况下，所述控制部降低供给至包含所述第1吸附部和所述第2吸附部的所述吸附部的原料气体的流量。10.根据权利要求7～9中任一项所述的气体处理装置，其中，所述吸附部通过压力摆动吸附方式来降低所述原料气体中的二氧化碳浓度。