1.一种致密石英坩埚高纯涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：致密层浆料的制备；
称取一定量的纯度大于99.99％的高纯石英砂，其中晶态石英砂重量占比10％～30％，加入去离子水，在球磨机中研磨，磨制成粒径d50范围为3～10μm，粒径d90范围为10～40μm的石英浆料；取出后再加入硅溶胶和陶瓷粘结剂置于搅拌机中进行均匀搅拌；最后，对搅拌后的浆料进行过滤处理，再放置于均化箱内均化4小时以上，得到备用的致密层浆料；其中，石英砂：硅溶胶：去离子水：陶瓷粘结剂的重量配比比例为100：8～15：20～40：1～3；
步骤二：疏松层浆料的制备；
称取一定量的纯度大于99.99％的高纯石英砂，其中晶态石英砂重量占比30％～50％，加入去离子水，在球磨机中研磨，磨制成粒径d50范围为10～30μm，粒径d90范围为60～140μm的石英浆料；取出后再加入硅溶胶和陶瓷粘结剂置于搅拌机中进行均匀搅拌；最后，对搅拌后的浆料进行过滤处理，再放置于均化箱内均化4小时以上，得到备用的疏松层浆料；其中，石英砂：硅溶胶：去离子水：陶瓷粘结剂的重量配比比例为100：8～15：15～30：1～3；
步骤三：保护层浆料的制备；
称取一定量的纯度大于99.99％的高纯石英砂，其中晶态石英砂重量占比30％～50％，加入去离子水，在球磨机中研磨，磨制成粒径d50范围为3～10μm，粒径d90范围为10～40μm的石英浆料；取出后再添加适量的降氧剂置于搅拌机中进行均匀搅拌；最后，对搅拌后的浆料进行过滤处理，再放置于均化箱内均化4小时以上，得到备用的保护层浆料；其中，石英砂：去离子水：降氧剂的重量配比比例为100：30～50：15～30；
步骤四：基体表面处理；
对需要制备高纯涂层的坩埚基体或者高纯基体进行表面润湿处理；
步骤五：涂敷致密层；
对于坩埚基体或者高纯基体中硅液线以下的区域，在表面充分润湿后，采用致密层浆料进行致密层涂刷，使用量为800±50g/m2，在涂敷过程中确保在涂层表面无明显料浆流动痕迹；
步骤六：涂敷疏松层；
对于坩埚基体或者高纯基体中硅液线以下区域，在完成致密层涂刷后，采用疏松层浆料进行疏松层涂刷，使用量为1000±50g/m2；
步骤七：涂层烘干；
将涂覆完成后的坩埚基体或者高纯基体置于80～200℃烘干窑中烘干1～3h；
步骤八：涂敷保护层；
对于坩埚基体或者高纯基体中硅液线以下区域，在完成烘干处理后，采用保护层浆料进行保护层涂刷，使用量为500±50g/m2。
2.根据权利要求1所述的一种致密石英坩埚高纯涂层的制备方法，其特征在于，硅溶胶为固相质量百分比为20％的中性硅溶胶。
3.根据权利要求1或2所述的一种致密石英坩埚高纯涂层的制备方法，其特征在于，致密层的厚度为0.1～0.4mm，疏松层的厚度为0.5～0.9mm，保护层的厚度为0.1～0.2mm，致密层、疏松层和保护层的整体厚度为0.7～1.5mm。
4.根据权利要求3所述的一种致密石英坩埚高纯涂层的制备方法，其特征在于，所述球磨机为氧化锆球磨机。