一种絮凝剂生产用研磨装置的制作方法

文档序号:23773259发布日期:2021-01-29 23:49阅读:109来源:国知局
一种絮凝剂生产用研磨装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及絮凝剂技术领域,具体是一种絮凝剂生产用研磨装置。


背景技术:

[0002]
污水处理问题日益受到社会的高度重视。随着城市化的进程和工业社会的发展,一方面用水量不断增加,水资源日益紧缺,另一方面,污水排放量日益增多,对环境污染日益严重。水处理中需要使用到絮凝剂,絮凝剂在制备过程中需要使用到研磨装置,但目前市面上使用的研磨装置研磨效率较差,品质较低。


技术实现要素:

[0003]
本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种絮凝剂生产用研磨装置。
[0004]
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种絮凝剂生产用研磨装置,包括研磨罐和研磨锤,其创新点在于:所述研磨罐内部开设研磨腔,所述研磨腔包括上部的圆台腔和下部的v型腔,且两者之间通过倾斜面过渡,所述v型腔底部开设滤孔,所述研磨罐底部设置支撑腿,且支撑腿之间设置集料槽,所述集料槽位于滤孔下方;所述研磨锤通过设置驱动电机进行驱动,所述驱动电机和研磨锤通过设置龙门架悬空设置在研磨罐的研磨腔内,所述研磨锤包括上部的锥形体和下部的v型体,所述锥形体的外围延伸至圆台腔底部外侧内,且锥形体的上表面与圆台腔的上内壁之间的间距由大变小,所述锥形体的下表面与倾斜面之间留有间隙,所述v型体与v型腔相匹配。
[0005]
进一步的,所述支撑腿为液压缸。
[0006]
进一步的,所述研磨罐的左右两侧分别设置滑套,所述滑套套置在龙门架上。
[0007]
进一步的,所述锥形体底部外侧和圆台腔底部外侧均为弧形结构,两者之间的间距由大变小。
[0008]
进一步的,所述驱动电机为伺服电机。
[0009]
采用上述结构后,本实用新型有益效果为:
[0010]
本实用新型结构简单、成本较低、使用方便;通过设置研磨罐和研磨锤能使得物料进行第一次研磨后,自动转换第二次研磨,提高研磨效率和品质;通过设置液压缸可推动研磨腔自由升降调节研磨腔和研磨锤之间的研磨间隙,使得研磨颗粒的大小能够调节,适应不同的研磨需求。
附图说明
[0011]
图1为本实用新型的结构示意图。
[0012]
附图标记说明:
[0013]
1研磨罐、2研磨锤、21锥形体、22 v型体、3研磨腔、31圆台腔、32 v型腔、33倾斜面、34滤孔、4支撑腿、5集料槽、6驱动电机、7龙门架、8滑套。
具体实施方式
[0014]
下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
[0015]
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及具体实施方式,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施方式仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
[0016]
参看图1,一种絮凝剂生产用研磨装置,包括研磨罐1和研磨锤2,研磨罐1内部开设研磨腔3,研磨腔3包括上部的圆台腔31和下部的v型腔32,且两者之间通过倾斜面33过渡,v型腔32底部开设滤孔34,研磨罐1底部设置支撑腿4,且支撑腿4之间设置集料槽5,集料槽5位于滤孔34下方;研磨锤2通过设置驱动电机6进行驱动,驱动电机6和研磨锤2通过设置龙门架7悬空设置在研磨罐1的研磨腔3内,研磨锤2包括上部的锥形体21和下部的v型体22,锥形体21的外围延伸至圆台腔底部外侧内,且锥形体的上表面与圆台腔的上内壁之间的间距由大变小,锥形体21的下表面与倾斜面之间留有间隙,v型体22与v型腔32相匹配。具体的,物料从研磨腔3进入后,沿着锥形体21上表面落入到圆台腔31和锥形体21之间的间隙中,通过驱动电机6带动研磨锤2进行旋转,对物料进行第一次研磨,物料研磨后从倾斜面33落入v型腔32,进行第二次研磨,最终从滤孔34落入集料槽5中。
[0017]
本实施例中,支撑腿4为液压缸,可自由升降调节研磨腔和研磨锤之间的研磨间隙,使得研磨颗粒的大小能够调节,适应不同的研磨需求。
[0018]
本实施例中,研磨罐1的左右两侧分别设置滑套8,滑套8套置在龙门架7上。滑套8配合液压缸进行上下运动,提高稳定性。
[0019]
本实施例中,锥形体底部外侧和圆台腔底部外侧均为弧形结构,两者之间的间距由大变小,此处用于物料的研磨。
[0020]
本实施例中,驱动电机6为伺服电机。可以根据需求设置旋转速度以适应不同的大小的颗粒,提高实用性和灵活性。
[0021]
本实用新型的工作原理:
[0022]
物料从研磨腔3进入后,沿着锥形体21上表面落入到圆台腔31和锥形体21之间的间隙中,通过驱动电机6带动研磨锤2进行旋转,对物料进行第一次研磨,物料研磨后从倾斜面33落入v型腔32,进行第二次研磨,最终从滤孔34落入集料槽5中。
[0023]
以上所述,仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制,本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案所做的其它修改或者等同替换,只要不脱离本实用新型技术方案的精神和范围,均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
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