一种混合均匀的纳米硅烷生产反应釜的制作方法

[0001]
本实用新型涉及反应釜技术领域，具体为一种混合均匀的纳米硅烷生产反应釜。


背景技术：

[0002]
硅烷技术是以有机硅烷为主要原料对金属或非金属材料进行表面处理的过程，它与传统磷化、铬化等工艺相比具有多个优点：不含有害重金属离，当在硅烷中添加量纳米粒子达到一定数量时，膜的耐蚀性和疏水性都有明显提高，膜有更高的硬度和厚度，在适宜的条件下，粒子的分布很均匀，形成粗糙的表面，有利于后续有机涂层的固定，纳米硅烷的生产需要使用到反应釜。
[0003]
现今市场上的此类反应釜种类繁多，基本可以满足人们的使用需求，但是依然存在一定的不足之处，具体问题有以下几点：
[0004]
（1）现有的此类反应釜在使用时其搅拌效果较为一般，纳米硅烷容易在釜体底部沉积，导致纳米硅烷混合的不够均匀，因此存在改进的空间；
[0005]
（2）现有的此类反应釜在使用时通常不便对反应釜进行清洗，因此其内部残留的纳米硅烷容易影响后续的生产工作；
[0006]
（3）现有的此类反应釜在使用时通常容易由于加热不均导致纳米硅烷局部糊化，因此影响了纳米硅烷的生产质量。


技术实现要素：

[0007]
本实用新型的目的在于提供一种混合均匀的纳米硅烷生产反应釜，以解决上述背景技术中提出反应釜在使用时混合不够均匀，反应釜不便清洗和加热不够均匀的问题。
[0008]
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种混合均匀的纳米硅烷生产反应釜，包括釜体、防沉积机构、转杆、环形水管和加热管，所述釜体的内部设置有转杆，且转杆两侧的外壁上皆焊接有等间距的搅拌杆，并且搅拌杆下方的釜体底部设置有防沉积机构，所述釜体一侧的内壁上固定有温度传感器，所述釜体底端的拐角位置处皆固定有支脚，且釜体顶端的中心位置处固定有伺服电机，并且伺服电机的输出端通过联轴器固定有转轴，转轴的底端延伸至釜体的内部并与转杆的顶端固定连接，所述伺服电机一侧的釜体顶端固定有进水管，进水管的一端延伸至釜体的内部，且釜体远离进水管一侧的釜体顶端固定有进料口，所述釜体底端的中心位置处固定有出料口。
[0009]
优选的，所述釜体的顶部固定有环形水管，环形水管与进水管相连通，且环形水管的底端皆固定有等间距的喷头，喷头与环形水管相连通，便于对釜体的内壁进行冲洗。
[0010]
优选的，所述釜体的外壁上套装有壳套，且壳套的内壁上皆设置有等间距的第一弧槽，便于对加热管进行安装。
[0011]
优选的，所述防沉积机构的内部依次设置有螺纹杆、螺纹块、筛板和限位杆，转杆的底端固定有螺纹杆，且螺纹杆的外壁上螺纹连接有螺纹块，用于筛板的驱动工作。
[0012]
优选的，所述螺纹块的外壁上固定有筛板，且筛板内部的两侧皆设置有限位杆，限
位杆的两端皆延伸至筛板的外部，限位杆的底端与釜体固定连接，便于对釜体底部的物料进行混合。
[0013]
优选的，所述第一弧槽位置处的釜体外壁上设置有第二弧槽，且第二弧槽和第一弧槽的内部固定有加热管，用于纳米硅烷的均匀加热工作。
[0014]
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该混合均匀的纳米硅烷生产反应釜不仅减少了物料的沉积、提高了混合的均匀性，提高了反应釜清洗时的便捷性，而且提高了加热的均匀性；
[0015]
（1）通过设置有螺纹杆、螺纹块、筛板和限位杆，在转杆的正转与反转的过程中，转杆底端的螺纹杆随之同步旋转，在螺纹杆的转动作用下，螺纹块带动筛板上下移动，限位杆对筛板的移动范围进行限制，筛板对釜体底部的物料进行翻拌，从而减少了物料的沉积，进而提高了混合的均匀性；
[0016]
（2）通过设置有进水管、环形水管和喷头，打开阀门将外壁水源通过进水管引入至环形水管的内部，环形水管内部的水通过喷头喷出，由于喷头的喷孔对准釜体的内壁，喷出的水流对釜体的内壁进行冲洗，从而提高了反应釜清洗时的便捷性；
[0017]
（3）通过设置有温度传感器、壳套、第一弧槽、第二弧槽和加热管，壳套内壁上第一弧槽内部的加热管通电产生热量，热量通过第二弧槽传递至釜体的内部，由于加热管为等间距设置，并且温度传感器对釜体内部的温度进行实时监测，从而提高了加热的均匀性。
附图说明
[0018]
图1为本实用新型的正视剖面结构示意图；
[0019]
图2为本实用新型的正视外观结构示意图；
[0020]
图3为本实用新型的图1中a处放大结构示意图；
[0021]
图4为本实用新型的防沉积机构剖视放大结构示意图。
[0022]
图中：1、釜体；2、出料口；3、支脚；4、防沉积机构；401、螺纹杆；402、螺纹块；403、筛板；404、限位杆；5、转杆；6、搅拌杆；7、温度传感器；8、进水管；9、环形水管；10、伺服电机；11、转轴；12、喷头；13、进料口；14、壳套；15、第一弧槽；16、第二弧槽；17、加热管。
具体实施方式
[0023]
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0024]
请参阅图1-4，本实用新型提供的一种实施例：一种混合均匀的纳米硅烷生产反应釜，包括釜体1、防沉积机构4、转杆5、环形水管9和加热管17，釜体1的内部设置有转杆5，且转杆5两侧的外壁上皆焊接有等间距的搅拌杆6，并且搅拌杆6下方的釜体1底部设置有防沉积机构4；
[0025]
防沉积机构4的内部依次设置有螺纹杆401、螺纹块402、筛板403和限位杆404，转杆5的底端固定有螺纹杆401，且螺纹杆401的外壁上螺纹连接有螺纹块402，螺纹块402的外壁上固定有筛板403，且筛板403内部的两侧皆设置有限位杆404，限位杆404的两端皆延伸
至筛板403的外部，限位杆404的底端与釜体1固定连接；
[0026]
在转杆5的正转与反转的过程中，转杆5底端的螺纹杆401随之同步旋转，在螺纹杆401的转动作用下，螺纹块402带动筛板403上下移动，限位杆404对筛板403的移动范围进行限制，筛板403对釜体1底部的物料进行翻拌，从而减少了物料的沉积，进而提高了混合的均匀性；
[0027]
釜体1的顶部固定有环形水管9，环形水管9与进水管8相连通，且环形水管9的底端皆固定有等间距的喷头12，喷头12与环形水管9相连通，便于对釜体1的内壁进行冲洗；
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釜体1的外壁上套装有壳套14，且壳套14的内壁上皆设置有等间距的第一弧槽15，便于对加热管17进行安装；
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第一弧槽15位置处的釜体1外壁上设置有第二弧槽16，且第二弧槽16和第一弧槽15的内部固定有加热管17，用于纳米硅烷的均匀加热工作；
[0030]
釜体1一侧的内壁上固定有温度传感器7，该温度传感器7的型号可为pt100，釜体1底端的拐角位置处皆固定有支脚3，且釜体1顶端的中心位置处固定有伺服电机10，该伺服电机10的型号可为mr-j2s-20a，并且伺服电机10的输出端通过联轴器固定有转轴11，转轴11的底端延伸至釜体1的内部并与转杆5的顶端固定连接，伺服电机10一侧的釜体1顶端固定有进水管8，进水管8的一端延伸至釜体1的内部，且釜体1远离进水管8一侧的釜体1顶端固定有进料口13，釜体1底端的中心位置处固定有出料口2。
[0031]
工作原理：使用时，工作人员首先通过进料口13将纳米硅烷生产所需的物料置入釜体1的内部，其次伺服电机10通电开始工作，伺服电机10通过转轴11驱动转杆5并带动搅拌杆6转动，搅拌杆6对物料进行搅拌，同时，在转杆5的正转与反转的过程中，转杆5底端的螺纹杆401随之同步旋转，在螺纹杆401的转动作用下，螺纹块402带动筛板403上下移动，限位杆404对筛板403的移动范围进行限制，筛板403对釜体1底部的物料进行翻拌，从而减少了物料的沉积，进而提高了混合的均匀性，然后，壳套14内壁上第一弧槽15内部的加热管17通电产生热量，热量通过第二弧槽16传递至釜体1的内部，由于加热管17为等间距设置，并且温度传感器7对釜体1内部的温度进行实时监测，从而提高了加热的均匀性，最后，生产后的纳米硅烷通过出料口2排出，当需要对釜体1进行清洗时，打开阀门将外壁水源通过进水管8引入至环形水管9的内部，环形水管9内部的水通过喷头12喷出，由于喷头12的喷孔对准釜体1的内壁，喷出的水流对釜体1的内壁进行冲洗，从而提高了反应釜清洗时的便捷性，完成混合均匀的纳米硅烷生产反应釜的工作。
[0032]
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。