一种水动力真空抽提式粉尘、VOC处理装置的制作方法

一种水动力真空抽提式粉尘、voc处理装置
技术领域
[0001]
本实用新型涉及处理装置技术领域，尤其涉及一种水动力真空抽提式粉尘、voc处理装置。


背景技术：

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在水性仿石材料生产、造粒过程中会产生大量的粉尘，这些粉尘被排放到大自然中，造成环境空气污染，随着国家环保标准和环境保护要求的提高，对涂料生产行业的粉尘排放要求也越来越高。但现有的粉尘处理装置，设备间组合方式简单，在处理粉尘时，设备之间的联系不紧密，使得粉尘处理不完全，对环境有着较大的危害。所以，设计一种高效、环保、零排放式的粉尘处理装置，成为我们当前要解决的问题。


技术实现要素：

[0003]
本实用新型的目的在于提供一种水动力真空抽提式粉尘、voc处理装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
[0004]
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种水动力真空抽提式粉尘、voc处理装置，包括水箱、高速电机、发生装置和真空罐，所述发生装置呈三通结构，所述高速电机的输入端与水箱侧面的出水口相连接，高速电机的输出端与发生装置的进口相连接，发生装置的出口与水箱的回水口相连接，发生装置的支管入口与真空罐的抽气口相连接。
[0005]
进一步地，所述发生装置包括喷嘴、吸入室、混合室和扩压室，所述喷嘴放置于发生装置的进口处，吸入室的进口与喷嘴相连接，吸入室的出口与混合室入口相连接，混合室的出口与扩压室相连接。
[0006]
进一步地，所述水箱还包括进水口和换气口，进水口和换气口分别放置于水箱顶部。
[0007]
进一步地，所述真空罐还包括回收口和排污口，回收口放置于真空罐顶部，排污口放置于真空罐的底部。
[0008]
进一步地，所述真空罐设置有抽真空压力表，所述抽真空压力表设置在真空罐顶端。
[0009]
本实用新型与现有技术相比，具有的有益效果是：
[0010]
本实用新型操作方便，结构简单紧凑，在使用过程中水箱中的水可以不断循环使用，而且本实用新型无需考虑活性炭固体废料处理要求，真正实现了零排放无污染。
附图说明
[0011]
图1为本实用新型组成结构示意图；
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图中：1、水箱；2、换气口；3、进水口；4、扩压室；5、混合室；6、抽真空压力表；7、回收口；8、真空罐；9、排污口；10、出水口；11、高速电机；12、抽气口；13、吸入室；14、喷嘴；15、回
水口；16、开关盖。
具体实施方式
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下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0014]
如图1所示，一种水动力真空抽提式粉尘、voc处理装置，包括水箱1、高速电机11、发生装置和真空罐8，所述发生装置呈三通结构，所述高速电机11的输入端与水箱1侧面的出水口10相连接，高速电机11的输出端与发生装置的进口相连接，发生装置的出口与水箱1的回水口15相连接，发生装置的支管入口与真空罐8的抽气口12相连接。
[0015]
所述发生装置包括喷嘴14、吸入室13、混合室5和扩压室4，所述喷嘴14放置于发生装置的进口处，与吸入室13的进口相连接，吸入室13的出口与混合室5入口相连接，混合室5的出口与扩压室4相连接，喷嘴14可以是由一个渐缩喷嘴构成的单喷嘴结构，也可以是在一个孔板上开设多个孔口的多喷嘴结构。
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所述水箱1还包括进水口3、换气口2和开关盖16，进水口3、换气口2和开关盖16分别放置于水箱1顶部，通过开关盖16可以随时观察水箱1中水的浑浊程度，以便于及时更换。
[0017]
所述真空罐8还包括回收口7和排污口9，回收口7放置于真空罐8顶部，与产生粉尘、voc的装置相连接，排污口9放置于真空罐8的底部，可以及时排出真空罐8底部的残余污水，所述真空罐8还设置有抽真空压力表6，所述抽真空压力表6设置在真空罐8顶端，抽真空压力表6可以清楚的显示真空罐8内的压力值。
[0018]
工作原理：水箱1中的水在高速电机11的作用下，通过喷嘴14向吸入室13高速喷出，将水的压力能变为动能，形成高速射流；粉尘、voc被高速射流强制携带进入混合室5，形成混合流，之后进入扩压室4，从而使吸入室13与真空罐8内压力降低，形成真空，在扩压室4内，混合射流的动能转变为压力能，速度降低压力升高，粉尘、voc与水一起经回水口15回流到水箱1，水箱1中的水通过高速电机11循环再利用，周而复始达到零排放、无污染的目的。
[0019]
尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。