一种处理含铬检测废液的装置的制作方法

本实用新型涉及废液检测技术领域，尤其涉及一种处理含铬检测废液的装置。

背景技术：

沉淀从字意上理解就是指有一种物质由于密度比它所在的溶剂或溶液大且又不溶于它们从而沉了下去，沉淀操作则是将溶液中的目的产物或主要杂质以无定形固相形式析出再进行分离的单元操作，沉淀法有等电点沉淀法、盐析法、有机溶剂沉淀法等。

在铁矿石检测中需要用到重铬酸钾标准溶液，溶液中会产生含铬废水，通常会对含铬的废水进行沉淀处理然后再向外界排放，当将废水放置在传统的沉淀池中时，当废水中的氢氧化铬沉淀到池底后，对沉淀池上方的液体进行抽样检测时，取样过程中会导致沉淀池中的水再次变得浑浊，从而降低了取样的废水的检测准确性。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种处理含铬检测废液的装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种处理含铬检测废液的装置，包括处理池和调节装置，所述处理池的内部设有调节装置，所述调节装置包括转轴，所述转轴的两端均与处理池的内壁转动连接，所述转轴的圆弧面固定连接有盖布，所述盖布的形状与处理池的内壁形状相适配，所述盖布远离转轴的一端固定连接有连接杆，连接杆彼此远离的两端均固定连接有固定环，所述固定环的圆弧面固定连接有支撑杆，支撑杆远离固定环的一端固定连接有扣板，所述扣板呈“l”形，所述扣板靠近支撑杆的一侧与处理池的上端表面滑动连接，所述扣板远离处理池的一侧固定连接有卡环，所述卡环位于扣板的中部，所述卡环的内壁滑动连接有挂钩，所述挂钩远离卡环的一端固定连接有弹性绳，所述弹性绳远离挂钩的一端与处理池固定连接。

优选的，所述处理池的两个侧壁均开设有滑槽，两个所述滑槽均匀分布在处理池的两侧，所述滑槽的内壁滑动连接有滑块，所述滑块远离滑槽内壁的一侧与连接杆固定连接，所述滑块靠近滑槽内壁的一侧呈圆弧状。

优选的，所述盖布的总长度与处理池的总宽度相适配，两个所述滑槽的长度与处理池的总宽度相适配。

优选的，所述处理池的底端内壁设有清理装置，所述清理装置包括刮板，所述刮板的下表面与处理池的底端内壁滑动连接，所述刮板的内壁呈圆弧状结构，所述刮板彼此远离的两端均固定连接有磁板，两个所述磁板彼此远离的两侧均与处理池的内壁接触，所述处理池的表面固定连接有限位板，所述限位板呈“l”形，所述限位板均匀分布在处理池的两侧，所述限位板的内壁滑动连接有磁块，所述磁块远离限位板内壁的一侧固定连接有把手，所述把手呈圆板状。

优选的，所述限位板的内壁固定连接有隔板，所述隔板位于限位板的中部。

优选的，所述限位板的上端表面开设有滑孔，滑孔的内壁滑动连接有卡块，所述卡块靠近限位板的一端固定连接有弹簧，所述弹簧远离卡块的一端与限位板固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于，

1、本实用新型中，通过设置调节装置，当将含铬废水排放到处理池中过后，等待废水进行沉淀过后，拉动处理池上端的两个扣板，使两个扣板沿着处理池上端向远离转轴的方向滑动，此时两个扣板借助支撑杆带动两个固定环移动，两个固定环借助连接杆带动盖布向远离转轴的方向移动，此时转轴开始释放盖布，当盖布移动到处理池远离转轴的一端后，拉动挂钩，并且将挂钩挂在扣板的固定环上，此时弹性绳会给挂钩一个拉力，从而达到了固定两个扣板位置的效果，盖布在处理池内部滑动时，盖布两端的滑块沿着处理池两侧的滑槽滑动，圆弧状的滑块起到了减小滑块与处理池内壁之间摩擦力的效果，当盖布固定在处理池上方过后，对废水的上层液体进行取样检测，从而达到了防止处理池底端的氢氧化铬再次与废水发生混匀的效果，解决了对沉淀池上方的液体进行抽样检测时，取样过程中会导致沉淀池中的水再次变得浑浊，从而降低了取样的废水的检测准确性的问题。

2、本实用新型中，通过设置清理装置，当处理池使用较长一段时间后需要对处理池底端的沉淀进行清理时，拉动把手，此时把手带动磁块在限位板的内壁滑动，此时磁块的圆弧面与隔板的下表面滑动，磁块借助磁力会带动处理池内部的刮板沿着处理池的底端内壁进行滑动，刮板起到了对处理池底部的沉淀进行刮取的效果，当磁块带动刮板移动到处理池的另一端过后，拉动卡块，使卡块从限位板的限位孔中脱离，然后拉动把手，使把手带动磁块沿着限位板向上移动，此时刮板的尖端与处理池的侧壁发生滑动，刮板会从废水中露出，此时松开卡块，卡块受到弹簧的弹力使卡块重新滑入限位板中，卡块会将磁块固定在限位板的上方，从而达到了将刮板固定在废水上方的效果，然后将刮板中的沉淀进行转移掉，对沉淀清理结束后，拉动把手，使把手带动磁块沿着限位板滑动，此时磁块的圆弧面与隔板的上表面滑动，此时刮板的在处理池的底端内壁上方移动，从而达到了防止刮板在翻回原来位置时将处理池中的沉淀向相反的方向刮取的效果，从而达到了反复对处理池底端的沉淀进行清理的效果，解决了当处理池使用较长一段时间后，处理池底端的沉淀积累过多会影响对废水进行检测的问题。

附图说明

图1为本实用新型提出一种处理含铬检测废液的装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型提出一种处理含铬检测废液的装置图1上方的结构示意图；

图3为本实用新型提出一种处理含铬检测废液的装置调节装置的部分结构示意图；

图4为本实用新型提出一种处理含铬检测废液的装置清理装置的结构示意图。

图例说明：1、处理池；2、调节装置；21、转轴；22、盖布；23、固定环；24、扣板；25、卡环；26、挂钩；27、弹性绳；28、滑槽；29、滑块；3、清理装置；31、刮板；32、磁板；33、限位板；34、磁块；35、把手；36、隔板；37、卡块；38、弹簧。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型并不限于下面公开说明书的具体实施例的限制。

实施例1，如图1-4所示，本实用新型提供了一种处理含铬检测废液的装置，包括处理池1和调节装置2，处理池1的内部设有调节装置2，处理池1的底端内壁设有清理装置3。

下面具体说一下其调节装置2和清理装置3的具体设置和作用。

如图1和图3所示，处理池1的内部设有调节装置2，调节装置2包括转轴21，转轴21的两端均与处理池1的内壁转动连接，转轴21的圆弧面固定连接有盖布22，当盖布22固定在处理池1上方过后，盖布22的形状与处理池1的内壁形状相适配，盖布22远离转轴21的一端固定连接有连接杆，连接杆彼此远离的两端均固定连接有固定环23，固定环23的圆弧面固定连接有支撑杆，支撑杆远离固定环23的一端固定连接有扣板24，扣板24呈“l”形，此时两个扣板24借助支撑杆带动两个固定环23移动，两个固定环23借助连接杆带动盖布22向远离转轴21的方向移动，此时转轴21开始释放盖布22，扣板24靠近支撑杆的一侧与处理池1的上端表面滑动连接，扣板24远离处理池1的一侧固定连接有卡环25，卡环25位于扣板24的中部，卡环25的内壁滑动连接有挂钩26，挂钩26远离卡环25的一端固定连接有弹性绳27，弹性绳27远离挂钩26的一端与处理池1固定连接，处理池1的两个侧壁均开设有滑槽28，两个滑槽28均匀分布在处理池1的两侧，滑槽28的内壁滑动连接有滑块29，滑块29远离滑槽28内壁的一侧与连接杆固定连接，滑块29靠近滑槽28内壁的一侧呈圆弧状，盖布22的总长度与处理池1的总宽度相适配，两个滑槽28的长度与处理池1的总宽度相适配。

其整个调节装置2达到的效果为，通过设置调节装置2，当将含铬废水排放到处理池1中过后，等待废水进行沉淀过后，拉动处理池1上端的两个扣板24，使两个扣板24沿着处理池1上端向远离转轴21的方向滑动，此时两个扣板24借助支撑杆带动两个固定环23移动，两个固定环23借助连接杆带动盖布22向远离转轴21的方向移动，此时转轴21开始释放盖布22，当盖布22移动到处理池1远离转轴21的一端后，拉动挂钩26，并且将挂钩26挂在扣板24的固定环23上，此时弹性绳27会给挂钩26一个拉力，从而达到了固定两个扣板24位置的效果，盖布22在处理池1内部滑动时，盖布22两端的滑块29沿着处理池1两侧的滑槽28滑动，圆弧状的滑块29起到了减小滑块29与处理池1内壁之间摩擦力的效果，当盖布22固定在处理池1上方过后，对废水的上层液体进行取样检测，从而达到了防止处理池1底端的氢氧化铬再次与废水发生混匀的效果，解决了对沉淀池上方的液体进行抽样检测时，取样过程中会导致沉淀池中的水再次变得浑浊，从而降低了取样的废水的检测准确性的问题。

如图2和图4所示，处理池1的底端内壁设有清理装置3，清理装置3包括刮板31，刮板31的下表面与处理池1的底端内壁滑动连接，刮板31的内壁呈圆弧状结构，刮板31会从废水中露出，此时松开卡块37，卡块37受到弹簧38的弹力使卡块37重新滑入限位板33中，刮板31彼此远离的两端均固定连接有磁板32，两个磁板32彼此远离的两侧均与处理池1的内壁接触，处理池1的表面固定连接有限位板33，限位板33呈“l”形，限位板33均匀分布在处理池1的两侧，限位板33的内壁滑动连接有磁块34，磁块34远离限位板33内壁的一侧固定连接有把手35，把手35呈圆板状，拉动把手35，此时把手35带动磁块34在限位板33的内壁滑动，此时磁块34的圆弧面与隔板36的下表面滑动，限位板33的内壁固定连接有隔板36，隔板36位于限位板33的中部，限位板33的上端表面开设有滑孔，滑孔的内壁滑动连接有卡块37，卡块37靠近限位板33的一端固定连接有弹簧38，弹簧38远离卡块37的一端与限位板33固定连接。

其整个的清理装置3达到的效果为，通过设置清理装置3，当处理池1使用较长一段时间后需要对处理池1底端的沉淀进行清理时，拉动把手35，此时把手35带动磁块34在限位板33的内壁滑动，此时磁块34的圆弧面与隔板36的下表面滑动，磁块34借助磁力会带动处理池1内部的刮板31沿着处理池1的底端内壁进行滑动，刮板31起到了对处理池1底部的沉淀进行刮取的效果，当磁块34带动刮板31移动到处理池1的另一端过后，拉动卡块37，使卡块37从限位板33的限位孔中脱离，然后拉动把手35，使把手35带动磁块34沿着限位板33向上移动，此时刮板31的尖端与处理池1的侧壁发生滑动，刮板31会从废水中露出，此时松开卡块37，卡块37受到弹簧38的弹力使卡块37重新滑入限位板33中，卡块37会将磁块34固定在限位板33的上方，从而达到了将刮板31固定在废水上方的效果，然后将刮板31中的沉淀进行转移掉，对沉淀清理结束后，拉动把手35，使把手35带动磁块34沿着限位板33滑动，此时磁块34的圆弧面与隔板36的上表面滑动，此时刮板31的在处理池1的底端内壁上方移动，从而达到了防止刮板31在翻回原来位置时将处理池1中的沉淀向相反的方向刮取的效果，从而达到了反复对处理池1底端的沉淀进行清理的效果，解决了当处理池1使用较长一段时间后，处理池1底端的沉淀积累过多会影响对废水进行检测的问题。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型作其它形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例应用于其它领域，但是凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本实用新型技术方案的保护范围。