1.本实用新型涉及过滤设备领域,具体涉及一种磨液过滤装置。
背景技术:2.在电子行业玻璃加工制程中,通常需对手机玻璃、平板(pad)玻璃、tv面板玻璃及各种电子功能性玻璃进行研磨,研磨后的磨液中存在大量的残渣,对磨液进行过滤后可再次将过滤后的磨液投入研磨机中进行使用。但使用过滤装置对磨液进行过滤时,磨液中的细小絮状物会穿过过滤带粘接在过滤带套设的转轴上,会导致转轴外表面形成渣块,容易对过滤带造成损伤,使过滤带表面不平整或造成过滤带的网口撑裂,影响过滤装置的过滤效果。除此之外,带有滤渣的磨液还会沿着转轴流至与转轴连接的轴承座或动力件内部,对转轴的转动产生影响,不利于提升过滤装置的使用寿命。
3.综上所述,急需一种磨液过滤装置以解决现有技术中存在的问题。
技术实现要素:4.本实用新型目的在于提供一种磨液过滤装置,以解决磨液中的滤渣在过滤装置的转轴上结块,导致过滤带破损影响过滤效果的问题。
5.为实现上述目的,本实用新型提供了一种磨液过滤装置,包括机架、输送组件、环形过滤带和第一清洁件;
6.所述输送组件包括设置在机架上的转轴;
7.所述环形过滤带套设在两个所述转轴上;所述第一清洁件位于环形过滤带与两个转轴所形成的空间内部,所述第一清洁件的边缘与转轴的外周面相对设置且具有预设间隙。
8.优选的,所述机架包括设置在所述机架的侧壁外侧的轴承座;所述轴承座与所述机架的侧壁之间设有垫块;所述转轴安装在轴承座内。
9.优选的,一种磨液过滤装置还包括二级滤网组件,所述二级滤网组件与机架的两侧壁连接;所述二级滤网组件包括过滤网,所述过滤网位于环形过滤带下方;所述过滤网的目数大于环形过滤带的目数。
10.优选的,所述二级滤网组件与机架之间为抽屉式连接。
11.优选的,所述环形过滤带的目数为60目~80目;所述过滤网的目数为120目~180目。
12.优选的,所述机架的底部设有滤液容纳腔,所述滤液容纳腔位于二级滤网组件的下方。
13.优选的,所述机架上设有位于环形过滤带上方的磨液管固定板,所述磨液管固定板上设有磨液管安装孔。
14.优选的,一种磨液过滤装置还包括清洁机构;所述清洁机构设于环形过滤带开始回程的一端;所述清洁机构包括与机架连接的第二清洁件;所述第二清洁件与环形过滤带
的外表面接触。
15.优选的,所述清洁机构还包括倾斜设置在第二清洁件下方的滤渣滑板。
16.优选的,一种磨液过滤装置还包括存储箱;所述存储箱的进液口与所述滤液容纳腔的出液口连接;所述存储箱的底部设有行走组件。
17.应用本实用新型的技术方案,具有以下有益效果:
18.本实用新型中,通过在环形过滤带与转轴形成的空间内部设置第一清洁件,第一清洁件的边缘与转轴的外周面相对设置且具有预设间隙,第一清洁件用于刮除转轴外周面上沉积的滤渣(如抛光革等细小的絮状物),防止滤渣在转轴外周面上结块,对环形过滤带产生损害,影响环形过滤带的过滤效果;预设间隙优选0.5mm~2mm,当第一清洁件的边缘与转轴的外周面间隙小于0.5mm时,第一清洁件会阻挡转轴的转动;当第一清洁件的边缘与转轴的外周面间隙大于2mm时,会导致大量滤渣残留在转轴的外周面,无法使第一清洁件起到对转轴外周面的滤渣进行清除的效果。
19.除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本实用新型作进一步详细的说明。
附图说明
20.构成本技术的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
21.图1是本技术实施例的一种磨液过滤装置的结构示意图;
22.图2是图1中机架、环形过滤带与清洁机构的结构示意图;
23.图3是图2沿转轴轴向的剖视图;
24.图4是图1中的机架、输送组件、二级滤网组件和第一清洁件沿垂直于转轴轴向的剖视图;
25.其中,1、机架,1.1、轴承座,1.2、垫块,1.3、磨液管固定板,1.4、检修口,2、清洁机构,2.1、第二清洁件,2.2、滤渣滑板,3、存储箱,3.1、行走组件,3.2、取液口,4、磨液管,5、输送组件,5.1、转轴,6、环形过滤带,7、二级滤网组件,7.1、过滤网,8、第一清洁件。
具体实施方式
26.以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明,但是本实用新型可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
27.实施例:
28.参见图1至图4,一种磨液过滤装置,本实施例应用于对研磨机使用后的磨液进行过滤。
29.一种磨液过滤装置,包括机架1、输送组件5、环形过滤带6和第一清洁件8;所述输送组件5包括安装在机架1上的两个转轴5.1,如图3所示;所述环形过滤带6套设在两个所述转轴5.1上;其中一个转轴5.1与旋转动力件(调速电机)连接;两个所述第一清洁件8位于环形过滤带6与转轴5.1所形成的空间内部,所述第一清洁件8的边缘与转轴5.1的外周面相对设置且具有0.5mm~2mm的预设间隙,两个第一清洁件8分别用于刮除两个转轴5.1外周面上
沉积的滤渣(如抛光革等细小的絮状物),防止滤渣在转轴5.1外周面上结块,对环形过滤带6产生损害,影响环形过滤带6的过滤效果,本实施例中,第一清洁件8为长条形刮片;当第一清洁件8的边缘与转轴5.1的外周面间隙小于0.5mm时,第一清洁件8会阻挡转轴5.1的转动;当第一清洁件8的边缘与转轴5.1的外周面间隙大于2mm时,会导致大量滤渣残留在转轴5.1的外周面,无法使第一清洁件8起到对转轴5.1外周面的滤渣进行清除的效果。
30.参见图2和图4,第一清洁件8通过螺栓安装在机架1的侧壁上,为定期对第一清洁件8上的滤渣进行清除,在机架1的侧壁上设有检修口1.4,便于定期取出第一清洁件8对其表面的滤渣进行清洁。
31.所述机架1包括设置在所述机架1的侧壁外侧的轴承座1.1;所述轴承座1.1与所述机架1的侧壁之间设有垫块1.2;所述转轴5.1安装在轴承座1.1内,由于垫块1.2和机架1侧壁的间隔作用,使转轴5.1和环形过滤带6上的磨液不会流入轴承座1.1内,避免磨液导致轴承座1.1内部的旋转轴承失效。
32.一种磨液过滤装置还包括二级滤网组件7;所述二级滤网组件7与机架1的两侧壁连接;所述二级滤网组件7包括过滤网7.1;所述过滤网7.1位于环形过滤带6下方,如图4所示;所述二级滤网组件7与机架1之间为抽屉式连接;本实施例中,机架1的两侧壁上设有用于与过滤网7.1的两侧连接的滑轨;在过滤网7.1的一端(即图4中的右端)设有用于抽拉过滤网7.1的把手,便于从机架1中抽出过滤网7.1进行定期清洁和更换。
33.所述过滤网7.1的目数大于环形过滤带6的目数,用于对穿过环形过滤带6的滤液进行进一步的过滤,所述环形过滤带6的目数为60目~80目;所述过滤网7.1的目数为120目~180目。
34.所述机架1的底部设有滤液容纳腔,所述滤液容纳腔位于二级滤网组件7的下方,用于收集经过两次过滤的磨液,滤液容纳腔上设有出液口,或直接将滤液容纳腔上部的开口作为出液口。当工作人员将滤液容纳腔中的磨液进行检测后,若符合重复利用的标准,则再次投入研磨工序中进行使用;若不符合重复利用的标准,则需将滤液容纳腔中的磨液再次进行过滤,并且对滤液容纳腔进行清洁。
35.所述机架1上设有位于环形过滤带6上方的磨液管固定板1.3;所述磨液管固定板1.3上设有能插入磨液管4的磨液管安装孔;本实施例中,磨液管固定板1.3与机架1的两侧壁连接,架设在环形过滤带6的上方,使磨液在重力作用下落至环形过滤带6和过滤网7.1上进行滤渣过滤。
36.本实施例中,机架1包括上部机架和下部机架;输送组件5和环形过滤带6安装在上部机架上,二级滤网组件7和滤液容纳腔设置在下部机架上;上部机架架设在下部机架的上方。将机架1拆分为两部分,有利于工人对机架1进行搬运。
37.一种磨液过滤装置还包括清洁机构2;所述清洁机构2设于环形过滤带6开始回程的一端,避免上层环形过滤带6将表面的滤渣带回下层,经滤液的冲洗掉落至滤液容纳腔中,影响过滤效果;所述清洁机构2包括与机架1连接的第二清洁件2.1,所述第二清洁件2.1与环形过滤带6的外表面接触,本实施例中,第二清洁件2.1为毛刷,毛刷的刷头与环形过滤带6的外表面接触;由于环形过滤带6在转轴5.1的作用下与第二清洁件2.1的刷头产生相对运动,从而可通过第二清洁件2.1将环形过滤带6外表面的滤渣扫除,不需再通过人工对环形过滤带6上的滤渣进行清洁。
38.所述清洁机构2还包括倾斜设置在第二清洁件2.1下方的滤渣滑板2.2,第二清洁件2.1上的滤渣因自重掉落至滤渣滑板2.2上;所述滤渣滑板2.2的边缘设有挡板,挡板之间设有出渣口,所述滤渣滑板2.2的出渣口倾斜向下设置,便于滤渣在自重作用下从滤渣滑板2.2上排出。
39.一种磨液过滤装置还包括存储箱3;所述存储箱3的进液口与滤液容纳腔的出液口通过管道连接;所述存储箱3的底部设有行走组件3.1,能减少工人移动存储箱3至磨削工位的劳动强度。本实施例中,存储箱3为设有取液盖3.2的封闭腔体,避免外界杂质落入存储箱3中。
40.上述磨液过滤装置的工作流程为:将磨液管4架设在磨液管固定板1.3上,磨液依次通过环形过滤带6和过滤网7.1,对磨液进行两级过滤;然后对过滤后流至滤液容纳腔内的滤液进行检测,若滤液符合重复使用的标注,则通过管道或水泵将滤液转移至存储箱3内;最后将存储箱3内的磨液推动至磨削工位使用即可。
41.对上述磨液过滤装置的维护流程为:定期从检修口1.4将第一清洁件8取出,对第一清洁件8上的滤渣进行清除;定期将二级滤网组件7中的过滤网7.1从机架1中抽出进行清洁;定期将第二清洁件2.1和滤渣滑板2.2上的滤渣进行清除。
42.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。