原料配比设备的制作方法

1.本实用新型涉及医药生产领域，具体而言，涉及一种原料配比设备。


背景技术：

2.医用冷敷贴是根据传统冷敷方式改良而成，以高分子凝胶为基础制备的tdds新型药物释放系统为核心，由背衬层、凝胶层、防粘层组成，在对其原理配比后的ph值进行调节的时候需要用到的设备叫做调节ph值设备。现有技术为授权公告号：cn211837508u公开了一种医用冷敷贴原料配比的调节ph设备。其中，通过设置有控制器、定量泵、酸性试剂存放盒和碱性试剂存放盒可以实现自动溶液ph值的自动调节功能；通过设置有转动电机、搅拌轴和搅拌叶可以实现溶液的自动混合的功能。
3.但是上述现有技术中的壳体内部经常接触酸碱液且其内部清洗困难，从而使得壳体内壁以及搅拌叶溶液被腐蚀，影响该装置的使用寿命。上述现有技术中的控制器裸露在外侧，不具有防护结构，从而容易出现误触现象，影响该装置的正常使用。


技术实现要素：

4.本实用新型的主要目的在于提供一种原料配比设备，以解决相关技术中的壳体的内部清洗困难的问题。
5.为了实现上述目的，本实用新型的提供了一种原料配比设备，包括：底座；壳体，设置在底座上；驱动装置，设置在壳体的顶部；搅拌机构，可转动地设置在壳体的内腔内，驱动装置驱动搅拌机构转动；清洁装置，包括清洗管道和多个喷淋头，清洗管道固定于搅拌机构内，每个喷淋头均与清洗管道连通且穿出于搅拌机构。
6.进一步地，清洁装置还包括：清洁箱，清洁箱位于底座的外部；输送管路，输送管路的一部分穿入至底座内；压力泵，位于底座的外部，且设置在清洁箱和输送管路之间，其中，清洗管道的第一端穿入至搅拌机构内，壳体上设置有避让清洗管道的第一避让孔，底座上设置有与第一避让孔对应设置的第二避让孔，清洗管道的第二端穿过第一避让孔以及第二避让孔与输送管路连通。
7.进一步地，清洁装置还包括法兰盘以及密封套，法兰盘连接在清洗管道的第二端上，密封套套设在法兰盘外并与输送管路连通。
8.进一步地，密封套包括套体、与套体的第一端连接的第一环形体以及与套体的第二端连接的第二环形体，第一环形体朝向第二环形体的表面上连接有第一密封圈，第二环形体朝向第一环形体的表面上连接有第二密封圈，法兰盘的相对设置的两个端面上分别设置有第一环形槽以及第二环形槽，第一密封圈位于第一环形槽内，第二密封圈位于第二环形槽内。
9.进一步地，搅拌机构包括搅拌轴以及设置在搅拌轴上的搅拌叶片，搅拌轴的第一端与驱动装置连接，搅拌轴的第二端与壳体的内腔之间设置有密封环，壳体的内腔壁对应于密封环处设置有第三环形槽，密封环安装在第三环形槽内，密封环的顶端凸出于第三环
形槽。
10.进一步地，搅拌轴上设置有避让清洗管道的贯通槽；底座内设置有容纳腔，部分清洗管道以及部分清洁装置位于容纳腔内。
11.进一步地，原料配比设备还包括设置在壳体的外侧壁上的控制器以及防护底板，原料配比设备还包括透明罩，透明罩可拆卸地安装在防护底板的上方并罩设在控制器外。
12.进一步地，透明罩和防护底板之间设置有导向结构，导向结构包括滑槽以及与滑槽配合的滑块，滑槽和滑块中的一个设置在防护底板上，另一个设置在透明罩上。
13.进一步地，滑槽设置在防护底板上，滑块设置在透明罩上，滑槽的槽壁上设置有锁定槽，透明罩的侧壁上设置有通槽，原料配比设备还包括操作杆，操作杆可移动地位于通槽内，操作杆弯折设置，操作杆的操作端伸出透明罩外，操作杆的远离操作端的一端为锁定端，锁定端具有位于锁定槽内的锁定位置以及脱离锁定槽的解锁位置。
14.进一步地，透明罩的内侧壁上设置有导杆，导杆弯折设置，操作杆穿设在导杆上，原料配比设备还包括位于导杆和操作杆之间的复位弹簧。
15.应用本实用新型的技术方案，原料配比设备包括：底座、壳体、驱动装置、搅拌机构和清洁装置。壳体设置在底座上。驱动装置设置在壳体的顶部。搅拌机构可转动地设置在壳体的内腔内，驱动装置驱动搅拌机构转动。清洁装置包括清洗管道和多个喷淋头。清洗管道固定于搅拌机构内，每个喷淋头均与清洗管道连通且穿出于搅拌机构。使用原料配比设备时，当原料配比设备完成原料配比后，通过清洗管道将清洗液输入清洗管道内，再由喷淋头喷出，实现对壳体内壁以及搅拌机构的清洗功能。在驱动装置的作用下，驱动装置驱动搅拌机构转动时，能够通过多个喷淋头带动清洗管道同步转动，处于转动状态下的喷淋头，扩大了清洗范围，保证了对壳体内壁以及搅拌机构的清洗效率和质量，容易对壳体的内部进行清洗，避免壳体内壁以及搅拌机构受到腐蚀。因此，本技术的技术方案有效地解决了相关技术中的壳体的内部清洗困难的问题。
附图说明
16.构成本技术的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
17.图1示出了根据本实用新型的原料配比设备的实施例的剖视示意图；
18.图2示出了图1的原料配比设备的a处放大示意图；
19.图3示出了图1的原料配比设备的b处放大示意图；
20.图4示出了图1的原料配比设备的c处放大示意图；
21.图5示出了图1的透明罩和防护底板的立体结构示意图；
22.图6示出了图5的透明罩的立体结构示意图；以及
23.图7示出了图1的密封套的立体结构示意图。
24.其中，上述附图包括以下附图标记：
25.1、底座；101、容纳腔；12、清洗管道；2、壳体；201、第一密封圈；202、第二密封圈；21、输送管路；22、喷淋头；3、清洁箱；4、防护底板；401、滑槽；402、锁定槽；5、压力泵；6、透明罩；601、通槽；602、滑块；7、驱动装置；8、搅拌轴；801、贯通槽；9、密封环；10、密封垫；11、第
三环形槽；13、控制器；14、操作杆；141、操作端；142、锁定端；15、导杆；16、复位弹簧；18、法兰盘；1801、第一环形槽；1802、第二环形槽；19、密封套。
具体实施方式
26.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本实用新型及其应用或使用的任何限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
27.需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本技术的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
28.除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
29.如图1至图4所示，本实施例的原料配比设备包括：底座1、壳体2、驱动装置7、搅拌机构和清洁装置。壳体2设置在底座1上。驱动装置7设置在壳体2的顶部。搅拌机构可转动地设置在壳体2的内腔内，驱动装置7驱动搅拌机构转动。清洁装置包括清洗管道12和多个喷淋头22。清洗管道12固定于搅拌机构内，每个喷淋头22均与清洗管道12连通且穿出于搅拌机构。
30.应用本实施例的技术方案，使用原料配比设备时，当原料配比设备完成原料配比后，通过清洗管道12将清洗液输入清洗管道12内，再由喷淋头22喷出，实现对壳体2内壁以及搅拌机构的清洗功能。在驱动装置7的作用下，驱动装置7驱动搅拌机构转动时，能够通过多个喷淋头22带动清洗管道12同步转动，处于转动状态下的喷淋头22，扩大了清洗范围，保证了对壳体2内壁以及搅拌机构的清洗效率和质量，容易对壳体的内部进行清洗，避免壳体2内壁以及搅拌机构受到腐蚀。因此，本实施例的技术方案有效地解决了相关技术中的壳体的内部清洗困难的问题。
31.需要说明的是，上述的壳体的具体结构以及壳体上设置的相关设备的具体结构和工作原理在请参考授权公告号：cn211837508u公开了一种医用冷敷贴原料配比的调节ph设备。
32.如图1和图2所示，清洁装置还包括：清洁箱3、输送管路21和压力泵5。清洁箱3位于底座1的外部。输送管路21的一部分穿入至底座1内。压力泵5位于底座1的外部，且设置在清洁箱3和输送管路21之间。其中，清洗管道12的第一端穿入至搅拌机构内，壳体2上设置有避
让清洗管道12的第一避让孔，底座1上设置有与第一避让孔对应设置的第二避让孔，清洗管道12的第二端穿过第一避让孔以及第二避让孔与输送管路21连通。这样，第一避让孔和第二避让孔的设置便于清洗管道12的第二端与输送管路21实现连通，以便于清洁箱3内的清洗液进行流通。当原料配比设备完成ph值调配后，启动压力泵5，同时启动驱动装置7，压力泵5将清洁箱3内的清洗液通过输送管路21输入清洗管道12内，再由喷淋头22喷出，实现对壳体2内壁以及搅拌机构的清洗功能。
33.如图1和图2所示，清洁装置还包括法兰盘18以及密封套19。法兰盘18连接在清洗管道12的第二端上，密封套19套设在法兰盘18外并与输送管路21连通。法兰盘18的设置便于清洗管道12的第二端与输送管路21之间具有较大的接触面积，以便于清洗管道12与输送管路21进行平稳地连通。同时密封套19能够密封在法兰盘18与输送管路21的连通处，防止在该连通处出现泄漏，以使输送管路21内的清洗液顺利地进入至清洗管道12内。密封套19由弹性橡胶材料制成。
34.如图1、图2和图7所示，密封套19包括套体、与套体的第一端连接的第一环形体以及与套体的第二端连接的第二环形体，第一环形体朝向第二环形体的表面上连接有第一密封圈201，第二环形体朝向第一环形体的表面上连接有第二密封圈202，法兰盘18的相对设置的两个端面上分别设置有第一环形槽1801以及第二环形槽1802，第一密封圈201位于第一环形槽1801内，第二密封圈202位于第二环形槽1802内。这样，第一密封圈201与第一环形槽1801可转动地连接，第二密封圈202与第二环形槽1802可转动地连接。同时，第一密封圈201能够密封第一环形槽1801，防止在第一环形槽1801处发生泄漏。第二密封圈202能够密封第二环形槽1802，防止在第二环形槽1802处发生泄漏。在将密封套19套在法兰盘18外的过程中，通过第一环形体的内孔将第一环形体撑开，从而将法兰盘18塞入密封套19内。
35.如图1和图4所示，搅拌机构包括搅拌轴8以及设置在搅拌轴8上的搅拌叶片。这样，搅拌轴8转动以带动搅拌叶片转动对壳体2内的原料进行搅拌，以使壳体2内的原料完成配比。搅拌轴8的第一端与驱动装置7连接，搅拌轴8的第二端与壳体2的内腔之间设置有密封环9。壳体2的内腔壁对应于密封环9处设置有第三环形槽11，密封环9安装在第三环形槽11内，密封环9的顶端凸出于第三环形槽11。密封环9密封在搅拌轴8的第二端与壳体2的内腔之间的缝隙处。一方面能够降低搅拌轴8的第二端与壳体2的内腔之间的摩擦，另一方面有效地密封缝隙，防止在该缝隙处发生泄漏。本实施例的驱动装置7优选为转动电机。
36.如图1和图4所示，为了进一步保证密封环9的密封效果，原料配比设备还包括密封垫10，密封垫10安装在第三环形槽11内，并位于密封环9的下方。这样，密封垫10的设置一方面能够保证密封环9的密封效果，另一方面能够隔离密封环9与第三环形槽11，降低密封环9的磨损量，延长了密封环9的使用寿命。
37.如图1和图4所示，搅拌轴8上设置有避让清洗管道12的贯通槽801。贯通槽801的设置能够搅拌轴8内有足够的安装空间，以使清洗管道12安装在搅拌轴8内。底座1内设置有容纳腔101，部分清洗管道12以及部分清洁装置位于容纳腔101内。容纳腔101的设置使得底座1内具有安装空间，以使部分清洗管道12以及部分清洁装置能够安装在底座1内。同时也使得原料配比设备结构紧凑。部分清洗管道12是指清洗管道12的第二端。部分清洁装置是指法兰盘18、密封套19以及输送管路21穿入至底座1内的一部分。
38.如图1、图3至图6所示，原料配比设备还包括设置在壳体2的外侧壁上的控制器13
以及防护底板4。原料配比设备还包括透明罩6，透明罩6可拆卸地安装在防护底板4的上方并罩设在控制器13外。控制器13能够控制驱动装置7进行转动。防护底板4能够支撑控制器13，以使透明罩6能够罩在控制器13外侧。透明罩6控制器13起到防护作用，避免非工作人员误触控制器13，影响原料配比设备的正常使用，同时可以对控制器13起到保护作用，避免其因外界因素损坏。
39.如图1、图3至图7所示，透明罩6和防护底板4之间设置有导向结构，导向结构包括滑槽401以及与滑槽401配合的滑块602。滑槽401设置在防护底板4上，滑块602设置在透明罩6上。导向结构的设置使得透明罩6能够在防护底板4上进行平稳地移动，防止透明罩6在拆卸的过程中发生偏斜。滑槽401和滑块的配合使得导向结构的结构简单，成本较低。本实施例的滑块呈“t”字形，滑槽401呈“凹”字形。滑块602设置在透明罩6的底端，滑槽401设置在防护底板4的顶端。
40.当然，在图中未示出的实施例中，滑块可以设置在防护底板上，滑槽可以设置在透明罩上。
41.如图1、图3至图6所示，滑槽401设置在防护底板4上，滑块设置在透明罩6上。滑槽401的槽壁上设置有锁定槽402，透明罩6的侧壁上设置有通槽601。原料配比设备还包括操作杆14。操作杆14可移动地位于通槽601内，操作杆14弯折设置，操作杆14的操作端141伸出透明罩6外。通过通槽601的设置使得操作杆14的操作端141能够伸出透明罩6外。操作杆14的远离操作端141的一端为锁定端142，锁定端142具有位于锁定槽402内的锁定位置以及脱离锁定槽402的解锁位置。操作操作端141便于控制操作杆14进行移动。当锁定端142位于锁定槽402内的锁定位置时，透明罩6无法在防护底板4上移动，防止透明罩6脱离防护底板4。当锁定端142位于脱离锁定槽402的解锁位置时，透明罩6在防护底板4上能够继续移动，透明罩6能够脱离防护底板4，以使防护底板4上方的控制器13暴露在外面，便于工作人员操作控制器13。
42.如图1、图3至图6所示，透明罩6的内侧壁上设置有导杆15。导杆15弯折设置，操作杆14穿设在导杆15上。导杆15的设置以使操作杆14能够沿导杆15进行移动，防止操作杆14发生偏斜。原料配比设备还包括位于导杆15和操作杆14之间的复位弹簧16。复位弹簧16向操作杆14施加朝向防护底板4方向的弹力。在锁定端142位于脱离锁定槽402的解锁位置时，复位弹簧16受到压缩，操作杆14的操作端141的不受外力时，复位弹簧16向操作杆14施加朝向防护底板4方向的弹力，以使锁定端142由解锁位置切换至解锁位置。
43.如图1至图7所示，本实施例的原料配比设备的工作原理为：使用原料配比设备时，当需要设定控制器13的参数时，通过拇指向上推操作杆14，锁定端142向上位于脱离锁定槽402并处于解锁位置，然后移动透明罩6，使得透明罩6上的滑块602沿着滑槽401相对于防护底板4向右滑动，当透明罩6上的滑块602滑动至滑槽401的末端时，透明罩6与控制器13分离，使得控制器13裸露在外界环境中，方便工作人员设定控制器13的参数。当参数设定完成后，反向上述操作，使得透明罩6复位，从而可以对控制器13起到防护作用同时可以避免非工作人员误触控制器13，影响该装置的正常使用，同时可以对控制器13起到保护作用，避免其因外界因素损坏。
44.当原料配比设备完成ph值调配后，可以启动压力泵5同时启动转动电机，压力泵5将清洁箱3内的清洗液通过输送管路21输入清洗管道12内，再由喷淋头22喷出，实现对壳体
2内壁以及搅拌叶片的清洗功能。在转动电机的作用下，由于清洗管道12的四周固定连接有喷淋头22，喷淋头22设置在贯通槽801上的通孔内，当搅拌轴8转动时会带动喷淋头22转动进而带动清洗管道12转动，使得搅拌轴8带动清洗管道12转动。其中，喷淋头22转动，能够增大清洗范围，保证对壳体2内壁以及搅拌叶片的清洗效率和质量，避免壳体2内壁以及搅拌叶片受到腐蚀。
45.值得注意的是：转动电机通过总控制按钮对其实现控制，由于控制按钮匹配的设备为常用设备，属于现有成熟技术，在此不再赘述其电性连接关系以及具体的电路结构。
46.在本实用新型的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
47.为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在
……
之上”、“在
……
上方”、“在
……
上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在
……
上方”可以包括“在
……
上方”和“在
……
下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
48.此外，需要说明的是，使用“第一”、“第二”等词语来限定零部件，仅仅是为了便于对相应零部件进行区别，如没有另行声明，上述词语并没有特殊含义，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
49.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。