1.本发明涉及工业酶制备技术领域,特别的,是一种工业酶反应监测系统。
背景技术:2.现代工业规模越来越大,工艺过程也越来越复杂,而对生产稳定性和持续性的要求却又在不断提高,而当前我国工业数据采集、监测技术仍存在一些不足,比如,传感器等数据采集、接入设备因为处理器处理能力问题而部署不足,现有的工业酶反应监测系统在使用时会出现以下弊端:
3.由于反应物伴随着工业酶反应能在沉降池发生沉降,为保证其反应能力,将会在沉降池上设置有分流台,但是当反应物和工业酶顺着水流在分流台滑落时,将会随水流方向运动而同步流动着,与分流台上形成对冲,会具有更强的冲劲涌入沉降池内,使得池内沉降物以圈状扩大漂浮,进而在沉降池内形成不了稳定的沉降环境,导致下一工序中的水流会夹带较多反应物和工业酶,造成系统反应能力低下。
技术实现要素:4.针对上述问题,本发明提供一种工业酶反应监测系统,其结构包括转轴、操作台、沉降池、入料筒、反应筒,所述转轴连接在操作台和沉降池之间,所述沉降池上通过反应筒与入料筒间接配合,所述反应筒包括环交器、分流台、集中壁、助力体,所述环交器上连接有入料筒,且连接在集中壁上,所述集中壁之间连接有分流台,所述分流台上设有助力体。
5.作为本发明的进一步改进,所述助力体包括交合钮、缓流装置、刺辊、延波盘、环导件,所述交合钮连接在延波盘上,且转动配合有刺辊,所述刺辊间接配合在环导件上,所述延波盘上设置有缓流装置。
6.作为本发明的进一步改进,所述延波盘连接在分流台上,且通过缓流装置与集中壁过渡配合,降低水流在分流台上的平均流速。
7.作为本发明的进一步改进,所述环导件包括顶板、扣夹、疏通球、托垫、四射台,所述顶板设有四个,一端连接在四射台上,且另一端连接有托垫,所述托垫通过疏通球连接有扣夹,所述扣夹间接配合在交合钮和刺辊之间。
8.作为本发明的进一步改进,所述缓流装置包括分区沟、抗扶结构、导引层、碾球、咬合条,所述分区沟通过咬合条连接在托垫上,且连接在导引层上,所述导引层与分区沟之间通过抗扶结构转动配合有碾球。
9.作为本发明的进一步改进,所述导引层连接在延波盘上,且通过抗扶结构过渡配合在交合钮下,助力分散水流的流动方向,能够对其的流动速度与强度进行调控。
10.作为本发明的进一步改进,所述抗扶结构包括旋片、支脚、条框、踏板、磨合带、调节件,所述旋片通过磨合带活动卡合在条框内,且之间设有调节件,所述条框连接在踏板上,所述踏板通用支脚连接在分区沟上,且过渡配合有碾球。
11.作为本发明的进一步改进,所述调节件包括限定块、厚唇条、立板、下压框、换张
网,所述限定块通过立板连接在旋片之间,且之间连接有下压框,所述下压框上连接有厚唇条,所述厚唇条通过换张网过渡配合在磨合带上。
12.有益效果
13.与现有技术相比,本发明的有益效果:
14.1、本发明在助力体上设置有缓流装置和环导件,利用缓流装置和环导件在交合钮下相配合,当混合物与分流台上形成对冲时,将会受环导件分散四射,对水流在环导件内的流动方向保持稳定引导,且配合刺辊过渡至缓流装置,对水流起到了平铺均匀引导及间歇性排放的作用,改善了水流的冲劲力度。
15.2、本发明由于疏通球受到顶板倾斜方向的引导排斥力滚动在顶板之间,方便调节扣夹在顶板上的角度,达到改变扣夹开口方向的目的,对水流在扣夹内的喷射方向保持稳定引导。
16.3、本发明通过抗扶结构倾斜设置在分区沟两侧上,对抗扶结构内的水流均匀缩小,且具有间隙的避让挤出,有利于碾球能够均匀的将水流分散开,达到一定的回弹效果。
附图说明
17.图1为本发明一种工业酶反应监测系统的结构示意图。
18.图2为本发明反应筒的平面结构示意图。
19.图3为本发明助力体的俯视结构示意图。
20.图4为本发明环导件的平面结构示意图。
21.图5为本发明缓流装置的侧视结构示意图。
22.图6为本发明抗扶结构的平面结构示意图。
23.图7为本发明调节件的剖面结构示意图。
24.图中:转轴-1、操作台-2、沉降池-3、入料筒-4、反应筒-5、环交器-51、分流台-52、集中壁-53、助力体-54、交合钮-541、缓流装置-542、刺辊-543、延波盘-544、环导件-545、顶板-451、扣夹-452、疏通球-453、托垫-454、四射台-455、分区沟-421、抗扶结构-422、导引层-423、碾球-424、咬合条-425、旋片-22a1、支脚-22a2、条框-22a3、踏板-22a4、磨合带-22a5、调节件-22a6、限定块-a61、厚唇条-a62、立板-a63、下压框-a64、换张网-a65。
具体实施方式
25.基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
26.实施例1
27.如图1-图3所示,本发明提供一种工业酶反应监测系统,其结构包括转轴1、操作台2、沉降池3、入料筒4、反应筒5,所述转轴1铰接连接在操作台2和沉降池3之间,所述沉降池3上通过反应筒5与入料筒4间接配合,所述反应筒5包括环交器51、分流台52、集中壁53、助力体54,所述环交器51上固定连接有入料筒4,且焊接连接在集中壁53上,所述集中壁53之间嵌接连接有分流台52,所述分流台52上设有助力体54,所述助力体54包括交合钮541、缓流装置542、刺辊543、延波盘544、环导件545,所述交合钮541固定连接在延波盘544上,且转动配合有刺辊543,所述刺辊543间接配合在环导件545上,所述延波盘544上设置有缓流装置
542,所述延波盘544为倒扣半球盆状结构,套接连接在分流台52上,且通过缓流装置542与集中壁53过渡配合,降低水流在分流台52上的平均流速,在助力体54上设置有缓流装置542和环导件545,利用缓流装置542和环导件545在交合钮541下相配合,当混合物与分流台上形成对冲时,将会受环导件545分散四射,对水流在环导件545内的流动方向保持稳定引导,且配合刺辊543过渡至缓流装置542,对水流起到了平铺均匀引导及间歇性排放的作用,改善了水流的冲劲力度。
28.实施例2
29.如图4-图7所示,在实施例1的基础上,本发明结合以下结构部件的相互配合,所述环导件545包括顶板451、扣夹452、疏通球453、托垫454、四射台455,所述顶板451设有四个,一端倾斜固定连接在四射台455上,且另一端焊接连接有托垫454,所述托垫454通过疏通球453铰接连接有扣夹452,所述扣夹452间接配合在交合钮541和刺辊543之间,所述缓流装置542包括分区沟421、抗扶结构422、导引层423、碾球424、咬合条425,所述分区沟421通过咬合条425铰接连接在托垫454上,且焊接连接在导引层423上,所述导引层423与分区沟421之间通过抗扶结构422转动配合有碾球424,所述导引层423上表面为波纹状,焊接连接在延波盘544上,且通过抗扶结构422过渡配合在交合钮541下,助力分散水流的流动方向,能够对其的流动速度与强度进行调控,所述抗扶结构422包括旋片22a1、支脚22a2、条框22a3、踏板22a4、磨合带22a5、调节件22a6,所述旋片22a1通过磨合带22a5活动卡合在条框22a3内,且之间设有调节件22a6,所述条框22a3焊接连接在踏板22a4上,所述踏板22a4通用支脚22a2插嵌连接在分区沟421上,且过渡配合有碾球424,所述调节件22a6包括限定块a61、厚唇条a62、立板a63、下压框a64、换张网a65,所述限定块a61通过立板a63焊接连接在旋片22a1之间,且之间固定连接有下压框a64,所述下压框a64上铰接连接有厚唇条a62,所述厚唇条a62通过换张网a65过渡配合在磨合带22a5上,由于疏通球453受到顶板451倾斜方向的引导排斥力滚动在顶板451之间,方便调节扣夹452在顶板451上的角度,达到改变扣夹452开口方向的目的,对水流在扣夹452内的喷射方向保持稳定引导,通过抗扶结构422倾斜设置在分区沟421两侧上,对抗扶结构422内的水流均匀缩小,且具有间隙的避让挤出,有利于碾球424能够均匀的将水流分散开,达到一定的回弹效果。
30.下面对上述技术方案中的一种工业酶反应监测系统的工作原理作如下说明:
31.本发明在使用过程中,当反应物和工业酶顺着水流在分流台52滑落时,为以防与分流台上形成对冲,会具有更强的冲劲涌入沉降池3内,因此,在分流台52上设置有助力体54,将会首先接触到较高的四射台455处,而四射台455为花瓣状,会对该水流分散为四个方向,流经顶板451倾斜表面减缓流动速度,并同步推动疏通球453沿着顶板451和扣夹452背部滚动至托垫454之间,随着疏通球453的滚动,来改变扣夹452的开口方向倾斜至分区沟421处,将流动在顶板451上的水流随着刺辊543转动归拢引导至分区沟421上,达到进一步得分散延流的作用,并在分区沟421的倒三角区内堆积增加,使得分区沟421下垂借助碾球424滚动在分区沟421上,进一步辅助分区沟421更加贴合在导引层423上,而碾球424的滚动会从踏板22a4上压制到旋片22a1,使得旋片22a1顺着碾球424滚动方向受磨合带22a5限制旋转,牵动立板a63同向摇摆,带动厚唇条a62翻转打开在换张网a65下压框a64内,挤压下压框a64下压至磨合带22a5上,使得磨合带22a5抖动打开分区沟421两侧的开口,有助于水流从各个换张网a65内等距且间歇性排放而出,保证其布水细小均匀,再沿着导引层423的波
纹状均匀平铺蔓延,保证其水流从延波盘544上匀速流入沉降池3,确保池内沉降物的稳定性。
32.在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“侧向”、“长度”、“宽度”、“高度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“侧”等指示的方位或位置关系为基于附图中所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
33.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。