一种通过超细气雾进行微覆膜的方法和装置与流程

文档序号:37341238发布日期:2024-03-18 18:11阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种通过超细气雾进行微覆膜的方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述使携带电荷的微小液态粒子连续覆盖于空间中的物体表面形成膜,是通过使所述携带电荷的微小液态粒子与所述物体表面产生电荷吸引来进行的。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述使携带电荷的微小液态粒子连续覆盖于空间中的物体表面形成膜,是在使所述携带电荷的微小液态粒子弥散于所述空间中的状态下进行的。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述空间中,源自所述携带电荷的微小液态粒子的负离子浓度为800×104-2500×104ions/cm3;源自所述携带电荷的微小液态粒子的活性成分释放速率为2-10g/min。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:采集所述物体表面的图像与标准图像比对,确定所述膜的形成。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述使携带电荷的微小液态粒子连续覆盖于空间中的物体表面形成膜,所进行的时间为10-60min。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述携带电荷的微小液态粒子的粒径为1-10μm。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述携带电荷的微小液态粒子通过雾化和电离得到。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述携带电荷的微小液态粒子通过将所述液体前驱体制剂雾化成微小液态粒子,将空气电离,使所述微小液态粒子与电离的空气接触得到。

10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述液体前驱体制剂包含选自过氧化氢、臭氧水、季铵盐和次氯酸盐中的至少一种;所述过氧化氢的浓度为1-30wt%。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述液体前驱体制剂还包含表面活性剂;所述表面活性剂为选自阴离子型表面活性剂、阳离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂中的至少一种。

12.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:通过所述使携带电荷的微小液态粒子连续覆盖于空间中的物体表面形成膜,使所述携带电荷的微小液态粒子与附着于所述物体表面的目标物接触并进行处理。

13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述目标物包括微生物、化学污染物、放射性污染物;

14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,所述微生物包括大肠杆菌、金黄色葡萄球菌、白色葡萄球菌;

15.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,所述化学污染物包括二氧化氮、二氧化硫、硫化氢、三乙胺;

16.根据权利要求15所述的方法,其特征在于,所述使携带电荷的微小液态粒子与附着于物体表面的目标物接触并进行处理,是在活性促进剂的存在下进行的;

17.根据权利要求16所述的方法,其特征在于,所述化学污染物还包括甲基氟磷酸异丙酯、甲基膦酸二甲酯、氰化氢、对硝基苯基二乙基磷酸酯、苯甲硫醚。

18.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,所述处理包括将所述放射性污染物固化。

19.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,还包括:收集所述固化后形成的膜型物并填埋;

20.一种实施根据权利要求1至19中任一项所述方法的微覆膜装置,其特征在于,包括:

21.根据权利要求20所述的装置,其特征在于,所述电离模块设置于所述装置的本体内部且与所述出风口连接;

22.根据权利要求20所述的装置,其特征在于,所述电离模块设置于所述装置的本体外部;

23.根据权利要求22所述的装置,其特征在于,所述电离模块在所述外部空间中多处分散设置。

24.根据权利要求20所述的装置,其特征在于,所述出风口包括扰动模块;

25.根据权利要求20所述的装置,其特征在于,所述电离模块包括离子发生器。

26.根据权利要求20所述的装置,其特征在于,所述雾化模块包括液体雾化器。

27.根据权利要求20所述的装置,其特征在于,还包括图像采集模块,所述图像采集模块配置为,采集所述外部空间中的物体表面的图像。

28.根据权利要求27所述的装置,其特征在于,所述图像采集模块包括数字显微镜、金相显微镜。


技术总结
本发明公开了一种通过超细气雾进行微覆膜的方法和实施该方法的微覆膜装置,该方法包括:使液体前驱体制剂形成携带电荷的微小液态粒子;使该携带电荷的微小液态粒子连续覆盖于空间中的物体表面形成膜。根据本发明的方法和装置通过电荷吸引使携带电荷的微小液态粒子能直接作用于物体表面,由此改善对附着于物体表面的目标物的处理效果,且可在弥散状态下高效完成处理。此外,根据本发明的方法和装置可使用低浓度制剂,具有改善的安全性和腐蚀性且易于获取;可用于微生物、化学污染物、放射性污染物及其混合物的处理,普适性强;并且涉及的工艺和设备简单,成本低,实用性强。

技术研发人员:王鹏,许勇,刘志强,任孝江,董家忠
受保护的技术使用者:北京同方清环科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/3/17
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