一种低温等离子除臭设备的制作方法

文档序号:21933103发布日期:2020-08-21 15:01阅读:381来源:国知局
一种低温等离子除臭设备的制作方法

本发明涉及除臭技术领域,特别涉及一种低温等离子除臭设备。



背景技术:

随着经济社会的发展,污染对环境的加剧,排放至空气中的臭废气也日益增多,各类臭废气中所含有的各种有毒气体和颗粒吸入物对公共环境造成的空气污染也日益严重。

在环保行业异味治理中,等离子法是一种较先进的空气治理技术,能耗低、运行费用低、维护工作量少。其工作原理为:等离子发生器是由高新技术材料制作的发射电极,可产生高浓度的α粒子,α粒子与空气中的氧分子进行碰撞而形成正、负离子群。正氧离子具有很强的氧化性,能在极短的时间内氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氢等污染因子,最终生成二氧化碳和水等无毒无害无二次污染的稳定物质,同时,负氧离子能破坏臭气中细菌的生存环境,降低室内细菌浓度,带电离子可以吸附大于自身重量几十倍的悬浮颗粒,靠自重沉降下来,从而清除臭气中的悬浮胶体、烟雾等,达到除臭的目的。

然而,等离子法的电极板可以吸附气体中的粉尘,造成板板荷尘过多过重,需经常经人工清理,一是增加了日常运行的工作维护量,二是停机维护耽误处理进程,再者,等离子发生器内部存在高压电极等,若操作不当,给操作者带来一定安全隐患,因此,该问题亟待解决。



技术实现要素:

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种低温等离子除臭设备,该除臭设备能够在除臭处理的同时进行自身的清洁,防止处理残留物堆积,无需停机人工清理。

为实现以上目的,本发明采用的技术方案如下:

本发明提供了一种低温等离子除臭设备,包括依次通过管道连通的吸气罩、等离子发生器、风机,所述等离子发生器包括壳体、位于其一端的进气口、以及另一端的排气口,进气口、排气口处均设置过滤层;

所述进气口至排气口之间至少设置一个与电源负极连接的套筒,套筒内通孔走向与气体流向一致,且其内部设有与电源正极连接的放电杆;

所述套筒内壁上设有滑动环,所述滑动环通过往复移动机构在套筒内滑动;所述滑动环上靠近排气口的端部设有倾斜指向放电杆末端的第一喷气孔、以及倾斜指向套筒内壁末端的第二喷气孔,第一喷气孔、第二喷气孔与外部压力气源管路连通。

进一步地,所述滑动环上靠近进气口的端部设有倾斜指向放电杆首端的第三喷气孔,第三喷气孔与外部压力气源管路连通。

进一步地,所述滑动环上与套筒内壁接触处设有弹性刷。

进一步地,所述滑动环外围设有用于对弹性刷限位的凹槽。

进一步地,所述滑动环由第一滑动体和第二滑动体配合而成,且第一滑动体与第二滑动体接触面上设有与第一喷气孔、第二喷气孔、第三喷气孔进口相通的流道,所述流道与外部压力气源管路连通。

进一步地,所述往复移动机构包括沿进气口至排气口方向移动的伸缩杆、支架,所述支架与伸缩杆的伸缩端连接,支架上沿进气口至排气口方向还设有推杆,推杆端部与滑动环连接。

进一步地,所述推杆内部中空,其一端与流道相通,另一端通过管接头与外部压力气源管路连通。

进一步地,所述放电杆靠近进气口的一端沿其径向设有尖刺部。

进一步地,所述壳体内位于排气口与过滤层之间设有均风板。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:该除臭设备能够在除臭处理的同时进行自身的清洁,防止处理残留物堆积,无需停机人工清理。

1、本发明中当滑动环回程向靠近进气口一侧移动时,还可以对放电杆上的堆积物进行反吹,使清理得更加彻底。

2、本发明中弹性刷随着滑动环移动时,可以将附着在套筒内壁上的顽固污渍强行刮除,使清理得更加彻底。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它相关的附图。

图1为本发明实施例的主视结构示意图;

图2为本发明实施例的图1中等离子发生器主视结构示意图;

图3为本发明实施例的图2中a处局部放大结构示意图;

图4为本发明实施例的图3中b处局部放大结构示意图;

图5为本发明实施例的图3中右视结构示意图;

图6为本发明实施例的图3中左视结构示意图;

图7为本发明实施例的图2中c处局部放大结构示意图;

图8为本发明实施例的图2中d-d剖面结构示意图。

图中:1、吸气罩;2、等离子发生器;201、进气口;202、排气口;21、壳体;22、过滤层;23、套筒;24、放电杆;241、尖刺部;25、滑动环;251、第一滑动体;252、第二滑动体;253、流道;254、伸缩杆;255、支架;256、推杆;26、第一喷气孔;27、第二喷气孔;28、第三喷气孔;29、弹性刷;30、凹槽;3、风机。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-图8,本发明实施例提供了一种低温等离子除臭设备,包括依次通过管道连通的吸气罩1、等离子发生器2、风机3,所述等离子发生器2包括壳体21、位于其一端的进气口201、以及另一端的排气口202,进气口201、排气口202处均设置过滤层22,可以是活性炭过滤层;进气口201与放置在臭气处的吸气罩1连通,排气口202通过风机3将净化后的气体排走。

所述进气口201至排气口202之间至少设置一个与电源负极连接的套筒23,套筒23可以阵列设置多个,套筒23内用于通过气流,套筒23内通孔走向与气体流向一致,即套筒23内走向沿进气口201至排气口202延伸方向设置,且其内部设有与电源正极连接的放电杆24;一个放电杆24与一个套筒23形成一个净化处理组,放电杆24端部可以通过安装架、绝缘子安装,套筒23可以是圆柱形状,相应放电杆24位于圆柱的中心处,这样放电杆24与套筒23之间形成高强电场,实现放电。

所述套筒23内壁上设有滑动环25,放电杆24可以从滑动环25中穿过,所述滑动环25通过往复移动机构在套筒23内滑动,其滑动方向与圆柱套筒23的轴线方向一致;所述滑动环25上靠近排气口202的端部设有倾斜指向放电杆24末端的第一喷气孔26、以及倾斜指向套筒23内壁末端的第二喷气孔27,第一喷气孔26、第二喷气孔27与外部压力气源管路连通。

具体地,臭气从排气口202进入,经过滤层22除掉大颗粒物,再进入套筒23内,在其内部高强电场作用下,臭气中的物质被破坏,并带电,在吸附气体中的悬浮颗粒后沉积在套筒23内的中后段,此时,滑动环25在往复移动机构作用下移动,其端部的第一喷气孔26可将放电杆24上的沉积物吹走,第二喷气孔27将套筒23内壁上的沉积物吹走,可以理解地,防止处理残留物堆积,无需停机人工清理,提高效率。

优选地,所述滑动环25上靠近进气口201的端部设有倾斜指向放电杆24首端的第三喷气孔28,第三喷气孔28与外部压力气源管路连通。本实施例中,当滑动环25回程向靠近进气口201一侧移动时,还可以对放电杆24上的堆积物进行反吹,使清理得更加彻底。

优选地,所述滑动环25上与套筒23内壁接触处设有弹性刷29。本实施例中,弹性刷29随着滑动环25移动时,可以将附着在套筒23内壁上的顽固污渍强行刮除,使清理得更加彻底。

优选地,所述滑动环25外围设有用于对弹性刷29限位的凹槽30。便于安装与更换。

优选地,所述滑动环25由第一滑动体251和第二滑动体252配合而成,且第一滑动体251与第二滑动体252接触面上设有与第一喷气孔26、第二喷气孔27、第三喷气孔28进口相通的流道253,所述流道253与外部压力气源管路连通。便于加工,且第一滑动体251与第二滑动体252接触面上处应该设于防止漏气的密封圈。

优选地,所述往复移动机构包括沿进气口201至排气口202方向移动的伸缩杆254、支架255,所述支架255与伸缩杆254的伸缩端连接,支架255上沿进气口201至排气口202方向还设有推杆256,推杆256端部与滑动环25连接。伸缩杆254可以为液压缸、气缸、电动推杆等,为保证支架255移动的稳定性,还可以在壳体底部设置导轨,支架255架设于导轨上(图中未示出),通过伸缩杆254实现支架255、推杆256、滑动环25的直线往复移动。

优选地,所述推杆256内部中空,其一端与流道253相通,即推杆256通过螺纹贯穿安装于第一滑动体251上,并伸至流道253内,另一端通过管接头与外部压力气源管路连通,多个推杆256可以通过多路管分支接头汇合连接于外部气泵的输出口。

优选地,所述放电杆24靠近进气口201的一端沿其径向设有尖刺部241。尖刺部241指向套筒23内壁,但不与其接触,更加利于放电,形成强电场。

优选地,所述壳体21内位于排气口202与过滤层22之间设有均风板203。本实施例中,均风板203将从吸气罩1进入的臭气均匀分散后输送给等离子发生器2的进气口201。

需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,由于文字表达的有限性,而客观上存在无限的具体结构,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进、润饰或变化,也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合;这些改进润饰、变化或组合,或未经改进将发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均应视为本发明的保护范围。

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