技术特征：
技术总结
本发明公开了一种自支撑微纳米结构的制作方法，包括：在衬底上形成牺牲层以及覆盖牺牲层的功能层；在功能层上预设图案化区域，在图案化区域内进行图案化处理，以在功能层中形成露出部分牺牲层的图案部；其中，部分牺牲层为图案化区域在牺牲层的投影范围内的牺牲层；将部分牺牲层去除，获得自支撑微纳米结构。本发明在制作自支撑微纳米结构时，可控性、重复性、成品率较高，能应用的微纳米材料种类较多，而且能够形成的自支撑微纳米结构更加复杂。
技术研发人员：黄永丹;熊康林;黄增立;许蕾蕾;孙骏逸;冯加贵;武彪;丁孙安;陆晓鸣
受保护的技术使用者：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
技术研发日：2018.10.26
技术公布日：2019.03.08