一种溶铜罐的制作方法

本实用新型涉及反应罐领域，特别涉及一种溶铜罐。

背景技术：

在对一些物体镀铜时，需要在电解槽内加入硫酸铜溶液，在镀铜过程中，硫酸铜溶液会逐渐变稀释，而溶铜罐就是用来增加硫酸铜浓度的反应罐，罐体会连通电解槽，电解槽内浓度较稀的硫酸铜溶液被抽入到罐体内，然后向罐体内加入氧化铜粉末，使氧化铜粉末与被稀释的硫酸铜溶液反应生成较浓的硫酸铜，再经过回流泵把较浓的硫酸铜溶液抽入电解槽内，以使电解槽能够较效率的对物件进行镀铜，而氧化铜粉末中可能会存在颗粒杂质，如果直接将溶铜罐内反应后的溶液抽入到电解槽内，则杂质颗粒会随着溶液进入到电解槽内，从而影响电解槽的镀铜效果。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种溶铜罐，其能够滤除硫酸铜液中的杂质。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种溶铜罐，包括罐体、进口和出口，所述罐体一端与电解槽连通，另一端在出口处设有回流泵并通过回流泵连通至电解槽，所述罐体内设有若干与罐底连接的第一挡板,以及若干与灌顶连接的第二挡板,所述第二挡板与第一挡板间隔设置, 所述第一挡板靠近出口设置，且所述第一挡板、第二挡板与罐体之间均留有间隙，靠近所述出口的第一挡板和第二挡板之间设有过滤板，与所述过滤板相邻且位于过滤板远离出口的一侧的第一挡板靠近间隙的一端设有缓冲板，靠近所述出口的第二挡板上开设有凹槽，所述缓冲板倾斜向下设置并延伸至凹槽内，且所述缓冲板与凹槽的槽底之间有空隙。

通过上述方案，电解槽内的硫酸铜溶液被抽入到罐体内，然后在出口处设有回流泵，把电解槽内反应后的溶液再次抽入到电解槽内，进口用于向罐体内加入氧化铜，当把氧化铜由进口加入到罐体内时，氧化铜会被第一挡板阻挡，使氧化铜和硫酸铜充分反应，分流槽用于使罐体内的溶液较均匀的通过间隙，从而使氧化铜和硫酸铜较均匀的反应，然后反应后的氧化铜经过第一挡板与罐体之间的间隙流入到第一挡板与第二挡板之间，再次通过第二挡板与罐体之间的间隙，依次循环而从罐体的一端流向出口处，如此在罐体内形成了折流，一方面可以增大氧化铜和硫酸铜在罐体内的反应时间，另一方面可以使氧化铜和硫酸铜更加均匀的混合，从而使氧化铜和硫酸铜较充分的反应，过滤板位于靠近出口的第一挡板和第二挡板之间，且第一挡板靠近出口设置，则第一挡板可以阻挡溶液直接从罐体中进入，而是先通过第一挡板与罐体的间隙，然后由于第一挡板的阻挡，硫酸铜溶液和氧化铜粉末不会直接到达处口处，而是会经过第一挡板和第二挡板之间的过滤板，在这个过程中，硫酸铜溶液中的一些杂质颗粒会被过滤板滤除，之后再经过第一挡板与罐体之间的间隙到达出口，则经过出口的硫酸铜溶液纯度会较高，进而使电解槽内的硫酸铜溶液比较纯净，溶液从第一挡板的间隙处落下时，会与罐体罐底的溶液发生强烈的撞击，从而产生较多的泡沫，而泡沫张力较大，经过长期的积累，泡沫会进入到过滤板内，从而影响过滤板的过滤效果，设有缓冲板用于减缓硫酸铜溶液与罐体内的溶液撞击，硫酸铜溶液会顺着缓冲板而运动至第一挡板上的凹槽内，溶液会先在凹槽内进行缓冲，然后顺着凹槽慢慢流下，使溶液不会直接与第二挡板的表面进行撞击，从而能使溶液沿着第二挡板缓慢的流下，减缓了泡沫的产生，从而能够使过滤板较效率的对溶液进行过滤。

进一步的，所述凹槽为圆弧槽。

通过上述方案，把凹槽设为圆弧槽，溶液通过缓冲板进入到圆弧槽内后，会由于冲力而沿着圆弧槽的槽壁较均匀的扩散，从而较大程度的缓冲了溶液的冲击力。

进一步的，所述圆弧槽位于缓冲板下方的部分为直面。

通过上述方案，若果不设有直面，溶液脱离圆弧槽时会由于冲力而脱离第二挡板，设有直面可以使溶液顺着直面而到达第二挡板的表面，当溶液脱离圆弧槽时，不会由于冲力而脱离第二挡板，能使溶液较顺利的沿着直面达到第二挡板的表面。

进一步的，所述直面上设有阻流板，所述阻流板向远离圆弧槽槽底的一端倾斜向上设置。

通过上述方案，设有阻流板可以减缓直面上溶液的流速，让直面上的溶液经过阻流板慢慢溢流出去，对溶液进行缓冲，使溶液能够较顺利的沿着第一挡板下滑。

进一步的，所述阻流板远离直面的一端位于圆弧槽内。

通过上述方案，这样设置，当溶液冲阻流板上溢流出来时，溶液会落到直面上，从而沿着直面到达第二挡板的表面。

进一步的，所述过滤板的上端与第一挡板等高。

通过上述方案，如果过滤板过高，溶液到达第一挡板靠近间隙的一侧时，就会直接通过间隙向出口流去，而无法完全通过过滤板，造成浪费，如果过滤板较低，则溶液通过过滤板的行程较短，会影响过滤效果。

综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

1、通过缓冲板和圆弧槽的配合，较大程度的缓冲了溶液与第一挡板的撞击，减缓了泡沫的产生，提高了过滤板的过滤效果，同时比较环保；

2、通过阻流板的设置，减缓了直面上溶液的流速。

附图说明

图1为本实施用于体现罐体的结构示意图；

图2为本实施用于体现过滤板的结构示意图；

图3为图2中Ａ的放大图。

图中，1、罐体；11、进口；12、出口；2、电解槽；21、回流泵；301、第一挡板；31、第二挡板；31、间隙；4、过滤板；5、通孔；51、盖板；6、缓冲板；61、空隙；7、凹槽；71、直面；711、阻流板；8、曝气泵。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

一种溶铜罐，如图1所示，包括有罐体1，罐体1为氧化铜和硫酸铜的反应提供空间，罐体1设有进口11和出口12，进口11用于往罐体1内加入氧化铜粉末，出口12用于排出反应后的溶液。

如图2所示，罐体1的一端与电解槽2连通，电解槽2用于给一些物件镀铜，在电解槽2内需要大量的硫酸铜，但是随着对物件的镀铜，会导致硫酸铜溶液逐渐稀释，进而影响镀铜的效果，因此把电解槽2内的硫酸铜与罐体1连通并通入到罐体1内，电解槽2内的硫酸铜溶液可以进入到罐体1内与罐体1内的氧化铜反应，另一端设有回流泵21，回流泵21连通出口12，在罐体1内反应增大硫酸铜溶液的浓度后再通过回流泵21抽入到电解槽2内，如此循环，可以保持电解槽2内硫酸铜溶液的浓度。

如图2所示，在罐体1内设有若干均匀分布的第一挡板3，第一挡板3一端与罐体1的罐底连接，另一端与罐体1之间留有间隙31，溶液可以从间隙31通过第一挡板3。

如图2所示，在罐体1内设有若干第二挡板301，第一挡板3和第二挡板301间隔设置，且靠近入口处的为第一挡板3，靠近出口12处的也为第一挡板3，第二挡板301一端与罐体1的灌顶固定连接，另一端与罐体1之间留有间隙31，溶液首先经过第一挡板3与罐体1之间的间隙31后再通过第二挡板301与罐体1之间的间隙31，依次循环，增大了溶液在罐体1内的行程，增加了溶液在罐体1内的反应时间。

如图2所示，在罐体1位于进口11的下方设有曝气机8，曝气机8是通过散气叶轮把气泡打出的同时搅拌气泡，使气泡发散，当氧化铜从进口11加入到罐体1内时，曝气机8发出的气泡不断搅拌硫酸铜溶液和氧化铜，使硫酸铜溶液和氧化铜较充分的混合到一起，由于有第一挡板3的设置，则氧化铜会首先被第一挡板3阻挡，利用曝气机使氧化铜和硫酸铜溶液较充分的反应。

如图2所示，第一挡板301靠近出口12设置，硫酸铜溶液最终会通过第一挡板301与罐体1之间的间隙31到达出口12，在靠近出口12的第一挡板3和第二挡板301之间设有用于对硫酸铜溶液过滤的过滤板4，从而使经过出口12的硫酸铜溶液比较纯净。

如图2和3所示，与过滤板4相邻且位于过滤板4远离出口12的一侧的第一挡板3靠近间隙31的一端设有缓冲板6，缓冲板6设置在第一挡板3靠近间隙31的一侧，且向靠近出口12的第二挡板301倾斜向下设置，在第二挡板301上设有凹槽7，凹槽7为圆弧槽，缓冲板6延伸至凹槽7内，并与凹槽7的槽底之间留有空隙61，溶液到达缓冲板6时，会沿着缓冲板6进入到凹槽7内，然后顺着空隙61沿着凹槽7滑下，这个过程利用圆弧槽缓冲了溶液对第二挡板301表面的冲击。

如图3所示，把圆弧槽位于缓冲板6下方的部分设置为直面71，且在直面71上设有阻流板711，阻流板711远离圆弧槽的槽底倾斜向上设置，且阻流板711远离直面71的一端位于圆弧槽内。

溶液经过圆弧槽过程：溶液由缓冲板6到达圆弧槽内时，会首先与圆弧槽的槽壁撞击，圆弧槽的槽壁把溶液扩散，缓冲了溶液的冲击力，然后溶液沿着直面71开始下滑，当溶液到达阻流板711的位置时，会被阻流板711阻挡，溶液会在阻流板711和直面71之间储蓄，当溶液较多时，会慢慢从阻流板711上溢流出去，由于阻流板711远离直面71的一端位于圆弧槽内，则溶液会溢流到直面71上，经过圆弧槽、直面71以及阻流板711的缓冲，溶液会较缓慢的顺着直面71到达第一挡板3上，然后沿着第二挡板301流下，很大程度的减缓了溶液与溶液的撞击，从而减少了泡沫的产生，进而能够使溶液较顺利的通过过滤板4。

如图1所示，在罐体1位于过滤板4的上方开设有通孔5，能够从通孔5处把过滤板4取出，而对过滤板4进行更换，同时在通孔5处铰接有盖板51，用于闭合通孔5，以防止杂质通过通孔5进入到罐体1内。

本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。