一种清洗装置的制作方法

技术特征：

1.一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括清洗室，所述清洗室包括用于放置待清洗掩膜板的第一电极室及第二电极室，所述第一电极室与所述第二电极室相邻设置且彼此连通，所述第一电极室与所述第二电极室之间设置有将所述第一电极室和所述第二电极室隔开的隔板，所述隔板的一端固定于所述清洗室的顶壁上，所述第一电极室靠近所述顶壁的上部设置有第一排气口，所述第二电极室靠近所述顶壁的上部设置有第二排气口。

2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述隔板包括固定部及与所述固定部相邻设置的隔离部，所述固定部的一端固定设置于所述清洗室的顶壁上，所述固定部的另一端与所述隔离部的一端连接，所述隔离部的另一端与悬空。

3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述隔离部为阴离子交换膜。

4.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第二电极室的数量为两个，所述第一电极室位于所述清洗室中部，所述第二电极室位于所述第一电极室与所述清洗室上与所述隔板平行的侧壁之间，所述隔板与所述清洗室上与所述隔板平行的侧壁之间的距离，为两个所述隔板之间的距离的三分之一。

5.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第一电极室中设置有用于固定待清洗的掩膜板的支撑台，待清洗的掩膜板设置于所述支撑台上，所述掩膜板为所述清洗装置的第一电极。

6.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗室上与所述隔板平行的侧壁上设置有电极板，所述电极板为所述清洗装置的第二电极。

7.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括液位计，所述液位计设置于所述清洗室的侧壁上靠近所述清洗装置的顶壁的一端。

8.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括药液过滤系统，所述药液过滤系统的入口端设置于所述清洗室的底壁上，并与所述第一电极室连通，所述药液过滤系统的出口端设置于所述清洗室上与所述隔板平行的侧壁上，并与所述第二电极室连通。

9.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括气体流量计，所述气体流量计设置于所述第一排气口中。

10.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括药液补充系统，所述药液补充系统设置于所述清洗装置的顶壁或者侧壁上，并与所述第一电极室和/或第二电极室连通。