一种无氰镀镉槽液、其配制方法及用途与流程

文档序号:16102939发布日期:2018-11-28 00:21阅读:1070来源:国知局

本发明涉及金属表面处理防护工程技术领域,具体来说是一种在金属材料上电镀镉镀层用的无氰镀镉槽液,同时还涉及该无氰镀镉槽液的配制方法,及在电镀镉层中的用途。



背景技术:

镉在空气中会迅速氧化形成一层致密的氧化膜,从而可以很大程度地提高材料的耐腐蚀性能,因此电镀镉在表面处理领域有广泛的应用。在海洋或者高温大气环境中,镉镀层的保护性能比锌镀层好,因此在航空航海等军工电子工业中,在高温高盐雾环境中工作的零件大多采用镀镉工艺进行表面防护。传统的氰化镀镉溶液和产品质量稳定,同时镀镉层具有分散性能好、深镀能力优越、镀层结晶细致、镀层耐腐蚀性能好、镀层柔软性好等特点。但氰化物有剧毒,也是国家严令禁止使用的污染物之一,对于当今社会提倡的节能减排、保护环境的前提下,无氰电镀是势在必行的,因此使用无氰镀镉来替代传统氰化镀镉是有非常具有时代意义的。

我国对无氰镀镉进行过一些研究,但相对较少。碱性无氰镀镉包括以三乙醇胺、氨三乙酸共同作配位剂的镀镉工艺和以 HEDP(羟基乙叉二膦酸)作配位剂的镀镉工艺。三乙醇胺镀镉存在镀液稳定性差的问题,HEDP 镀镉存在电流效率低和废水处理困难的问题,因此这两种工艺还未见规模化的生产应用。

据此,选用一种新型的弱配位剂代替氰化镀镉,既能满足环境的保护,同时也能避免较多杂质阴离子的干扰,方便废水处理。目前采用二羟甲基海因为配位剂的镀镉工艺尚未报道。本发明可以得到结晶细致、耐腐蚀性能好、柔软性好的镀层。



技术实现要素:

本发明的目的在于克服上述缺点而提供的一种无氰镀镉槽液。

本发明的另一目的在于提供该无氰镀镉槽液的配制方法。

本发明目的及解决其主要技术问题是采用以下技术方案来实现的:

本发明的一种无氰镀镉槽液,包含下述原料:

氧化镉 35~45 g/L;

二羟甲基海因 60~70 mL/L;

碳酸钾 80~85 g/L;

碳酸钠 40~50 g/L;

聚乙二醇 1~2g/L;

光亮剂 0.2~0.3g/L。

优选的,包含下述原料:

氧化镉 35 g/L; 二羟甲基海因 65 mL/L;

碳酸钾 85 g/L; 碳酸钠 40 g/L;

聚乙二醇 1 g/L; 光亮剂 0.2 g/L。

优选的,包含下述原料:

氧化镉 45 g/L; 二羟甲基海因 70 mL/L;

碳酸钾 85 g/L; 碳酸钠 40 g/L;

聚乙二醇 1 g/L; 光亮剂 0.3 g/L。

优选的,包含下述原料:

氧化镉 40 g/L; 二羟甲基海因 65 mL/L;

碳酸钾 80 g/L; 碳酸钠 50 g/L;

聚乙二醇 1 g/L; 光亮剂 0.3 g/L。

优选的,包含下述原料:

氧化镉 40 g/L; 二羟甲基海因 65 mL/L;

碳酸钾 85 g/L; 碳酸钠 50 g/L;

聚乙二醇 1 g/L; 光亮剂 0.3 g/L。

本发明的一种无氰镀镉槽液的配制方法,包括以下步骤:

(1)用适量去离子水将35~45 g/L氧化镉用适量去离子水调成糊状;

(2)向镀槽中加入占槽液体积的二分之一的去离子水,不断搅拌下依次加入60~70 mL/L二羟甲基海因和调成糊状的氧化镉,不断搅拌下缓慢加入质量分数为10%的稀硫酸,直至槽液溶解至澄清透明;

(3)依次向镀槽中加入80~85 g/L碳酸钾、40~50 g/L碳酸钠、1~2g/L聚乙二醇和0.2~0.3g/L光亮剂,室温下搅拌至槽液溶解至澄清透明;

(4)用质量分数为10%的稀硫酸或质量分数为10%的氢氧化钠溶液调节槽液pH值为5.0~6.0;

(5)将去离子水加入镀槽中直至达到槽液体积,得到镀镉槽液。

进一步的,镀镉槽液配制完成后可以使用0.02~0.5 A/dm2的小电流通电处理24h之后再进行镀镉。

一种无氰镀镉槽液在电镀镉层中的用途,包括如下步骤:

(1)工件常规前处理:将工件依次经过砂纸打磨、水洗、化学除油、热水洗、冷水洗、酸洗、水洗、活化、水洗处理。

化学除油液由55~80g/L 氢氧化钠、 35~55g/L 磷酸三钠、30~50 g/L 碳酸钠、10~30 g/L 硅酸钠和去离子水配制;将待镀镉工件放入60~70℃的化学除油液中处理10~15min;之后经温水彻底清洗。

除油后的试样立即置入15%体积浓度的盐酸酸洗液中浸泡30~60 s,之后经冷水冲洗。

酸洗后的试样再置入10%体积浓度的盐酸活化液中浸泡1~2min,之后经去离子水彻底清洗。

(2)将前处理后的工件在电流密度1.5~2 A/dm2、温度25~30℃下在无氰镀镉槽液进行常规电镀30~60 min,电镀阳极采用镉板且阴、阳极面积比为2:1。

(3)冷水洗、热水洗、干燥。

本发明同现有技术相比具有明显的优点和有益效果,由以上技术方案可知,本发明选用采用氧化镉为主盐、二羟甲基海因为配位剂,在中偏酸性的环境下进行电镀镉。槽液环保无毒、废水处理简单,且镀层沉积速度快、结晶细致、结合力好,2 A/dm2电流密度下镀速达0.55 μm/min。本发明有效避免了氰化镀镉污染环境、EDTA镀镉稳定性差、HEDP镀镉生产效率低等诸多问题;具有良好的应用价值和经济、社会效益。

附图说明

附图对本发明作进一步说明,但附图中的实施例不构成对本发明的任何限制。

图1为本发明实施例4制备的镀镉层的SEM形貌结构图。

图2为本发明实施例4制备的镀镉层的表面EDS谱图。

具体实施方式

下面结合实例对本发明进行详细描述,进一步解释和说明本发明的技术方案特点。

实施例1

步骤1,先将35 g/L氧化镉用适量去离子水调成糊状;向镀槽中加入规定体积二分之一的去离子水,不断搅拌下依次加入65 mL/L二羟甲基海因和调成糊状的氧化镉,之后缓慢加入10%的稀硫酸,直至溶液澄清;然后,加入85 g/L碳酸钾、40 g/L碳酸钠、1 g/L聚乙二醇和0.2 g/L萘二磺酸,用稀硫酸和10%的氢氧化钠调节溶液pH值为5.0~6.0,加水至规定体积,得到无氰镀镉镀液。

步骤2,将待镀镉的Q235钢板试样放入70℃的化学除油液中处理5min。除油液组成为70 g/L氢氧化钠,40 g/L磷酸三钠,40 g/L碳酸钠、10 g/L硅酸钠。零件除油后经温水彻底清洗,必须保证整个零件表面亲水,连续水膜60秒以上,则认为除油合格。将除油后的试样浸入酸洗液(15 vol% HCl)中处理1min后用流动水清洗,然后浸入活化液(10 vol% HCl)中浸泡30~60 s;之后经去离子水彻底清洗。

步骤3,经步骤2处理的试样置于步骤1配制的镀镉液中,在25℃下,用2A/dm2电流密度电镀30 min;镀镉后将试样经用离子水彻底清洗,冷风吹干。

经上述工艺能在基材表面获得细致均匀、结合良好的灰白色镀层。此体系中主盐含量较低,镀层沉积速度略慢,镀速约为0.27 μm/min,整平度约82%。

实施例二

步骤1,先将45 g/L氧化镉用适量去离子水调成糊状;向镀槽中加入规定体积二分之一的去离子水,不断搅拌下依次加入70 mL/L二羟甲基海因和调成糊状的氧化镉,之后缓慢加入10%的稀硫酸,直至溶液澄清;然后,加入85 g/L碳酸钾、40 g/L碳酸钠、1 g/L聚乙二醇和0.3 g/L萘二磺酸,用稀硫酸和10%的氢氧化钠调节溶液pH值为5.0~6.0,加水至规定体积,充分搅拌,得到无氰镀镉溶液。

步骤2,将待镀镉的Q235钢板试样放入70℃的化学除油液中处理5min。除油液组成为70 g/L氢氧化钠,40 g/L磷酸三钠,40 g/L碳酸钠、10 g/L硅酸钠。零件除油后经温水彻底清洗,必须保证整个零件表面亲水,连续水膜60秒以上,则认为除油合格。将除油后的试样浸入酸洗液(15 vol% HCl)中处理1min后用流动水清洗,然后浸入活化液(10 vol% HCl)中浸泡30~60 s;之后经去离子水彻底清洗

步骤3,经步骤2处理的试样置于步骤1配制的镀镉液中,在25℃下,用2A/dm2电流密度电镀30 min;镀后,试样经去离子水彻底清洗,冷风吹干。

经上述工艺能在基材表面获得结晶细致、柔软性好的灰白色镀层。镀层沉积速度约为0.40 μm/min,30min时厚度约为12 μm,整平度81%;180°弯折时镀层无爆裂。

实施例三

步骤1,先将40 g/L氧化镉用适量去离子水调成糊状;向镀槽中加入规定体积二分之一的去离子水,不断搅拌下依次加入65 mL/L二羟甲基海因和调成糊状的氧化镉,之后缓慢加入10%的稀硫酸,直至溶液澄清;然后,加入80 g/L碳酸钾、50 g/L碳酸钠、1 g/L聚乙二醇和0.3 g/L光亮剂(十二烷基苯磺酸钠),用稀硫酸和10%的氢氧化钠调节溶液pH值为5.0~6.0,加水至规定体积,充分搅拌,得到无氰镀镉溶液。

步骤2,将待镀镉的Q235钢板试样放入70℃的化学除油液中处理5min。除油液组成为70 g/L氢氧化钠,40 g/L磷酸三钠,40 g/L碳酸钠、10 g/L硅酸钠。零件除油后经温水彻底清洗,必须保证整个零件表面亲水,连续水膜60秒以上,则认为除油合格。将除油后的试样浸入酸洗液(15 vol% HCl)中处理1min后用流动水清洗,然后浸入活化液(10 vol% HCl)中浸泡30~60 s;之后经去离子水彻底清洗。

步骤32,经步骤2处理的试样置于步骤1配制的镀镉液中,在25℃下,用1.5 A/dm2电流密度电镀30 min;镀后,试样经去离子水彻底清洗,冷风吹干。

经上述工艺同样能在基材表面能获得结晶细致、柔软性好的亮白镀层,镀层沉积速度约0.37 μm/min,整平度约88%。

实施例四

步骤1,先将40 g/L氧化镉用适量去离子水调成糊状;向镀槽中加入规定体积二分之一的去离子水,不断搅拌下依次加入65 mL/L二羟甲基海因和调成糊状的氧化镉,之后缓慢加入10%的稀硫酸,直至溶液澄清;然后,加入85 g/L碳酸钾、50 g/L碳酸钠、1 g/L聚乙二醇和0.3 g/L光亮剂(十二烷基苯磺酸钠),用稀硫酸和10%的氢氧化钠调节溶液pH值为5.0~6.0,加水至规定体积,充分搅拌,得到无氰镀镉溶液。

步骤2,将待镀镉的Q235钢板试样放入70℃的化学除油液中处理5min。除油液组成为70 g/L氢氧化钠,40 g/L磷酸三钠,40 g/L碳酸钠、10 g/L硅酸钠。零件除油后经温水彻底清洗,必须保证整个零件表面亲水,连续水膜60秒以上,则认为除油合格。

将除油后的试样浸入酸洗液(15 vol% HCl)中处理1min后用流动水清洗,然后浸入活化液(10 vol% HCl)中浸泡30~60 s;之后经去离子水彻底清洗。

步骤3,经步骤2处理的试样置于步骤1配制的镀液中,在30℃下,用2A/dm2电流密度电镀60 min;镀后,试样经去离子水彻底清洗,冷风吹干。

经上述工艺可在基材表面获得结晶细致、光亮均匀、柔软性好的亮白镀层;此时镀层沉积速度达0.55 μm/min,60min时镀层厚度约32~33 μm,整平度约86%,经180°弯折时镀层无爆裂。

以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,任何未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

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