本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种用于真空镀膜的氢气产生装置。
背景技术：
为实现精密薄膜的物理沉积工艺采用氢气作为反应气体，工艺对气体纯度要求极高，使用水电解制氢即产即用、安全环保、可循环使用等优点，但水电解制氢输出杂质主要为水汽，目前采用的方法主要为使用变色硅胶进行水气吸附；但存在问题当变色硅胶进行水气吸附饱和时需要更换来保证输出的氢气纯度。此外，还需要定期进行目视巡检看硅胶颜色状态确认是否吸附饱和，自动化程度低；而且在设备保养或待机时，管道中的氢气纯度会下降，会影响接后续的产品工艺。
技术实现要素：
本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种用于真空镀膜的氢气产生装置，通过设置各功能组件实现对氢气的除水干燥，实现真空镀膜所需高纯度氢气的产生。
本实用新型目的实现由以下技术方案完成：
一种用于真空镀膜的氢气产生装置，其特征在于：所述装置至少包括水箱、电解槽、气水分离器以及至少两个净化缸，其中所述水箱一端为进水口，另一端与所述电解槽连通，所述电解槽连接所述气水分离器，所述气水分离器并联所述净化缸，所述净化缸具有出气口。
所述至少两个净化缸并联有一氢反应装置，所述氢反应装置与所述水箱相连通。
所述气水分离器连接有压力控制器。
所述水箱连接有补水泵，在所述水箱内设置有液位计，所述补水泵的工作状态由所述液位计所发出的液位信号控制。
所述净化缸的所述出气口与真空镀膜机相连，且所述出气口与所述真空镀膜机之间设置有质量流量计。
本实用新型的优点是：实现了无需使用变色硅胶的氢气净化，并且通过净化器间的控制切换实现了无人值守，实现了自动化；且通过净化器间切换，一路净化器进行工作，一路净化器进行再生吹扫，压力实现自动控制来实现除水干燥；对再生吹扫排出的氢气利用反应装置转换为水重新排至水槽，实现可循环再生。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：
如图1所示，图中标号1-14分别表示为：补水泵1、液位计2、水箱3、电解槽4、气水分离器5、压力控制器6、流量阀7、控制阀8、净化缸9、净化缸10、控制阀11、氢反应装置12、质量流量计13、真空镀膜机14。
实施例：如图1所示，本实施例中用于真空镀膜的氢气产生装置用于向真空镀膜机14供送高纯度氢气。
如图1所示，本实施例中的氢气产生装置首先采用电解法产生氢气，其包括一水箱3。水箱3连接有补水泵1，补水泵1可将作为原料的水补充至水箱3之中。在水箱3之中设置有液位计2，液位计2可实时检测水箱3内的当前液位；当水箱3内的水不足时，液位计2发出低液位信号，补水泵1得到信号后开始工作以向水箱3内补水。
如图1所示，水箱3与电解槽4相连通，电解槽4可对水箱3所供送来的水进行电解，将水电解为氧气和氢气，氧气通过管路返回水箱3内收集，氢气则供送至气水分离器5。气水分离器5用于对电解槽4所供送的氢气进行除水，即除去氢气所携带出的水分，所去除的水分通过管路排回水箱3循环使用。气水分离器5连接有压力控制器6，以对气水分离器5内的压力进行控制，保证安全。
如图1所示，经气水分离器5除水的氢气供送至净化缸9或净化缸10，净化缸9和净化缸10用于对氢气进行干燥和净化。净化缸9和净化缸10通过控制阀8与气水分离器5构成并联，从而使净化缸9和净化缸10构成互用结构。
如图1所示，在净化缸9和净化缸10之间设置有流量阀7。净化缸9和净化缸10还通过控制阀8并联至氢反应装置12，氢反应装置12可将氢气转换为水并重新排回至水箱3。具体而言，当净化缸9工作时，利用净化缸9的部分产生的氢气对净化缸10进行再生吹扫，经吹扫排出氢气利用氢反应装置12转换为水并重新排回至水箱3供循环使用；反之净化缸10工作时，采用相同的方式对净化缸9进行再生吹扫。
如图1所示，净化缸9和净化缸10分别通过控制阀11出气。控制阀11连接至真空镀膜机14，且两者之间设置有质量流量计13，质量流量计13可以实现氢气流量大小进行控制，供真空镀膜机14工艺反应使用，从而实现精密镀膜的物理沉积工艺。
虽然以上实施例已经参照附图对本实用新型目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本实用新型作出各种改进和变换，故在此不一一赘述。