管道组件及形成方法与流程

文档序号:19682114发布日期:2020-01-14 17:31阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种形成管道组件的方法,其特征在于,所述方法包含:

提供具有外表面和内表面的管道,所述外表面限定外周,并且所述内表面限定第一流体通道;

利用牺牲本体的至少一部分覆盖所述外表面的至少一部分;

在所述牺牲本体的露出表面上沉积金属层;以及

去除所述牺牲本体以在所述金属层和所述外表面的所述至少一部分之间限定至少一个附加流体通道。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中,沉积进一步包含:在所述管道的露出表面上沉积所述金属层。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中,沉积所述金属层进一步包含:电铸所述金属层。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,其中,提供所述管道进一步包含:形成所述管道。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,其中,形成所述管道进一步包含:拉制金属管以形成所述管道。

6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,进一步包含:将所述管道的一端联接到凸缘,以及利用所述牺牲本体的另一部分覆盖所述凸缘的至少一部分。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,其中,沉积进一步包含:在所述凸缘的一部分上沉积所述金属层。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,其中,覆盖进一步包含,利用第一牺牲本体覆盖所述外表面的第一部分,以及利用第二牺牲本体覆盖所述外表面的不同于所述第一部分的第二部分。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,其中,沉积进一步包含:至少在所述第一牺牲本体的露出表面和所述第二牺牲本体的露出表面上沉积金属层。

10.如权利要求8所述的方法,其特征在于,其中,去除进一步包含:去除所述第一牺牲本体以限定第一附加流体通道,以及去除所述第二牺牲本体以限定第二附加流体通道。

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