一种生箔机上液槽的制作方法

本实用新型涉及电解铜箔领域，具体而言，涉及一种生箔机上液槽。

背景技术：

现有的锂电双面光铜箔的方式主要有机械延展法与化学电解法，其中的化学电解法制备的铜箔厚度较薄，生产成本低、生产能力强。生箔机则是化学电解法制备铜箔的关键设备，传统的生箔机一般由上液装置、阳极槽、阴极辊、剥离辊、导向辊、张力辊、防氧化装置、收卷辊组成。

在锂电双面光铜箔生产流程中，生箔机电解时，电解液从生箔机底部上液，从阴极辊和阳极板之间的间隙流过，至阳极槽上部流出，生箔则从阴极辊剥离，经过防氧化、烘干等一系列处理后进行收卷。

在生产中发现，上液系统对于整个铜箔产品的性质影响较大，尤其是双面光铜箔，薄或者超薄的产品，上液的均匀性对其品质起着决定性的作用。现有技术中的生箔机上液系统，由13个上液口组成，溶液从上液口直接流入电解槽，没有相应的缓冲部件，这就导致上液口对应位置电解液上涌、流速快，而相邻两个上液口的中间位置的电解液是有上液口的电解液分散而来，流速自然缓慢，这种流速不均，会引发铜箔成品的水波纹等缺陷，尤其对于超薄高抗拉双面光铜箔，水波纹明显、抗拉强度下降、成品率下降，成品率下降对于电解行业就意味着高返工率、重复多道工序带来的高电耗和高生产成本。基于以上背景技术，研发人员提出了一种生箔机上液槽。

技术实现要素：

为了弥补以上不足，本实用新型提供了一种生箔机上液槽，旨在改善上液流速不均引发的超薄高抗拉双面光铜箔易产生水波纹缺陷的问题。

本实用新型是这样实现的：

一种生箔机上液槽，包括槽体、上液口，多组上液口设在槽体内；槽体内还竖直设有隔板，隔板位于相邻的上液口之间，隔板立面上设有开孔，所有隔板的开孔内穿设一整根混液管；上液口包括上液口槽和上液嘴，上液口槽内自下而上设有两个缓冲板。

在本实用新型的一种实施例中，位于液口槽下部的缓冲板与水平方向的夹角60＞α＞45。

在本实用新型的一种实施例中，位于液口槽上部的缓冲板与水平方向的夹角45＞β＞30。

在本实用新型的一种实施例中，上液口槽外圈设有连接部，连接部通过上液口压板固定在槽体上。

在本实用新型的一种实施例中，连接部与上液口压板之间设有垫片，连接部、垫片、上液口压板之间通过螺栓固定在槽体上。

本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型先是利用缓冲板来缓冲上液系统中的电解液，使其流速减缓、变平稳，再利用隔板与混液管的配合使得进入槽体的电解液从上液口槽冒出时被隔板和混液管从横向和竖向拦截混流，从而就能均匀的流入阳极板和阴极辊的间隙，避免电镀不均现象，大幅减少双面光铜箔的水波纹等缺陷，尤其是超薄高抗拉双面光铜箔的水波纹问题，提高成品率，降低返工率，节省大量返工流程和电耗、能耗。

（2）上下缓冲板的设置且角度不同，是因为初始流入上液口槽的电解液流速较快，角度设置较小是冲击力大，缓冲板易损坏，所以设置两级，角度从下到上依次减小，保证缓冲效果的同时延长缓冲板更换时间；上液口槽将连接部通过螺接方式连接在槽体上，方便检修。

（3）本实用新型结构简单，改造方便、成本低，材料易得，检修周期长，实用性好，可以大大降低返工率，省电效果显著。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1的俯视图；

图3是图2的剖视图；

图4是上液口的结构示意图；

图5是图1中a部的局部放大图。

图中：100-槽体；110-隔板；111-开孔；120-混液管；200-上液口；210-上液口槽；211-连接部；220-上液嘴；230-上液口压板；231-螺栓；232-垫片；240-缓冲板。

具体实施方式

为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

实施例

请参阅图1-5，本实用新型提供一种技术方案：

一种生箔机上液槽，包括槽体100、上液口200，多组上液口200设在槽体100内；槽体100内还竖直设有隔板110，隔板110位于相邻的上液口200之间，隔板110立面上设有开孔111，所有隔板110的开孔111内穿设一整根混液管120；上液口200包括上液口槽210和上液嘴220，上液口槽210内自下而上设有两个缓冲板240。选择混流管而不是板状结构式因为上液嘴220处流速最快，管状结构切向靠近上液嘴220，拦截效果明显，但是对于上液嘴220中心向周边越扩散，流速越低，管状结构的拦截混流位置正好对应抬升，至于上液嘴220四周的位置，甚至无需刻意拦截混流，所以在此管状结构要优于平面的板状结构。

请参阅图5，在一种实施例里，位于上液口槽210下部的缓冲板240与水平方向的夹角60＞α＞45；位于上液口槽210上部的缓冲板240与水平方向的夹角45＞β＞30。

请参阅图5，上液口槽210外圈设有连接部211，连接部211通过上液口压板230固定在槽体100上。具体的：连接部211与上液口压板230之间设有垫片232，连接部211、垫片232、上液口压板230之间通过螺栓231固定在槽体100上。

本实用新型具体的作原理如下：

使用前，将上液口200安装在槽体100内，具体的：将连接部211通过上液口压板230和螺栓231固定在槽体100上。

使用时，上液系统中的电解液硫酸铜经上液口200进入槽体100，流经上液口200时，其中两级设置的缓冲板240降低流速，使硫酸铜缓慢涌出上液嘴220，在隔板110和混液管120的水平竖直双向拦截下，流速趋于稳定后进入阳极板和阴极辊的间隙，避免电镀不均现象，大幅减少双面光铜箔的水波纹等缺陷，尤其是超薄高抗拉双面光铜箔的水波纹问题，提高成品率，降低返工率，节省大量返工流程和电耗、能耗。

以上所述仅为本实用新型的优选实施方式而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。