1.一种金属电镀前的处理设备，其特征在于，包括：
真空装置；
密闭加热装置，所述真空装置与所述密闭加热装置连通；
氢气装置，所述氢气装置与所述密闭加热装置连通；
其中，所述密闭加热装置用于加热金属；所述真空装置用于对所述密闭加热装置内的金属进行真空处理；所述氢气装置用于往所述密闭加热装置中通入氢气。
2.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述处理设备还包括氢气排放装置，所述氢气排放装置与所述密闭加热装置连通，用于排放所述密闭加热装置中通入的氢气。
3.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述处理设备还包括氮气装置，所述氮气装置与所述密闭加热装置连通，用于往所述密闭加热装置中通入氮气。
4.根据权利要求3所述的处理设备，其特征在于，所述氮气装置包括氮气供应装置和氮气进气管道；所述氮气供应装置通过所述氮气进气管道与所述密闭加热装置连通。
5.根据权利要求4所述的处理设备，其特征在于，所述氮气装置还包括设置在所述氮气进气管道上的阀门，所述阀门用于调整通入的氮气的流量。
6.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述氢气装置包括氢气供应装置和氢气进气管道；所述氢气供应装置通过所述氢气进气管道与所述密闭加热装置连通。
7.根据权利要求6所述的处理设备，其特征在于，所述氢气装置还包括设置在所述氢气进气管道上的阀门，所述阀门用于调整通入的氢气的流量。
8.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述密闭加热装置包括：密闭的腔室和设置在所述密闭的腔室内的加热元件。
9.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述真空装置包括真空泵、连接管和阀门；所述真空泵通过所述连接管与所述密闭加热装置连通，所述阀门设置在所述连接管上，用于调整所述真空泵的真空压力。
10.根据权利要求1所述的处理设备，其特征在于，所述处理设备还包括控制系统和显示仪表；
所述控制系统与所述真空装置、所述密闭加热装置和所述氢气装置分别连接，用于控制所述真空装置、所述密闭加热装置以及所述氢气装置的各自的开启或者关闭；
所述显示仪表与所述密闭加热装置连接，用于测量并显示所述密闭加热装置中的温度和气压。