1.一种电镀搅拌装置，其特征在于，包括电镀槽和搅拌组件，所述搅拌组件包括设置于电镀槽内的匀流板、夹持匀流板的夹持件、悬浮组件以及旋转组件；
2.根据权利要求1所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述运动悬浮磁力件以及运动旋转磁力件为永磁体，固定悬浮磁力件和固定旋转磁力件为可通电线圈。
3.根据权利要求1所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述固定悬浮磁力件固定于运动悬浮磁力件的下方，固定悬浮磁力件与运动悬浮磁力件间同极相对。
4.根据权利要求1所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述固定悬浮磁力件固定于运动悬浮磁力件的上方，固定悬浮磁力件与运动悬浮磁力件间异极相对。
5.根据权利要求1所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述运动悬浮磁力件与运动旋转磁力件为同一磁力件，该磁力件与固定悬浮磁力件及固定旋转磁力件三者均与重力方向及匀流板的旋转面具有夹角。
6.根据权利要求1所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述电镀槽内设置有两个搅拌组件即第一搅拌组件和第二搅拌组件，第二搅拌组件和第一搅拌组件所包含的两个匀流板呈上下设置且两个匀流板存在转速差。
7.根据权利要求6所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述第一旋转组件和第二旋转组件的若干固定旋转磁力件均为可通电线圈，第一旋转组件和第二旋转组件的固定旋转磁力件分别通电产生磁极交错布置的磁场，使第一匀流板和第二匀流板沿着相同的方向旋转；调整第一旋转组件和第二旋转组件，使第一旋转组件和第二旋转组件产生的旋转驱动力大小不同，从而使第一匀流板和第二匀流板存在转速差。
8.根据权利要求6所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述第一旋转组件和第二旋转组件的若干固定旋转磁力件均为可通电线圈，第一旋转组件和第二旋转组件的固定旋转磁力件分别通电产生磁极交错布置的磁场；调整第一旋转组件和第二旋转组件，使第一旋转组件和第二旋转组件产生的旋转驱动力方向相反，从而使第一匀流板和第二匀流板沿着相反的方向旋转。
9.根据权利要求6所述的电镀搅拌装置，其特征在于，所述第二搅拌组件的固定悬浮磁力件设置于第一搅拌组件的夹持件的上方。
10.一种电镀设备，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的电镀搅拌装置。