一种电镀液槽装置的制造方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电镀领域，尤其是涉及一种用于连续水平电镀的电镀液槽装置。。【【背景技术】】
[0002]金属在各种不同环境下使用时，由于外界介质在金属表面上的化学和电化学作用而产生了金属腐蚀。金属腐蚀的结果，不仅是金属本身的损失，而且由于金属制品结构的损坏而失去使用价值造成人力物力的浪费，其价值比金属本身要大很多倍。因此，在大量生产金属和金属制品的同时，就必须与金属的腐蚀进行斗争。电镀工艺是增加金属防护性能及改善金属表面质量的最有效的方法之一。金属制品进行电镀就是为了保护金属不受腐蚀、改善金属制品的性能和增加制品表面的美观。
[0003]金属的电镀过程通常都是在电镀液槽内进行。传统的电镀液槽通常只有单个或者多个独立的电镀液槽。在这种情况下，当产品电镀完一层金属要进行下一层金属电镀时，就需要把产品从一个电镀液槽中提起再运送至另外一个电镀液槽中放下进行电镀。这种电镀液槽使得电镀时需要增加运输设备把产品从一个电镀液槽运至其他电镀液槽，这样既增加了设备投入成本，又难以保证整个电镀过程的连续性和电镀的质量。
[0004]除了电镀液槽本身会对电镀作业的质量产生影响外，当电镀液槽内的药水不同时，也会对电镀液槽产生不同的要求。比如珍珠镍电镀，镀层呈乳白色，无光泽，似半朦胧的消光状态。通常珍珠镍电镀液中含有多种添加剂，沙剂是其中的一种添加剂。沙剂是非离子型表面活性剂所形成的乳液，具有反常的溶解度，在电解液中呈不稳定状态，会逐步分解。电镀液受到的扰动越剧烈，沙剂越容易分解，减少了电镀液的时效性。所以在珍珠镍电镀中，减小电镀液受到的扰动尤为重要。现有的电镀液槽在电镀作业的过程中，往往会对电镀液槽内的药水产生较大的扰动，对电镀作业产生不利的影响。
【【实用新型内容】】
[0005]为克服现有电镀液槽装置不能连续进行电镀，并且电镀过程中对电镀液的扰动较大的缺点，本实用新型提供一种电镀作业效率高，电镀作业质量好，生产标准化的电镀液槽
目.ο
[0006]本实用新型提供了一种电镀液槽装置，包括电镀液子槽、电镀液母槽，该电镀液子槽设于电镀液母槽中；其中所述电镀液子槽下部还设有一空腔结构，所述空腔结构底部与电镀液母槽连通，所述空腔结构顶部与电镀液子槽底部连通。
[0007]优选地，所述电镀液母槽及电镀液子槽在垂直于作业流水线方向的侧壁上分别对称设置有电镀液母槽凹形槽口与电镀液子槽凹形槽口，该电镀液母槽凹形槽口与电镀液子槽凹形槽口位置对应并处于同一对称轴上。
[0008]优选地，还包括液位控制装置，该液位控制装置包括与电镀液子槽凹形槽口齐平的高液位检测装置及低于电镀液子槽凹形槽口的最低位l_3cm的低液位检测装置。
[0009]优选地，该液位控制装置还包括电磁开关装置，所述高液位检测装置，所述低液位检测装置与电磁开关装置连接。
[0010]优选地，该液位控制装置还包括与电磁开关装置连接的药水进水管，药水由药水进水管进入电镀液母槽中。
[0011]优选地，所述电镀液槽装置进一步包括一液位栗，该液位栗包括一栗机主体及设置在栗机主体上的一液位栗进水口、一液位栗出水口 ；所述电镀液母槽中设有一第一连接口和第二连接口，该液位栗出水口与第一连接口通过管道连接，该液位栗进水口与第二连接口通过管道连接。
[0012]优选地，所述空腔结构底部设有一子槽连接口，所述第一连接口与该子槽连接口通过管道连接，所述孔洞设置在子槽隔板的四周。
[0013]优选地，所述电镀液母槽的第二连接口与电镀液母槽中药水接触的一面还设有一过滤装置，该过滤装置包括一过滤筛网。
[0014]优选地，该电镀液槽装置还包括吹气装置，该吹气装置设置在电镀液母槽的一侧槽壁上。
[0015]优选地，该电镀液母槽的下表面还设有钛盘管。
[0016]与现有技术相比，本实用新型提供的一种电镀液槽装置，可以实现当多个电镀液槽装置拼装使用时，待电镀产品可以随钢带在电镀液作业流水线方向移动，并从一个电镀液槽进入另一个电镀液槽中，从而实现电镀作业的水平连续进行。在本发明所提供的电镀液槽装置中还包括吹气装置，该吹气装置可以对装在钢带的挂具上的待电镀产品上残留的药水进行清除。
[0017]本实用新型中的电镀液槽装置适用于珍珠镍与镍钴合金电镀，相对传统连续循环电镀线体，可以有效减小电镀液子槽内电镀液与电镀液母槽内电镀液的液位落差减小，尤其解决珍珠镍电镀液在电镀过程中的循环冲击力减少到没有状态，从而更有利于抑制珍珠镍溶液中有机成分的分解，从而大幅延长电镀溶液中珍珠镍的时效性及其利用率，有效降低生产成本，提高电镀产品质量，并从根本上解决了在连续循环电镀线体上进行珍珠镍电镀与镍钴合金电镀的难题。
【【附图说明】】
[0018]图1是本实用新型中电镀液槽装置第一实施例的俯视图；
[0019]图2是本实用新型中电镀液槽装置第一实施例的A-A剖面图；
[0020]图3是本实用新型中电镀液槽装置第一实施例的B-B剖面图；
[0021 ]图4是本实用新型中电镀液槽装置第一实施例的液位栗的结构示意图。
【【具体实施方式】】
[0022]为了使本实用新型的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0023]请参阅图1、图2和图3，本实用新型提供了一种该电镀液槽装置30包括电镀液母槽31、电镀液子槽32和液位栗33。其中，该电镀液子槽32设于电镀液母槽31中，该液位栗33与电镀液子槽32与电镀液母槽31连接，所述的电镀液母槽31为一上表面敞开的槽体，其中电镀液母槽31在垂直于电镀作业流水线方向侧壁上对称设置有电镀液母槽凹形槽口311。在电镀作业过程中，钢带101通过挂具102可以运载待电镀产品穿过电镀液子槽凹形槽口 321和电镀液母槽凹形槽口 311形成的通路，使得待电镀工件进入到电镀液子槽32内进行电镀作业。
[0024]该电镀液母槽32的中部设置有两个支撑小梁312，在支撑小梁312上设有一下凹结构3121，该下凹结构3121与电镀液子槽32契合，用于将跟电镀液子槽32进行卡固并支撑电镀液子槽32。
[0025]电镀液母槽31的下表面设置有第一连接口 313、第二连接口 314和排水口 315。其中，排水口 315可用于快速排出电镀液母槽31中的药水，从而实现电镀液母槽31的清洗及药水更换。电镀液母槽31下表面还设有钛盘管316，用于对电镀液母槽中的药水进行加热，从而有效控制电镀液母槽中的反应进程。
[0026]所述电镀液子槽32也为一上表面敞开的槽体，电镀液子槽32在垂直于电镀作业流水线方向的侧壁上还设有突出的翼缘322，该翼缘322所在电镀液子槽32的侧壁上对称设置有电镀液子槽凹形槽口 321。该电镀液子槽32通过卡固在电镀液母槽31内部的支撑小梁312上，电镀液子槽32的翼缘322能防止电镀液子槽32在电镀作业流水线方向上发生较大位移，起到限位作用。
[0027]电镀液子槽32和电镀液母槽31形成一体后，电镀液子槽凹形槽口 321和电镀液母槽凹形槽口 311位置相对应并处于同一对称轴上，可以形成通路，该通路的方向就是作业流水线的方向。
[0028]该电镀液子槽凹形槽口 321比电镀液母槽凹形槽口 311低l-3cm，这也使得电镀液子槽32中电镀液与电镀液母槽31中电镀液的液位差相差不大，可以进一步使电镀液子槽32内的药水回流至电镀液母槽31的距离缩短，药水落差可达到零落差，减轻了电镀作业过程中对药水的扰动，从而能更好地保证电镀作业的质量。
[0029]此外，电镀液子槽32的下部设有一个空腔结构323，该空腔结构323与电镀液子槽32间设有一子槽隔板324，该子槽隔板324的四周对称设置有贯穿子槽隔板324的16个孔洞325。该空腔结构323的下表面设有一贯通空腔下表面的子槽连接口 326，该电镀液母槽31的第一连接口 313与该子槽连接口 326通过管道(图中未示)连接。所述子槽隔板324与子槽连接口 326相对应处不设孔洞。子槽隔板324中孔洞325的特殊分布，可以使从子槽连接口 326中进入到空腔结构323中的药水不会立即进入到电镀液子槽32中，而是会先进入空腔结构323中并累积到一定液位高度，再由设置在子槽隔板324四周且不直接与子槽连接口 326相对的孔洞325平稳进入到电镀液子槽32中，从而可以最大限度的减少由于新的药水补入而对电镀液子槽32中电镀液药水产生扰动，从而可以有效地抑制电镀液子槽32中电镀液的有机成分的分解。
[0030]另外，电镀液母槽31在平行于电镀作业流水线方向的侧壁上设置有吹气装置36、过滤装置34和液位控制装置35。
[0031]其中，该吹气装置36用于将钢带101的挂具102上载有的待电镀产品上附着的电镀液通过急速气流吹除，从而起到清洁的待电镀产品表面的作用，从而有效防止待电镀产品上附着电镀液或其它杂物进入到下一电镀液槽装置30中，造成电镀液槽装置30之间的交叉污染。
[0032]该过滤装置34包括一过滤筛网341，所述过滤装置34用于将电镀液母槽31中可能存在的金属絮状沉淀物隔离，避免其进入液位栗33中，而影响液位栗33的运转。
[0033]该液位控制装置35与外接药水储存装置(图中未示)相接，可用于往电镀液母槽31中注入药水，从而对电镀液母槽31内药水液位进行控制，
[0034]具体地，该液位控制装置35包括伸入电镀液母槽31的药水进水管351、电磁开关装置(图中未示)及在该药水进水管一侧的电镀液母槽31的槽壁上设置的一高液位感应装置352及一低液位感应装置353。其中，该高液位感应装置352与电镀液子槽凹形槽口321的最低位齐平，该低液位感应装置353低于电镀液子槽凹形槽口 321的最低位l_3cm。该高液位感应装置352及