本实用新型涉及泵的技术领域，更具体的说，涉及一种RO泵可靠的排出阀安装结构。
背景技术：
隔膜增压泵的泵头结构作为一种通用的流体增压设备，是由隔膜往复变形造成容积变化的容积泵，其工作原理近似于柱塞泵，以一个柱塞为例，一个柱塞泵上有两个单向阀，柱塞向扩容方向运动时缸内出现负压，这时进水单向阀打开液体被吸入缸内，柱塞向压缩方向运动时，将液体增压后排水单向阀被打开，被吸入缸内的液体被压出，这种工作方式连续运动后就形成了连续的流体增压。
专利公布号为CN10509991A的发明公开了一种隔膜增压泵的摆轮结构改良，包括一个泵头盖、一个活塞阀体以及一个止逆胶垫，活塞阀体上具有受止逆胶垫遮盖的排水孔，且活塞阀体、止逆胶垫以及泵头盖配合形成高压腔，止逆胶垫的颈部卡接固定在活塞阀体上，具体由该专利中的附图2和附图12得知。
因止逆胶垫卡接固定在活塞阀体上，则止逆胶垫的颈部在长期使用下易出现断裂的现象，使得止逆胶垫安装不可靠，同时也造成了生产和装配的不便。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种RO泵可靠的排出阀安装结构，改变排出阀的连接方式，防止排出阀的颈部断裂，延长排出阀使用寿命，同时便于生产和装配。
本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种RO泵可靠的排出阀安装结构，包括排出阀、具有排水孔的控制体以及供控制体内置的泵盖，所述泵盖内延伸有向控制体方向顶压排出阀以遮盖排水孔形成高压腔的顶杆，所述控制体上开设有供排出阀定位安置的定位槽，所述排出阀包括插入定位槽的定位柱以及供顶杆顶压的阀片。
通过采用上述技术方案，排出阀包括遮盖排水孔的阀片以及连接阀片的定位柱，控制体上开设有供定位柱插入的定位槽，从而限制排出阀在控制体上滑动，进而确保所有排水孔始终在阀片的遮盖范围内，在泵盖的内侧设置顶杆，经顶杆顶压阀片，从而将排出阀被压制在控制体上，进而通过顶杆和控制体配合夹持高压腔内的排出阀，改变现有技术中的卡接固定方式，有效保护排出阀的结构，避免排出阀断裂，延长排出阀的使用寿命，同时便于排出阀的生产和泵头的装配。
本实用新型的进一步设置在于，所述定位柱与控制体之间设置有第一止转结构，所述第一止转结构包括至少一个设于定位柱侧壁上的第一止转块以及设于控制体上以供第一止转块卡入的第一止转槽。
通过采用上述技术方案，设置包括第一止转块和第一止转槽的第一止转结构，从而在定位柱和控制体之间限制排出阀的转动，提高控制体与排出阀之间的连接，防止松动。
本实用新型的进一步设置在于，所述顶杆和阀片之间设置有第二止转结构，所述第二止转结构包括位于顶杆端部的止转柱以及设于阀片端面以供止转柱嵌入的第二止转槽。
通过采用上述技术方案，设置包括止转柱和第二止转槽的第二止转结构，因止转柱嵌入第二止转槽，从而避免顶杆的端部与阀片之间发生相对滑动，进而提高排出阀和泵盖之间的连接，防止两者发生相对松动的现象。
本实用新型的进一步设置在于，所述第二止转槽包括与定位柱所在位置对应设置的中央槽以及与至少一个第一止转块所在位置对应设置的延展槽，且所述止转柱包括插入中央槽的中柱以及插入延展槽的限位柱。
通过采用上述技术方案，设置中央槽、延展槽、中柱以及限位柱，通过对应之间的插接配合，防止顶柱的端部与第二止转槽之间发生相对转动，从而提高排出阀和泵盖之间的连接，防止两者发生相对松动的现象。
本实用新型的进一步设置在于，所述中柱开设有沿顶杆轴向设置的缺孔。
通过采用上述技术方案，设置缺孔，避免中柱处的壁厚出现不均的问题，从而避免成型中柱时产生内应力，进而避免止转柱的结构强度降低，同时可节约用于成型顶杆的材料。
本实用新型的进一步设置在于，所述高压腔包括位于控制体上以供阀片内置的置阀槽，且所述阀片与置阀槽之间设置有第三止转结构。
通过采用上述技术方案，设置置阀槽和第三止转结构，避免阀片与顶柱的端部之间发生相对转动，从而提高排出阀和泵盖之间的连接，防止两者发生相对松动的现象。
本实用新型的进一步设置在于，所述第三止转结构包括至少一个设于阀片边沿处的止转凸部以及设于置阀槽内壁以供止转凸部卡入的止转凹部。
通过采用上述技术方案，设置止转凸部和止转凹部，从而改变阀片的外形以及置阀槽的横截面，进而防止阀片与控制体之间的相对转动，且排出阀安装时可实现定位安装，提高安装排出阀的便利性。
本实用新型的进一步设置在于，所述第三止转结构包括至少一个设于阀片边沿处的止转缺口以及设于置阀槽内壁以卡入止转缺口的第二止转块。
通过采用上述技术方案，设置止转缺口和第二止转块，防止阀片与控制体之间的相对转动，且排出阀安装时可实现定位安装，提高安装排出阀的便利性。
综上所述，本实用新型具有以下有益效果：排出阀包括遮盖排水孔的阀片以及连接阀片的定位柱，控制体上开设有供定位柱插入的定位槽，在泵盖的内侧设置顶杆，经顶杆顶压阀片，从而将排出阀被压制在控制体上，进而通过顶杆和控制体配合夹持高压腔内的排出阀，改变排出阀的安装方式，有效保护排出阀的结构，避免排出阀断裂，延长排出阀的使用寿命，同时便于排出阀的生产和泵头的装配。
附图说明
图1为本实用新型的示意图；
图2为本实用新型的剖视图；
图3为本实用新型的第一分解图；
图4为本实用新型的第二分解图。
图中，1、泵盖；11、进水孔；12、出水孔；13、凹腔；14、顶杆；15、止转柱；151、中柱；1511、缺孔；152、限位柱；2、控制体；21、置阀槽；211、环形凹槽；22、排水孔；23、定位槽；24、第一止转槽；25、止转凹部；26、第二止转块；3、排出阀；31、阀片；32、定位柱；33、第一止转块；34、第二止转槽；341、中央槽；342、延展槽；35、止转凸部；36、止转缺口；4、高压腔；5、密封圈。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
如图1和图2所示，一种RO泵可靠的排出阀3安装结构，包括泵盖1，泵盖1的两侧分别具有进水孔11和出水孔12，泵盖1内嵌装有一个控制体2，泵盖1和控制体2之间夹持固定有一个排出阀3，且控制体2具有多个受排出阀3遮盖的排水孔22，在本实施例中，排水孔22分布有九个。经泵盖1、控制体2以及排出阀3组装配合形成一个与出水孔12相通的高压腔4。
结合图3和图4所示，高压腔4包括设于泵盖1内侧中央的凹腔13以及设于控制体2上表面以与凹腔13对应设置的置阀槽21，凹腔13的侧壁由泵盖1的内壁向泵盖1的开口方向凸起形成，置阀槽21由控制体2的上表面中央向下凹陷形成，多个排水孔22环形分布于置阀槽21底面的外圈侧，且排出阀3内置于置阀槽21内，置阀槽21的侧壁端面上开设有一个环形凹槽211，环形凹槽211内安置有与凹腔13的侧壁端面弹性抵触的密封圈5，增加高压腔4的密封性。
排出阀3包括一个用于遮盖排水孔22的阀片31以及垂直于阀片31中央设置的定位柱32，定位柱32的侧壁上均匀环状分布有三个一端均与阀片31相连的第一止转块33，且第一止转块33的长度小于定位柱32的长度，定位柱32的长度小于控制体2的厚度。阀片31背向定位柱32的一侧开设有第二止转槽34，其中，第二止转槽34包括与定位柱32所在位置对应设置的中央槽341，中央槽341的周向上具有三个环状分布且分别与第一止转块33所在位置对应设置的延展槽342，所有延展槽342均与中央槽341相通。阀片31的外沿处设置有三个均匀分布的止转凸部35，则因此阀片31的横截面大致呈顶角为弧形的正三角形。阀片31上位于每个止转凸部35的弧形边沿中央处均开设有一个止转缺口36。
凹腔13的底面中央向控制体2方向延伸有一个顶杆14，顶杆14的长度大于凹腔13的深度，顶杆14的端部设置有一个嵌入阀片31中第二止转槽34内的止转柱15，且顶杆14的端部将排出阀3向控制体2方向顶压以确保遮盖排水孔22，止转柱15包括插入中央槽341的中柱151以及插入延展槽342的三个限位柱152，止转柱15与第二止转槽34的插接配合形成阀片31与顶杆14之间的第二止转结构，用于防止排出阀3中的阀片31在高压腔4内转动。且中柱151的轴线上开设有一个缺孔1511，从而节约用于成型顶杆14的材料以及避免因止转柱15的壁厚不均问题，使得成型过程中出现内应力，则设置缺孔1511，可避免止转柱15的结构强度降低。
置阀槽21的底面中央开设有一个供定位柱32插入的定位槽23，且置阀槽21的底面向定位槽23方向倾斜设置，从而便于引导定位柱32快速插入定位槽23内。置阀槽21的底面位于定位槽23的周向上还开设有供第一止转块33插入的第一止转槽24，经第一止转块33与第一止转槽24的配合形成定位柱32与控制体2之间的第一止转结构，从而避免排出阀3中的定位柱32在高压腔4内转动，进而配合第二止转结构防止排出阀3中阀片31与定位柱32之间的断裂。置阀槽21的内壁开设有供止转凸部35卡入的止转凹部25，且置阀槽21与排出阀3的阀片31之间，除止转凸部35和止转凹部25的配合外，其余处均相互贴合，进而限制阀片31的转动。且在置阀腔的内壁上位于止转凹部25处设置有第二止转块26，第二止转块26朝向定位槽23的端部卡入阀片31上的止转缺口36内，经止转凹部25与止转凸部35的配合、止转缺口36与第二止转块26的配合，从而形成阀片31与控制体2之间的第三止转结构，进一步限制阀片31的转动。
安装本实用新型时，将排出阀3利用第一止转结构和第三止转结构嵌装在控制体2上，将控制体2内置于泵盖1内，再装配RO泵的其他部件，此时排出阀3与泵盖1经第二止转结构实现定位配合，且排出阀3经泵盖1内的顶杆14和控制体2配合夹持固定在高压腔4内，从而增加对排出阀3向控制体2方向的压力，避免排出阀3长期使用后损坏，进而将排出阀3可靠的安装于高压腔4内。
本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。