用于多级复床串联工艺的多路阀的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及用于纯水制造和有机产品提纯的阀体，特别是用于多级复床串联工艺的多路阀。
【背景技术】
[0002]采用多级复床进行串联时，随着串联级增加，其用于连接复床的阀门数量也将大量增加，由于阀门数量多，在工序切换时，不仅操作繁琐，速度慢，而且容易出错；也有一些采用全自动控制的阀门，但是造价明显增高，使用不经济，不利于推广。
【发明内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提出用于多级复床串联工艺的多路阀，该多路阀能够克服目前多级复床串联工艺阀门多、操作繁琐的缺点，简化操作步骤，减少操作误差，节约成本，拓展宽复床工艺的使用空间。
[0004]本实用新型要解决的技术问题是通过以下技术方案实现的。本实用新型是用于多级复床串联工艺的多路阀，其特点在于，包括:
[0005]阀体，所述的阀体内沿轴向设有贯穿阀体的溢流控制腔，所述的溢流控制腔内设有能够沿溢流控制腔轴向滑动的控制阀杆，所述的阀体左端设有用于密封溢流控制腔的密封壁，所述的阀体右端设有用于密封溢流控制腔的封闭壁，所述的控制阀杆的左端位于溢流控制腔内，所述的控制阀杆的右端穿过封闭壁；
[0006]所述的阀杆包括直径小于溢流控制腔的阀杆体和若干分开地设在阀杆体周面上的控制区段，所述的控制区段的外缘与溢流控制腔紧接触；
[0007]所述的阀体上从左往右依次设有第一溢流通道、若干用于连接阴离子复床的阴离子溢流阀口、若干用于连接阳离子复床的阳离子溢流阀口及第二溢流通道；其中，
[0008]所述的第一溢流通道和第二溢流通道均包括贯穿溢流控制腔的左溢流通道口和位于左溢流通道口右侧的右溢流通道口；
[0009]所述的阴离子溢流阀口和阳离子溢流阀口之间间隔设置，所述的阴离子溢流阀口和阳离子溢流阀口之间的轴向距离小于相邻的两个控制区段之间的距离；所述的阴离子溢流阀口包括左阴离子溢流阀口和右阴离子溢流阀口，所述的阳离子溢流阀口包括左阳离子溢流阀口和右阳离子溢流阀口，所述的左阴离子溢流阀口与其相邻的右阴离子溢流阀口之间的距离及左阳离子溢流阀口与其相邻的右阳离子溢流阀口之间的距离均小于所述的相邻两个控制区段之间的距离；
[0010]当所述的控制阀杆向左滑动与密封壁接触时，控制阀杆处于第一工位，控制阀杆使阴离子溢流阀口和阳离子溢流阀口连通；当所述的控制阀杆向右滑动处于第一溢流通道略偏右的位置时，控制阀杆处于第二工位，控制阀杆使左阴离子溢流阀口与其相邻的右阴离子溢流阀口及左阳离子溢流阀口与其相邻的右阳离子溢流阀口连通。
[0011]本实用新型用于多级复床串联工艺的多路阀技术方案中，进一步优选的技术方案特征是:所述的左溢流通道口和右溢流通道口包括内通道和外接口，所述的内通道的一端与所述的溢流控制腔连通，所述的内通道的另一端与外接口连通，所述的内通道的直径小于外接口的直径。
[0012]本实用新型用于多级复床串联工艺的多路阀技术方案中，进一步优选的技术方案特征是:所述的控制区段的外缘设有密封圈。
[0013]本实用新型用于多级复床串联工艺的多路阀技术方案中，进一步优选的技术方案特征是:所述的控制阀杆的右端设有用于推拉控制阀杆的手柄。
[0014]本实用新型用于多级复床串联工艺的多路阀技术方案中，进一步优选的技术方案特征是:所述的阀体包括从左往右依次连接的阀体首段、阀体标准段和阀体尾段，所述的第一溢流通道和第二溢流通道分别设在阀体首段和阀体尾段上，所述的阀体标准段包括若干首尾连接的阀体标准段单元，所述的每个阀体标准段单元上均设置所述的阴离子溢流阀口和阳离子溢流阀口
[0015]与现有技术相比，本实用新型具有如下的技术效果:
[0016](I)本实用新型可以省去各级复床所有阀门，只需要将复床的进出口与多路阀上的对应接口连接，就可以用一个多路阀对所有复床的工艺状态实现切换，使串联后多级复床的工艺操作与单级复床工艺的操作一样简单，也可避免工人操作的失误；
[0017](2)本实用新型通过对阀体采用模块化设计，可以根据需要方便扩展或缩减；
[0018](3)本实用新型为多级复床串联工艺提供了简单易行的解决方案，减少连接阀体的使用，可以减少成本和安装空间。
【附图说明】
[0019]图1为本实用新型的结构示意图；
[0020]图2为本实用新型的处于第一工位的结构示意图；
[0021]图3为本实用新型处于第一工位的结构示意图。
【具体实施方式】
[0022]以下参照附图，进一步描述本实用新型的具体技术方案，以便于本领域的技术人员进一步地理解本实用新型，而不构成其权力的限制。
[0023]实施例1，参照图1-3，用于多级复床串联工艺的多路阀，包括:
[0024]阀体1，所述的阀体I内沿轴向设有贯穿阀体I的溢流控制腔10，所述的溢流控制腔10内设有能够沿溢流控制腔10轴向滑动的控制阀杆2，所述的阀体I的左端设有用于密封溢流控制腔10的密封壁11，所述的阀体I的右端设有用于密封溢流控制腔10的封闭壁12，所述的控制阀杆2的左端位于溢流控制腔10内，所述的控制阀杆2的右端穿过封闭壁12 ；
[0025]所述的阀杆包括直径小于溢流控制腔10的阀杆体23和若干分开地设在阀杆体23周面上的控制区段21，所述的控制区段21的外缘与溢流控制腔10紧接触；
[0026]所述的阀体I上从左往右依次设有第一溢流通道5、若干用于连接阴离子复床18的阴离子溢流阀口 4、若干用于连接阳离子复床16的阳离子溢流阀口 3及第二溢流通道6 ;其中，
[0027]所述的第一溢流通道5和第二溢流通道6均包括贯穿溢流控制腔10的左溢流通道口 52和位于左溢流通道口 52右侧的右溢流通道口 50 ；
[0028]所述的阴离子溢流阀口 4和阳离子溢流阀口 3之间间隔设置，所述的阴离子溢流阀口 4和阳离子溢流阀口 3之间的轴向距离小于相邻的两个控制区段21之间的距离；所述的阴离子溢流阀口 4包括左阴离子溢流阀口 41和右阴离子溢流阀口 42，所述的阳离子溢流阀口 3包括左阳尚子溢流阀口 31和右阳尚子溢流阀口 32，所述的左阴尚子溢流阀口 41与其相邻的右阴离子溢流阀口 42之间的距离及左阳离子溢流阀口 31与其相