一种斜面密封结构的轴承的制作方法

文档序号:20041933发布日期:2020-02-28 12:02阅读:1072来源:国知局
一种斜面密封结构的轴承的制作方法

本发明涉及轴承结构,尤其是一种斜面密封结构的轴承。



背景技术:

现有的轴承密封结构的密封圈为单唇密封,外层密封圈主唇主要防止绝大部分外部异物,如泥沙、灰尘、水分等进入轴承内部,作为第1到关口,内层密封圈的延伸唇作为第2道关口剩余外部异物进入轴承内部,内层密封圈主唇作为第3道关口彻底防止外部异物进入轴承内部轴承内圈线段为直线,直挡边密封性能较弱,当外界泥水突破第1道和第2道关口后,内密封圈密封性能不够保险,密封效果不好。



技术实现要素:

本发明要解决上述现有技术的缺点,提供一种结构简单,密封更好的斜面密封结构的轴承。

本发明解决其技术问题采用的技术方案:这种斜面密封结构的轴承,主要包括轴承外圈、轴承内圈和密封圈机构,密封圈机构位于轴承外圈和轴承内圈之间,轴承内圈靠近密封圈机构处的线段包括内圈线段ⅰ和内圈线段ⅱ,内圈线段ⅰ和内圈线段ⅱ形成多段式的斜面结构。

所述密封圈机构为单层轴承密封圈,单层轴承密封圈上设有密封圈主唇和密封圈副唇,密封圈主唇与内圈线段ⅱ相接触,密封圈副唇靠近内圈线段ⅰ,与内圈线段ⅰ之间留有间隙,密封圈主唇、密封圈副唇与内圈线段ⅰ、内圈线段ⅱ形成迷宫式密封空间。

所述单层轴承密封圈靠近密封圈主唇出设有密封圈减压槽。

所述密封圈机构由外层密封圈和内层密封圈组成,外层密封圈上设有外密封圈主唇,内层密封圈上设有内密封圈主唇、内密封圈副唇和内密封圈延伸唇,内密封圈主唇与内圈线段ⅱ相接触,内密封圈副唇靠近内圈线段ⅰ,与内圈线段ⅰ之间留有间隙,内圈线段ⅰ和内圈线段ⅱ形成轴承内圈斜面密封槽,内密封圈主唇、内密封圈副唇与轴承内圈斜面密封槽形成迷宫式密封。

所述内层密封圈内侧为轴承空腔。

所述内圈线段ⅱ倾斜角度为17±3°。

所述单层轴承密封圈、外层密封圈、内层密封圈均由内部的密封圈骨架和外部的密封圈橡胶组成。

本发明有益的效果是:本发明结构采用斜面密封和密封圈的双唇密封相结合的密封结构,加强轴承密封性能,有效的防止外界异物(水、泥浆、粉尘)进入轴承内部,延长了轴承的密封寿命。

附图说明

图1是本发明的单层密封结构示意图;

图2是本发明的双层密封结构示意图。

附图标记说明:轴承外圈1,轴承内圈2,内圈线段ⅰ2-1,内圈线段ⅱ2-2,单层轴承密封圈3,密封圈主唇4,密封圈副唇5,密封圈减压槽6,外层密封圈7,内层密封圈8,内密封圈主唇9,内密封圈副唇10,内密封圈延伸唇11,轴承内圈斜面密封槽12,轴承空腔13,外密封圈主唇14,密封圈骨架15,外部的密封圈橡胶16。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明:

如图所示,这种斜面密封结构的轴承,主要包括轴承外圈1、轴承内圈2和密封圈机构,密封圈机构位于轴承外圈1和轴承内圈2之间,轴承内圈2靠近密封圈机构处的线段包括内圈线段ⅰ2-1和内圈线段ⅱ2-2,内圈线段ⅰ2-1和内圈线段ⅱ2-2形成多段式的斜面结构。内圈线段ⅱ2-2倾斜角度为17±3°。

密封圈机构为单层轴承密封圈3,单层轴承密封圈3上设有密封圈主唇4和密封圈副唇5,密封圈主唇4与内圈线段ⅱ2-2相接触,密封圈副唇5靠近内圈线段ⅰ2-1,与内圈线段ⅰ(2-1)之间留有间隙,密封圈主唇4、密封圈副唇5与内圈线段ⅰ2-1、内圈线段ⅱ2-2形成迷宫式密封空间。单层轴承密封圈3靠近密封圈主唇4出设有密封圈减压槽6。

当轴承外部密封良好的情况下,独立使用单层斜面密封结构。油脂可储存在迷宫式密封空间内,防止外界异物进入轴承内部,并能防止轴承内部油脂流出。

密封圈机构由外层密封圈7和内层密封圈8组成,外层密封圈7上设有外密封圈主唇14,内层密封圈8上设有内密封圈主唇9、内密封圈副唇10和内密封圈延伸唇11,内密封圈主唇9与内圈线段ⅱ2-2相接触,内密封圈副唇10靠近内圈线段ⅰ2-1,与内圈线段ⅰ2-1之间留有间隙,内圈线段ⅰ2-1和内圈线段ⅱ2-2形成轴承内圈斜面密封槽12,内密封圈主唇9、内密封圈副唇10与轴承内圈斜面密封槽12形成迷宫式密封。内层密封圈8内侧为轴承空腔13。

单层轴承密封圈3、外层密封圈7、内层密封圈8均由内部的密封圈骨架15和外部的密封圈橡胶16组成。

当轴承外部有水和异物较多的情况下,加装外层密封圈7组合使用,内层密封圈8扩展内密封圈延伸唇11,形成双层斜面密封结构,防水性能更好。

外层密封圈防7止绝大部分的外部泥沙、水等异物进入轴承内部,成为第1道关口,内层密封圈延伸唇11作为第2道关口剩余外部异物进入轴承内部,内密封圈主唇9和内密封圈副唇10与轴承内圈斜面密封槽12形成迷宫式密封,作为第3道关口彻底防止外部异物进入轴承内部。

除上述实施例外,本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本发明要求的保护范围。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1