流体控制装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种流体控制装置，该流体控制装置例如在半导体处理装置中以适当地切换多种材料气体并将其向处理室供给的目的而使用。
【背景技术】
[0002]以往，作为以适当地切换多种材料气体并将其向处理室供给的目的而使用的流体控制装置，已知如下流体控制装置，其具备:长方体状主体;主气体出入口及排放气体(ventgas)出入口，它们在主体的长度方向的两端，在宽度方向上隔开间隔地设置;主气体通路，其将主气体出入口彼此连通;排放气体通路，其将排放气体出入口彼此连通;多个副气体入口，它们在主体的一侧沿长度方向以规定间隔而设置;开关阀，其在与各副气体入口对应的位置分别成双地配置、且整体在宽度方向上排列成2列；多个第I副气体流入通路，它们从各副气体入口通向第I列的各开关阀的入口；以及多个第2副气体流入通路，它们从各副气体入口通向第2列的各开关阀的入口(专利文献I等)。
[0003]在专利文献I的流体控制装置中，主体由多个中央通路块(block)、以及在前后方向上较长的2个侧通路块构成，主气体通路及排放气体通路分别形成为直线状，通过与这些通路正交的通路而与开关阀的出口连接。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献I:日本特开2004-183743号公报
【发明内容】
[0007]在上述以往的流体控制装置中，需要不同种类的通路块，另外，侧通路块形成为与开关阀的数量相应的形状，在增减开关阀的情况下，需要对侧通路块的形状进行变更。因此，存在如下问题:主体的结构变得复杂，难以实现开关阀的增减。
[0008]另外，在这种流体控制装置中，还有以下课题:在使排放气体流动时想要使成为死区容积(dead volume)的通路减少。
[0009]本发明的目的在于提供一种主体的结构简单且容易实现开关阀的增减，另外还能够进一步减少死区容积的流体控制装置。
[0010]本发明所涉及的流体控制装置具备:长方体状主体;主气体出入口及排放气体出入口，它们在主体的长度方向的两端，在宽度方向上隔开间隔地设置;主气体通路，其将主气体出入口彼此连通;排放气体通路，其将排放气体出入口彼此连通;副气体入口，其设置于主体的一侧;开关阀，其在与副气体入口对应的位置配置有多个、且整体在宽度方向上排列；以及多个副气体流入通路，它们从副气体入口通向各开关阀的入口，该流体控制装置适当地对从副气体入口导入的材料气体进行切换并将材料气体从主气体通路出口向下游侧处理室供给，并且经由排放气体通路而将主体内气体排出，所述流体控制装置的特征在于，主体通过在长度方向上配置通路块而形成，通路块形成有对开关阀进行收纳的凹部，作为形成主气体通路的通路，通路块具有:第I倒V字状通路，其在长度方向两端开口；以及第I出口通路，其将第I倒V字状通路的顶部与开关阀的出口连通，作为形成排放气体通路的通路，通路块具有:第2倒V字状通路，其在长度方向两端开口；以及第2出口通路，其将第2倒V字状通路的顶部与开关阀的出口连通，作为副气体流入通路，通路块具有:入口通路，其通向各开关阀的入口；公共入口通路，其与入口通路连结、且通向副气体入口；以及连通路，其与入口通路连结、且与公共入口通路连结。
[0011]主体通过对通路块(相同形状的通路块)进行配置而形成，由此，在开关阀的数量增减时，仅通过使通路块增减便能够应对。相邻的通路块彼此具有相互连通的通路(第I倒V字状通路以及第2倒V字状通路)，通过使这些通路连接而形成主气体通路及排放气体通路。在相邻的通路块之间夹设有由垫圈等构成的密封部。并未特别限定密封部的结构。
[0012]以往，主气体通路及排放气体通路分别形成为直线状，且通过与上述这些通路正交的通路而与开关阀的出口连接。与此相对，在本发明的流体控制装置中，将主气体通路及排放气体通路设为使得倒V字状通路连续而成的锯齿状。因此，将倒V字状通路的顶部与开关阀的出口连通的出口通路变为相对短的通路。
[0013]当排放气体流动时成为死区容积的通路是将倒V字状通路的顶部与开关阀的出口连通的出口通路，能够使其形成为短的通路，从而能够减少死区容积。
[0014]将各开关阀例如设为隔膜阀。优选各开关阀具备:阀座，其以能够拆装的方式配置于在通路块形成的出口通路的周缘；阀座保持件，其以能够拆装的方式配置于通路块的凹部、且对阀座进行保持；以及隔膜，其通过被按压于阀座、或者从阀座分离而进行流体通路的开闭，各开关阀使得流入到入口通路的流体经由在阀座保持件设置的贯通孔而与出口通路连通。
[0015]这样，即使在开关阀中也能够减少死区容积，通过将该开关阀支承于减少了成为死区容积的通路的上述通路块，使其成为用于减少死区容积的更优选的结构。
[0016]阀座保持件为公知的结构，例如为开孔圆板状，且构成为包括:内周缘部，其对阀座进行保持；中间环状部，其以规定间隔形成有通向流体流出通路的多个贯通孔；以及外周缘部，其对隔膜的外周缘部进行夹持。
[0017]优选隔膜阀还具备对阀座保持件进行保持的护圈。护圈例如为大致圆筒状，且具有对阀座保持件的外周缘部进行承托的朝内凸缘部。
[0018]优选在长期使用的情况下对阀座进行更换，由于具备对阀座保持件进行保持的护圈，从而通过将护圈拆下而能够将被护圈保持的阀座保持件、以及保持于该阀座保持件的阀座拆下，能够容易地进行阀座的更换。
[0019]阀座例如设为合成树脂制的，当然也可以是金属制的。优选阀座保持件及护圈为金属制的。
[0020]隔膜设为例如由镍合金薄板构成，另外，也可以设为由不锈钢薄板构成、或由不锈钢薄板和镍钴合金薄板的层叠体构成，并未特别限定隔膜的材料。另外，隔膜可以为I个，也可以为重叠有多个的层叠体，能够根据规格、条件等而自由地选择。
[0021]发明效果
[0022]根据本发明的流体控制装置，主体通过在长度方向上配置相同形状的通路块而形成，在该通路块形成有需要的所有通路，因此在开关阀的数量增减时，仅通过使通路块增减便能够应对，主体的结构简单、且容易增减开关阀的数量。另外，成为死区容积的通路能够形成为将倒V字状通路的顶部与开关阀的出口连通的、极短的出口通路，因此能够减少死区容积。
【附图说明】
[0023]图1是表示本发明所涉及的流体控制装置的I个实施方式的俯视图。
[0024]图2是沿着图1中的I1-1I线的剖视图。
[0025]图3是沿着图1中的II1-1II线的剖视图。
[0026]图4是沿着图1中的IV-1V线的剖视图。
[0027]图5是表示在本发明所涉及的流体控制装置中使用的开关阀的I个例子的纵剖视图。
[0028]图6是放大表示构成开关阀的阀座保持件的图，图6的(a)是俯视图，图6的(b)是纵剖视图。
[0029]附图标记说明
[0030]I流体控制装置[0031 ]2 主体
[0032]3通路块
[0033]4第I开关阀(第I列的开关阀)
[0034]4a 入口
[0035]4b 出口
[0036]5第2开关阀(第2列的开关阀)
[0037]5a 入口
[0038]5b 出口
[0039]6主气体出入口
[0040]7排放气体出入口
[0041]8副气体入口
[0042]9主气体通路
[0043]10排放气体通路
[0044]11第I副气体流入通路
[0045]12第2副气体流入通路
[0046]13第I开关阀收纳用凹部
[0047]14第2开关阀收纳用凹部
[0048]15第I倒V字状通路
[0049]16第I出口通路
[0050]17第2倒V字状通路
[0051]18第2出口通路
[0052]19第I入口通路
[0053]20公共入口通路
[0054]21第2入口通路
[0055]22连通路
【具体实施方式】
[0056]以下参照附图对本发明的实施方式进行说明。在以下说明中，将图2中的上下设为上下方向。另外，将图1中的左右方向设为长度方向，将图1中的上下方向设为宽度方向。
[0057]图1示出本发明所涉及的流体控制装置的I个实施方式，流体控制装置I用于例如在M0CVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposit1n:金属有机化学气相沉积)方法中一边分别对多种气体进行切换一边将其导入，该流体控制装置I具备:长方体状主体2，其由多个(图示为4个)长方体状通路块3构成;第I开关阀(第I列的开关阀)4及第2开关阀(第2列的开关阀)5，它们成双地分别配置于各通路块3。
[0058]在主体2设置有:主气体出入口6及排放气体出入口 7，它们在主体2的长度方向的两端，在宽度方向上隔开间隔地设置;副气体入口8，其以在宽度方向上开口的方式设置于各通路块3;主气体通路9，其将主气体出入口 6彼此连通;排放气体通路10，其将排放气体出入口 7彼此连通;多个第I副气体流入通路11，它们从各副气体入口 8通向各第I开关阀4的入口 4a ；以及多个第2副气体流入通路12，它们从各副气体入口 8通向各第2开关阀5的入口 5a。
[0059]通过使用该流体控制装置I，能够适当地对从各副气体入口8导入的多种材料气体进行切换并将其从主气体通路9的出口向下游侧处理室供给，并且能够经由排放气体通路10而使主体2内的气体排出。
[0060]主体2并非一体式部件，其通过在长度方向上配置多个(4个)相同形状的通路块3而形成，这些通路块3分别对I个第I开关阀4及I个第2开关阀5进行支承。
[0061]各开关阀4、5是形状完全相同的2个