一种补盐酸装置的制作方法

1.本实用新型涉及半导体技术领域，特别涉及一种补盐酸装置。


背景技术：

2.湿法刻蚀是一种刻蚀方法，是将刻蚀材料浸泡在腐蚀液内进行腐蚀的技术，主要在较为平整的膜面上刻出绒面，从而增加光程，减少光的反射，刻蚀可用稀释的盐酸等。
3.led芯片的ito(氧化铟锡)刻蚀采用湿法刻蚀，所用刻蚀药液为ito刻蚀液(盐酸与三氯化铁混合)，ito刻蚀浓度通常以溶液中的h
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浓度进行衡量。刻蚀ito时会消耗刻蚀液内的盐酸，当ito刻蚀液内盐酸浓度降低到一定程度后会出现ito刻蚀不净风险。
4.现有技术中，通常在ito刻蚀液中盐酸浓度降低到最低阈值时，重新更换ito刻蚀液，此时，重新更换ito刻蚀液不仅造成资源浪费，且降低了ito刻蚀效率。


技术实现要素：

5.基于此，本实用新型的目的是提供一种补盐酸装置，解决背景技术中新更换ito刻蚀液造成资源浪费，且降低了ito刻蚀效率的问题。
6.本实用新型提供一种补盐酸装置，包括刻蚀槽、补液机构以及两端分别与刻蚀槽和补液机构连接的导流机构；
7.补液机构包括盐酸桶，导流机构包括输送管道、抽液泵及气动阀，抽液泵及气动阀均设于输送管道上，输送管道的一端插入刻蚀槽内，输送管道的另一端插入盐酸桶的开口内。
8.本实用新型上述实施例当中的补盐酸装置，通过在设置刻蚀槽、补液机构以及连接刻蚀槽、补液机构的输送机构，其中补液机构包括盐酸桶，输送机构包括抽液泵及气动阀，通过抽液泵将盐酸桶的盐酸输送至刻蚀槽内，且将气动阀设于刻蚀槽和抽液泵之间，防止盐酸回流，替代了传统技术中需重新更换ito刻蚀液的方案，稳定了刻蚀液中盐酸浓度，从而避免了刻蚀因盐酸浓度降低出现刻蚀不净的风险，解决了背景技术中新更换ito刻蚀液造成资源浪费，且降低了ito刻蚀效率的问题。
9.进一步的，抽液泵及气动阀均位于刻蚀槽和盐酸桶之间。
10.进一步的，气动阀位于抽液泵以及刻蚀槽之间。
11.进一步的，输送管道上靠近刻蚀槽的一侧还设有流量控制器。
12.进一步的，输送管道上靠近盐酸桶的开口处还设有一液位感应器。
13.进一步的，补液机构还包括一供液柜，盐酸桶设于供液柜内，输送管道贯穿供液柜并插入盐酸桶内。
14.进一步的，供液柜的上部设有排风管，以将供液柜内的盐酸气体排出。
15.进一步的，排风管的出口设有活性炭吸附剂。
16.进一步的，抽液泵为塑料隔膜泵。
17.进一步的，输送管道为pfa塑料。
附图说明
18.图1为本实用新型实施例中补盐酸装置的整体结构示意图；
19.主要元件符号说明：
20.刻蚀槽100补液机构200输送管道120供液柜210抽液泵121盐酸桶211气动阀122液位感应器212流量控制器123活性炭吸附剂213排风管220
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21.如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本实用新型。
具体实施方式
22.为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的若干实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。
23.需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
24.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
25.本技术实施例中的补盐酸装置，如图1所示，包括刻蚀槽100、补液机构200和两端分别连接刻蚀槽100和补液机构200的导流机构，其中，刻蚀槽100中盛放刻蚀溶液，刻蚀溶液包括盐酸与三氯化铁混合溶液，用于ito刻蚀，补液机构200包括盐酸桶211，其中盛有盐酸。导流机构包括一输送管道120和设于输送管道120上的抽液泵121及气动阀122，输送管道120一端接入刻蚀槽100内，另一端插入盐酸桶211中，抽液泵121及气动阀122均设于刻蚀槽100和盐酸桶211之间。
26.输送管道120上的抽液泵121用于将盐酸桶211内的盐酸抽入刻蚀槽100内，从而增加刻蚀槽100内盐酸溶度，保证ito刻蚀的正常运作和效率。输送管道120上的气动阀122设于抽液泵121以及刻蚀槽100之间，气动阀122用于防止抽取的盐酸溶液从刻蚀槽100内回流至盐酸桶211中。
27.输送管道120上还设有一流量控制器123，且设于刻蚀槽100与抽液泵121之间，流量控制器123用于控制盐酸的供液容量，提高刻蚀液的供液精度。根据不同的刻蚀速度，消耗的盐酸浓度速度，可进行设置不同的盐酸供液流量。
28.盐酸桶211因其中的盐酸极易挥发，且酸度教高具有一定的危害性，因此，本实施例中的补液机构200还包括一供液柜210，盐酸桶211设于供液柜210(cds柜)内。输送管道
120插入供液柜210，再插入盐酸桶211中。在供应柜或者盐酸桶211的阀箱上安装制程排风管220，如有极微量化学品泄漏到空气中，可以及时排走，保证人身安全。排风管220的开口处安装有活性炭吸附剂213，可进一步吸附供液柜210中泄漏的气体。在其他可选实施例中，也可将气体泄漏侦测器安装在供液柜210和盐酸桶211槽底部，当检测到气体泄漏时，可及时发出警报，保证人身安全。
29.本实施例中的抽取的液体为盐酸溶液，具有腐蚀性，因此抽液泵121可为塑料隔膜泵，隔膜泵又称控制泵，是执行器的主要类型，通过接受调制单元输出的控制信号。隔膜泵借助动力操作去改变流体流量。塑料隔膜泵主要输送强耐腐蚀液体。抽液泵121业也可选择气动隔膜泵，由于气动隔膜泵采用压缩空气为动力源，它的剪切力低、流量大、扬程高、工作中不产生火花、不产生热量。因此作为抽液泵121，可用来输送各种腐蚀性液体，带颗粒的液体，高黏度、易挥发、易燃、剧毒的液体。
30.进一步的，根据输送盐酸溶液的腐蚀特性，输送管道120可选择pfa塑料，pfa塑料为少量全氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物。熔融粘结性增强，溶体粘度下降，而性能与聚四氟乙烯相比无变化，适于接触耐腐蚀件。根据输送的化学液特性的不同，可选用pp、pvdf、ptfe、不锈钢等不同材质的气动泵和输送管道120。
31.输送管道120插入盐酸桶211内的一侧，在盐酸桶211的开口上端，设有一液位感应器212，液位感应器212用于检测盐酸桶211内盐酸的容量，当盐酸容量过低时，可发出警报，提醒往盐酸桶211中补充盐酸溶液。
32.本实施例中的补盐酸装置工作状态如下：
33.当机台检测ito刻蚀液的刻蚀速率降至下限临界点，发送补盐酸信号至抽液泵121，此时补盐酸装置开始工作，通过抽液泵121将盐酸桶211内的盐酸抽入机台ito刻蚀槽100内，并通过流量控制计精准控制所需的盐酸量，使药液槽内ito刻蚀液的刻蚀速率回升至与新ito刻蚀液一致，此时机台发送停止补盐酸信号，补盐酸装置停止工作，抽液泵121停止抽取盐酸。
34.综上，本实用新型上述实施例当中的补盐酸装置，通过在设置刻蚀槽100、补液机构200以及连接刻蚀槽100、补液机构200的输送机构，其中补液机构200包括盐酸桶211，输送机构包括抽液泵121及气动阀122，通过抽液泵121将盐酸桶211的盐酸输送至刻蚀槽100内，且将气动阀122设于刻蚀槽100和抽液泵121之间，防止盐酸回流，替代了传统技术中需重新更换ito刻蚀液的方案，稳定了刻蚀液中盐酸浓度，从而避免了刻蚀因盐酸浓度降低出现刻蚀不净的风险，解决了背景技术中新更换ito刻蚀液造成资源浪费，且降低了ito刻蚀效率的问题。
35.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
36.以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本
实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。