一种石材大板自动扫描设备的制作方法

本实用新型涉及石材扫描技术领域，更为具体地说是指一种石材大板自动扫描设备。

背景技术：

石材作为建筑、装饰和装修的主要材料，越来越受大众喜爱。但由于石材的特殊性，几乎每块石材都不一样，给销售、生产、设计等带来巨大的困难，因此，需要对于石材大板采集图像数据，以便于石材的销售展示和工程排版等。因此，石材大板的扫描设备应运而生。

现有的石材大板图像扫描设备，主要包括底座、密封箱、光源、透光玻璃以及扫描相机，密封箱安装于底座上，底座与密封箱之间安装有用于使石材大板通过的石板输送装置，光源、透光玻璃、扫描相机均安装于密封箱内，光源包括两个，分别沿透光玻璃轴向的两侧倾斜对称安装，每个光源上对应设有一旋转调节机构，只有两个光源的光线相交线汇聚在石材大板上时，才能为扫描相机提供最佳的扫描光线。但是，该两个光源平行于透光玻璃的轴向，而扫描相机位于透光玻璃正上方，因此，远离扫描相机的光源经大板反射后的光路较长，容易出现光衰现象，导致扫描得到的大板图像的两侧清晰度较差。而且，现有的两个光源相交汇聚的区域范围很窄，每进行一种厚度规格石材的扫描时，都要对两个光源的倾斜角度进行调整，且受石材输送装置振动的影响，两个光源的位置经常会发生偏移，大大影响石材扫描的精度。

另外，光源在石材大板汇聚区域长度方向两侧的边缘也会产生反射而被扫描相机采集，导致扫描得到的图像中在石材大板宽度方向的边缘区域有亮光、不清晰，无法提供给设计师使用。

技术实现要素：

本实用新型提供一种石材大板的自动扫描设备，其目的在于解决现有石材大板扫描设备的光源结构不合理，导致扫描得到的大板图像清晰度较差，光源的倾斜角度需要经常调整，而且受石材输送装置振动影响容易发生偏移等缺点。

本实用新型采用如下技术方案：

一种石材大板自动扫描设备，包括支撑座、光源、密封罩、透光玻璃以及扫描相机，所述密封罩架设在所述支撑座上，所述密封罩内部设有一密封仓，所述密封仓底部设有所述透光玻璃，所述扫描相机设于所述透光玻璃正上方的密封仓内，所述光源包括四根灯管，所述透光玻璃轴向上的两侧下方分别对称设有两根灯管，同侧的两根灯管在平行于透光玻璃轴向的竖直平面内构成一个倒V型结构，每根灯管与水平面的夹角为锐角且相等，并且小于或等于arctan（2h/l），其中，h为扫描相机的焦距，l为扫描相机的芯片大小。

优选地，所述透光玻璃的宽度为80mm，透光玻璃两侧的灯管之间间距为100mm。

具体地，所述密封罩底部设有一光源固定座，每个灯管分别通过一个光源安装支架固定在所述光源固定座的内壁上。

进一步地，所述光源的正下方还设有一个从动辊组，该从动辊组的前后两侧各承接一个大板输送装置，所述从动辊组包括两个从动辊和两个轴承座块，两个从动辊平行于所述透光玻璃的轴向间隔布置，每个从动辊的两端分别通过一个轴承架设在所述轴承座块上，每个从动辊的两端还分别设有一个同步轮，同一端侧的两个同步轮之间通过一个同步带连接。

进一步地，每个轴承座块的下方还分别对应设有一个底座，所述轴承座块的底面至少对称安装两个下端穿设在所述底座内的螺杆，所述轴承座块与底座之间的每个螺杆表面分别套设一个弹簧，所述底座内的螺杆端部还通过螺母锁固。

进一步地，所述灯管最低点的灯珠中心到所述从动辊顶面的最小距离为125.06mm。

进一步地，所述从动辊组的正下方还设有一个暗箱，该暗箱沿从动辊的轴向布置，所述暗箱的顶面的中部沿其长度延伸方向上开设一通孔，所述通孔两侧的暗箱顶板分别对称倾斜设置。

进一步地，所述通孔的宽度为15mm，所述暗箱顶板与水平面的夹角为30°。

进一步地，所述暗箱沿其长度方向延伸的两侧内壁上分别对称设有复数个挡板，同一侧的所述挡板与其顶面的所述暗箱顶板对应平行，并且，相对的两个挡板之间的间距都等于所述通孔的宽度。

进一步地，所述暗箱底部沿其长度方向延伸的一侧倾斜向下设有一个暗箱底板，另一侧活动铰接一个暗箱活动门板，所述暗箱活动门板扣合在暗箱底板上。

由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：

1、本实用新型的扫描设备，光源包括四根灯管，透光玻璃轴向上的两侧下方分别对称设有两根灯管，同侧的两根灯管在平行于透光玻璃轴向的竖直平面内构成一个倒V型结构，每根灯管与水平面的夹角为锐角且相等，并且小于或等于arctan（2h/l），该实用新型的光源结构，可减小远离扫描相机的光源经大板反射后的光路，使每个位置上的光源经大板反射后的光路相等或接近相等，提高扫描相机扫描的均匀度，从而提高石材大板图像的扫描质量。

2、本实用新型的光源结构，其灯管的最低点到从动辊顶面的最小距离为125.06mm，保证透光玻璃两侧的光源在石材大板上相交汇集的光带宽度至少在100mm及以上，因此，该结构的扫描设备，在扫描不同厚度规格石材的扫描时，无需对光源的角度进行调整，光源可通过光源安装支架直接锁固在光源固定座上，不受石材输送装置振动影响，大大提高扫描设备的工作效率及扫描精度。

3、本实用新型还在从动辊组正下方设置一个暗箱，用于吸收超出石材大板边缘区域的光线，防止其反射并被扫描相机采集而导致图像中的石材大板宽度方向的边缘区域出现亮光，大大提高扫描设备的扫描质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型省略密封槽侧板的结构示意图。

图3为本实用新型省略密封仓侧板及光源固定座的结构示意图。

图4为本实用新型光源的结构示意图。

图5为本实用新型光源的俯视图。

图6为本实用新型两侧灯管最低点灯珠与从动辊组的光路图。

图7为本实用新型从动辊组的结构示意图。

图8为本实用新型从动辊组的右视图。

图9为本实用新型暗箱的结构示意图。

图10为本实用新型暗箱的剖视图。

具体实施方式

下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。

一种石材大板自动扫描设备，参照图1至图3，包括支撑座1、光源2、密封罩3、透光玻璃4、扫描相机5以及大板输送装置（图中未示出）。其中，密封罩3架设在支撑座1上，密封罩3内部还设有一个密封仓31，密封仓31底部设有透光玻璃4，扫描相机5设于透光玻璃4正上方的密封仓31内。密封仓31内部涂覆漫反射材料，可防尘及吸光，避免光多次反射和杂光的影响。

参照图2、图4和图5，上述光源2包括四根灯管21，透光玻璃4轴向上的两侧下方分别对称设有两根灯管21。具体地，上述密封罩3的底部设有一光源固定座22，每个灯管21分别通过一个光源安装支架23固定在光源固定座22的内壁上。同侧的两根灯管21在平行于透光玻璃4轴向的竖直平面内构成一个倒V型结构，每根灯管21与水平面的夹角为锐角且相等，并且小于或等于arctan（2h/l），其中，h为扫描相机的焦距，l为扫描相机的芯片大小。本实施例采用的扫描相机的焦距h等于59.9mm，芯片大小l等于57.67mm，为此，灯管21与水平面的夹角小于或等于64°17′。

参照图3和图7，光源2的正下方还设有一个从动辊组6，该从动辊组6的前后两侧各承接一个大板输送装置，所述从动辊组6包括两个从动辊61和两个轴承座块62，两个从动辊61平行于透光玻璃4的轴向间隔布置，每个从动辊61的两端分别通过一个轴承架设在所述轴承座块62上，每个从动辊61的两端还分别设有一个同步轮63，同一端侧的两个同步轮63之间通过一个同步带64连接。

参照图3和图6，上述透光玻璃4的宽度为80mm，透光玻璃4两侧的灯管21之间间距为100mm。灯管21最低点的灯珠中心到从动辊61顶面的最小距离为125.06mm。灯珠外罩有距离灯珠中心30mm的玻璃片，每个灯珠的发光角度是120°，而透光玻璃4轴向上的两侧灯管21最低点的灯珠发出的光线相交汇聚的光带宽度至少为100mm，灯珠中心到石材大板表面的距离是130mm*tan30°=75.06mm，而石材大板的正常厚度在30-50mm，为此，为保证两侧灯管21的光线相交汇聚的宽度在100mm以上，灯管最低点的灯珠中心到从动辊61顶面的最小距离为125.06mm。

参照图7和图8，上述每个轴承座块62的下方还分别对应设有一个底座65，所述轴承座块62的底面至少对称安装两个下端穿设在所述底座65内的螺杆66，所述轴承座块62与底座65之间的每个螺杆66表面分别套设一个弹簧67，所述底座65内的螺杆66端部还通过螺母68锁固。从动辊组6底部设有弹簧67，当重量较大的石材大板过渡到从动辊组6时，弹簧67产生的弹力作用，可以增大从动辊61与石材大板之间的摩擦力，防止从动辊组6与石材大板发生打滑，提高从动辊组输送石材大板的稳定性。

参照图1、图9和图10，上述从动辊组6的正下方还设有一个暗箱7，暗箱7内壁都涂覆有漫反射材料，暗箱7可使超出石材大板边缘区域的光线在暗箱内多次反射而被吸收。暗箱7沿从动辊61的轴向布置，暗箱7的顶面的中部沿其长度延伸方向上开设一通孔70，所述通孔70两侧的暗箱顶板71分别对称倾斜设置，优选地，所述通孔的宽度为15mm，所述暗箱顶板与水平面的夹角为30°。

参照图9和图10，暗箱7沿其长度方向延伸的两侧内壁上分别对称设有复数个挡板72，同一侧的所述挡板72与其顶面的暗箱顶板71对应平行，并且，相对的两个挡板72之间的间距都等于通孔70的宽度，即竖直方向上的每两个挡板72之间均留有一条宽度及长度大小相同的通孔，可使石材大板灰尘竖直掉落至暗箱7底部，防止其落在挡板72上而影响光的反射吸收。

参照图10，暗箱7底部沿其长度方向延伸的一侧倾斜向下设有一个暗箱底板73，另一侧活动铰接一个暗箱活动门板74，所述暗箱活动门板74扣合在暗箱底板73上。暗箱活动门板74可便于掉落在暗箱7内的石材大板灰尘的清理。

上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。