技术总结
一种基于SEM原位成像系统的应变测量方法包括如下步骤：利用计算机软件生成一系列随机分布的点，模拟散斑图；对试样进行机加工，将切割后的试样砂纸打磨，抛光，清洗；进行散斑制备：基于生成的模拟散斑图采用光刻技术在试样表面制备微纳散斑；利用SEM原位成像系统找出散斑区域，拍摄试样未变形时的图像；在试验机中对试样进行拉伸试验；利用SEM原位成像系统找出散斑区域，拍摄试样变形后的图像；结合计算机软件将试样变形前后的图像进行数字图像相关分析，得出试样拍摄区域的应变场。该方法精度高、便于操作，可实现非接触测量、全场测量，尺度精确到纳米级别。
技术研发人员：王晓钢;姜潮;刘承欢;陈泓锦
受保护的技术使用者：湖南大学
技术研发日：2018.05.07
技术公布日：2018.09.18