压力传感器制备方法及其制备的压力传感器与流程

文档序号:16081871发布日期:2018-11-27 21:56阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种压力传感器的制备方法,其特征在于,包括:

S110,提供一弹性薄膜(100)和一还原氧化石墨烯薄膜(200);

S120,沿着第一方向和第二方向拉伸所述弹性薄膜(100),使得所述弹性薄膜(100)在所述第一方向和所述第二方向伸长;

S130,将所述还原氧化石墨烯薄膜(200)转移至在所述第一方向和所述第二方向伸长后的所述弹性薄膜(100);以及

S140,释放在所述第一方向和所述第二方向伸长后的所述弹性薄膜(100),使得伸长后的所述弹性薄膜(100)收缩,使所述还原氧化石墨烯薄膜(200)产生褶皱结构。

2.如权利要求1所述的压力传感器的制备方法,其特征在于,所述S120包括:

S122,沿着所述第一方向拉伸所述弹性薄膜(100),使所述弹性薄膜(100)在所述第一方向上伸长并具有第一伸长量,并在第一外力作用下使所述弹性薄膜(100)保持所述第一伸长量;

S124,沿着所述第二方向拉伸所述弹性薄膜(100),使所述弹性薄膜(100)在所述第二方向上伸长并具有第二伸长量,并在第二外力作用下使所述弹性薄膜(100)保持所述第二伸长量。

3.如权利要求2所述的压力传感器的制备方法,其特征在于,所述S140包括:

S142,沿着所述第一方向和所述第二方向同时释放所述弹性薄膜(100),使所述弹性薄膜(100)在所述第一方向上收缩恢复所述第一伸长量,在所述第二方向上收缩恢复所述第二伸长量。

4.如权利要求1所述的压力传感器的制备方法,其特征在于,还包括:

S150,采用填缝剂(600)将所述还原氧化石墨烯薄膜(200)增固。

5.如权利要求1所述的压力传感器的制备方法,其特征在于,还包括:

S160,提供第一封装基底(400)和第二封装基底(500);

S170,用所述第一封装基底(400)覆盖所述弹性薄膜(100)远离所述还原氧化石墨烯薄膜(200)的表面;

S180,在所述第二封装基底(500)表面间隔设置至少两个条形电极(300);

S190,将所述第一封装基底(400)和所述第二封装基底(500)贴合,使所述条形电极(300)夹设于所述还原氧化石墨烯薄膜(200)和所述第二封装基底(500)之间。

6.一种压力传感器,其特征在于,包括:

弹性薄膜(100);

具有褶皱结构的还原氧化石墨烯薄膜(200),包括褶皱面(210)和贴附面(220),所述贴附面(220)贴附于所述弹性薄膜(100)表面,所述褶皱面(210)包括底面(212)和多个条形凸起(214),所述多个条形凸起(214)呈扭曲状且无规则间隔分布。

7.如权利要求6所述的压力传感器,其特征在于,还包括:

至少两个条形电极(300),间隔设置于所述还原氧化石墨烯薄膜(200)远离所述弹性薄膜(100)的表面。

8.如权利要求7所述的压力传感器,其特征在于,至少两个所述条形电极(300)在所述还原氧化石墨烯薄膜(200)表面叉指状分布。

9.如权利要求8所述的压力传感器,其特征在于,还包括:

第一封装基底(400),覆盖于所述弹性薄膜(100)远离所述还原氧化石墨烯薄膜(200)的表面;

第二封装基底(500),覆盖所述条形电极(300)和所述还原氧化石墨烯薄膜(200)远离所述弹性薄膜(100)的表面。

10.如权利要求6-9任一项所述的压力传感器,其特征在于,还包括填缝剂(600),设置于所述还原氧化石墨烯薄膜(200)的褶皱结构的空隙。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1