曝光光角量测的制作方法

本发明涉及一种光角量测，尤其涉及一种曝光光角量测。

背景技术：

在光学领域中，将光束能够聚焦的更小一直是本领域所欲达成的主要目标之一。据此，第i370911号中国台湾地区专利提供了一种能够实现贝索聚焦(besselfocus)的光学头。然而，在上述光学领域之外的曝光领域中，尚未有任何设备使用(或改良)上述能够实现贝索聚焦的光学头的技术，因而在无形中阻碍了曝光领域中的设备技术提升。

于是，本发明人认为上述缺陷可改善，乃特潜心研究并配合科学原理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺陷的本发明。

技术实现要素：

本发明实施例在于提供一种曝光光角量测，其能有效地改善目前曝光领域中所存在的缺陷。

本发明实施例公开一种曝光光角量测，包括：一光学头，包含：一透光基层；一不透光薄膜，具有位于相反侧的一第一表面与一第二表面，并且所述透光基层设置于所述第一表面上；其中，所述不透光薄膜形成有由所述第一表面延伸至所述第二表面的多个次波长环孔；一检测模块，位于所述光学头的一侧，并且所述检测模块与所述光学头相隔有一第一距离，其中，所述光学头能供一基准入射光穿过所述透光基层及多个所述次波长环孔，以通过贝索聚焦(besselfocus)方式于所述检测模块上形成有多个基准聚焦点；其中，当一曝光设备所发出的一入射光穿过所述光学头，以通过贝索聚焦方式于所述检测模块上形成有多个聚焦点时，所述检测模块能够依据多个所述聚焦点分别相对于多个所述基准聚焦点之间的位移距离，量测出所述入射光相对于所述基准入射光的一光角。

优选地，所述检测模块包含有相互电性连接的一影像传感器及一控制器，多个所述基准聚焦点及多个所述聚焦点是聚焦在所述影像传感器上，并且所述控制器能够依据多个所述聚焦点分别相对于多个所述基准聚焦点之间的位移距离，量测出所述入射光相对于所述基准入射光的所述光角。

优选地，所述曝光光角量测进一步包括一暗箱，所述光学头与所述影像传感器设置于所述暗箱内，并且所述光学头的一侧部位裸露于所述暗箱外，用以接收所述入射光。

优选地，多个所述次波长环孔呈矩阵状排列，并且所述光学头定义有一中心轴线，而多个所述次波长环孔对称于所述中心轴线；其中，所述基准入射光穿过任一个所述次波长环孔而形成的一基准光轴平行于所述中心轴线，并且所述入射光穿过任一个所述次波长环孔而形成的一光轴是与相对应的所述基准光轴相夹有所述光角。

优选地，形成于所述检测模块上的任一个所述基准聚焦点或任一个所述聚焦点的直径是介于0.3微米(μm)至5微米。

优选地，所述透光基层位于远离所述检测模块的所述光学头部位，并且所述第一距离介于60微米至100微米。

优选地，所述曝光光角量测进一步包括一光学透镜，并且所述光学透镜位于远离所述检测模块的所述光学头一侧，所述光学透镜与所述光学头间隔有一第二距离，所述第二距离大于所述第一距离。

优选地，所述光学透镜进一步限定为一凸透镜。

优选地，每个所述次波长环孔能使由所述透光基层往所述不透光薄膜行进的所述入射光于所述不透光薄膜上产生一表面电浆波。

优选地，所述不透光薄膜于所述第二表面上凹设有多个环沟，并且多个所述环沟分别位于多个所述次波长环孔的内侧，使对应于每个所述次波长环孔的所述表面电浆波能于相对应的所述环沟进行耦合成光。

综上所述，本发明实施例所公开的曝光光角量测，其设有相互搭配运作的光学头与检测模块，以通过光学头的多个次波长环孔于检测模块上形成有多个基准聚焦点及多个聚焦点，使得入射光相对于基准入射光的光角能由多个基准聚焦点及多个聚焦点相互对应而得知，据以光角的量测精准度能够符合曝光领域中的曝光光角的要求。

再者，由于所述光学头的结构设计是基于贝索聚焦方式，使其在检测模块上形成任一个基准聚焦点(或聚焦点)能够具备较小的直径，进而有助于提升光角的量测精准度。

为能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，但是此等说明与附图仅用来说明本发明，而非对本发明的保护范围作任何的限制。

附图说明

图1为本发明实施例的曝光光角量测的使用状态示意图。

图2为本发明实施例的光学头的立体示意图。

图3为本发明实施例的光学头的另一视角立体示意图。

图4为图3沿剖线iv-iv的剖视示意图。

图5为本发明实施例的光学头与检测模块于接收基准入射光的光学路径示意图。

图6为图5中的检测模块的侧视示意图。

图7为本发明实施例的光学头与检测模块于接收一入射光的光学路径示意图。

图8为图7中的检测模块的侧视示意图。

具体实施方式

请参阅图1至图8，其为本发明的实施例，需先说明的是，本实施例对应附图所提及的相关数量与外型，仅用来具体地说明本发明的实施方式，以便于了解本发明的内容，而非用来局限本发明的保护范围。

如图1所示，本实施例公开一种曝光光角量测，并且上述曝光光角量测于本实施例中也可以称为(或更名为)曝光光角量测设备(measuringapparatusforexposureangle)。其中，所述曝光光角量测包含有一光学头1、位于所述光学头1一侧的一检测模块2、一暗箱3、及一光学透镜4。

所述光学头1以及至少部分检测模块2皆设置于上述暗箱3内、并相隔有一第一距离d1，而所述光学头1的一侧部位(如：图1中的光学头1左侧部位)裸露于上述暗箱3外，用以接收一入射光l。也就是说，上述入射光l本实施例中仅能通过光学头1进入暗箱3中。

再者，所述光学透镜4位于上述暗箱3之外，并且光学透镜4位于远离检测模块2的所述光学头1一侧(如：图1中的光学头1左侧)。进一步地说，所述光学头1定义有一中心轴线c，上述光学透镜4于本实施例中为一凸透镜，并且光学透镜4位于中心轴线c上、其位置优选是对称于上述中心轴线c，但本发明不受限于此。

此外，所述光学透镜4与光学头1于本实施例中是彼此间隔有一第二距离d2，上述第二距离d2大于第一距离d1，并且所述第一距离d1可以是介于60微米(μm)至100微米(如：第一距离d1为80微米)，但本发明不受限于此。

需额外说明的是，所述光学头1与检测模块2于本实施例中是以搭配于上述暗箱3及光学透镜4来说明，但本发明不以此为限。举例来说，在本发明未绘示的其他实施例中，所述光学头1与检测模块2也可以是单独地运用(如：贩卖)或搭配其他构件使用。以下将分别就光学头1与检测模块2的构造作一说明，并适时地介绍两者之间的连接关系。

所述光学头1于本实施例中是以第i370911号中国台湾专利所公开的光学头进行结构改良而形成的构造，据以使其能够适用于曝光领域中、并进而能够用来量测曝光时的光角。也就是说，所述光学头1于本实施例中所述及的改良特征是有其目的性及特定的技术效果、其并非由上述第i370911号中国台湾地区专利公开的技术内容而能轻易得知。

如图2至图4所示，所述光学头1包含有一透光基层11及一不透光薄膜12，上述不透光薄膜12具有位于相反侧的一第一表面121与一第二表面122，并且所述透光基层11设置于不透光薄膜12的第一表面121上。再者，所述透光基层11于本实施例中是位于远离上述检测模块2的所述光学头1部位(如：图1中的光学头1左侧部位)；也就是说，所述光学头1的不透光薄膜12第二表面122是面向上述检测模块2，但本发明不受限于此。

进一步地说，所述不透光薄膜12形成有由所述第一表面121延伸至第二表面122的多个次波长环孔1211，并且上述透光基层11于第一表面121覆盖上述多个次波长环孔1211。所述不透光薄膜12于所述第二表面122上凹设有多个环沟1221，并且每个环沟1221未贯穿至第一表面121，而上述多个环沟1221分别位于多个次波长环孔1211的内侧。于本实施例中，所述每个次波长环孔1211的内侧设有一个所述环沟1221，但本发明不以此为限。

其中，上述多个次波长环孔1211于本实施例中各呈圆环状且具有相同的直径，并且所述多个次波长环孔1211呈矩阵状排列并对称于上述中心轴线c，但本发明不受限于此。需说明的是，上述每个次波长环孔1211的具体数据(如：深度、宽度、及直径)可以依据设计需求而加以调整变化。

再者，上述多个环沟1221于本实施例中各呈圆环状且具有相同的直径，并且每个次波长环孔1211及其内侧的环沟1221大致呈同心圆设置；也就是说，多个环沟1221也是呈矩阵状排列并对称于上述中心轴线c，但本发明不受限于此。需说明的是，上述每个环沟1221的具体数据(如：深度、宽度、及直径)也可以依据设计需求而加以调整变化。

依上所述，如图5和图6所示，所述光学头1能供一基准入射光l0穿过所述透光基层11及多个次波长环孔1211，以通过贝索聚焦(besselfocus)方式于所述检测模块2上形成有多个基准聚焦点p0。换个角度来说，上述光学头1是先通过接收基准入射光l0，以达到校正的效果，所以上述基准入射光l0穿过任一个所述次波长环孔1211而形成的一基准光轴cl0，其优选是平行于光学头1的中心轴线c，但本发明不以此为限。

据此，在所述光学头1通过上述校正程序，以使检测模块2记录沿经特定行径路线的基准入射光l0所形成的多个基准聚焦点p0之后，所述光学头1及检测模块2能够彼此配合用来量测曝光时的光角α(如：图7)。

更详细地说，如图7和图8所示，当一曝光设备(图中未示出)所发出的一入射光l穿过所述光学头1，以通过贝索聚焦方式于所述检测模块2上形成有多个聚焦点p时，所述检测模块2能够依据上述多个聚焦点p分别相对于多个基准聚焦点p0之间的位移距离δx、δy，量测出所述入射光l相对于所述基准入射光l0的一光角α。换个角度来说，上述光角α于本实施例中可以视为相夹于所述入射光l穿过任一个所述次波长环孔1211而形成的一光轴cl以及上述基准入射光l0的相对应基准光轴cl0之间的角度。

此外，上述光学头1与检测模块2在运作时还包含有下述技术特征：形成于所述检测模块2上的任一个基准聚焦点p0的直径dp0或任一个聚焦点p的直径dp是介于0.3微米至5微米(如：2～3微米)；每个次波长环孔1211能使由所述透光基层11往不透光薄膜12行进的所述入射光l于不透光薄膜12上产生一表面电浆波；对应于每个次波长环孔1211的所述表面电浆波能于相对应的所述环沟1221进行耦合成光。

另，如图1、图7、及图8所示，所述检测模块2的具体构造可依据设计需求而加以调整，但于本实施例中，为使检测模块2的构造能够更为适用于曝光领域，其优选是包含有相互电性连接的一影像传感器21及一控制器22。其中，所述影像传感器21设置于暗箱3内，上述多个基准聚焦点p0及多个聚焦点p是聚焦在所述影像传感器21上，并且所述控制器22能够依据多个聚焦点p分别相对于多个基准聚焦点p0之间的位移距离δx、δy，量测出所述入射光l相对于基准入射光l0的光角α。

再者，于本实施例未绘示的其他实施例中，所述控制器22能被进一步地电性耦接至一电子装置，据以将其所量测出的光角α信息传递至上述电子装置。其中，所述控制器22与电子装置可以皆设置于上述曝光设备中、或是上述控制器22与电子装置的至少其中一个设置于曝光设备的外部，本发明在此不加以限制。此外，上述控制器22与电子装置之间可以是通过无线传输或有线传输的方式达成电性耦接。

[本发明实施例的技术效果]

综上所述，本发明实施例所公开的曝光光角量测，其设有相互搭配运作的光学头与检测模块，以通过光学头的多个次波长环孔于检测模块上形成有多个基准聚焦点及多个聚焦点，使得入射光相对于基准入射光的光角能由多个基准聚焦点及多个聚焦点相互对应而得知，据以令光角的量测精准度能够符合曝光领域中的曝光光角的要求。

再者，由于所述光学头的结构设计是基于贝索聚焦方式，使其在检测模块上形成任一个基准聚焦点(或聚焦点)能够具备较小的直径，进而有助于提升光角的量测精准度。

此外，为使本发明实施例的曝光光角量测还能够进一步设有暗箱及/或光学透镜，或是所述检测模块包含有相互电性连接的影像传感器及控制器，据以使其能更为适用于量测曝光领域中的曝光光角。

以上所述仅为本发明的优选可行实施例，并非用来局限本发明的保护范围，凡依本发明专利范围所做的均等变化与修饰，皆应属本发明的权利要求书的保护范围。