一种紫外线照射法制备染色体核型分析样品的装置的制作方法

文档序号:15015507发布日期:2018-07-24 23:28阅读:432来源:国知局

本实用新型涉及医疗辅助设备技术领域,具体涉及一种用于对载玻片上的细胞染色体样品进行烤片老化的设备。



背景技术:

在医学检验和科学研究中,通常需要将样品如活体组织、细胞、染色体等制备在载玻片表面,用显微镜对其形态、颜色、构造等特征进行观察分析,得出诊断结果。而在载玻片样品制备的过程中,需要经过一个很重要的步骤:就是要先对载玻片上的细胞染色体样品进行烤片老化然后才能进行染色,最后进行显微镜核型分析。

传统技术中,载玻片样品的烤片老化过程通常是将玻片放入热烘箱内,设置温度50-90度左右,烘烤2-3个小时。这种传统的烤片老化制备染色体核型分析样品的方法所需时间长,会延误出诊断报告时间。随着目前染色体核型分析医学诊断要求的提高,快速和自动化样品制备显得更加必要。



技术实现要素:

本实用新型针对现有技术存在的缺点,提供一种结构简单、使用方便、高通量、烤片老化速度快乐的紫外线照射法制备染色体核型分析样品的装置。

为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:一种紫外线照射法制备染色体核型分析样品的装置,包括有箱体和电控机构,其特征在于:在箱体内安装有若干层(如两层或三层等)用于放置玻片的抽屉式托盘,每一托盘具有若干个玻片放置位;在箱体内设置有若干紫外灯珠,各紫外灯珠的照射方向朝向托盘上的玻片放置位。

进一步地,所述紫外灯珠采用波长为254-390nm、强度10-1000mW/cm2的紫外汞灯或LED灯。

进一步地,每一托盘具有64个玻片放置位,各玻片放置位均匀设置于托盘上;所述紫外灯珠亦设有64颗,每一紫外灯珠对准一玻片放置位,实现一对一地进行烤片,提高烤片的速度。

进一步地,所述紫外灯珠设置于箱体的顶板底面,用于承载紫外灯珠的灯板亦安装于箱体的顶板底面,各紫外灯珠形成从上往下凌空照射位于玻片放置位中的玻片的烤片结构,提高烤片的效果。

进一步地,所述托盘包括有基板和垫板,垫板设置于基板上,在垫板上设有若干沟槽,各玻片放置位通过沟槽在垫板上分隔而成;在基板的外端带固定有一托盘条形成拉手部位,以便于将托盘从箱体内拉出。

工作流程:

1、先将制备好的有病人样品的玻片摆放放入玻片托盘中,一个托盘可放置1-64玻片;

2、将托盘放入紫外线照射箱中;

3、启动紫外灯电源,按要求设置控制照射时间和强度;

4、完成照射,取出托盘,收取紫外烤片老化制备好的染色体玻片,用于下一步染色工序;

5、染色后,可通过显微镜观察细胞染色体核型染色和分散状态,得出诊断报告。

本实用新型通过在箱体的顶面设置紫外线灯珠,每一玻片对应一紫外线灯珠,采用紫外线照射的方法进行烤片老化,具有比传统热烤箱更好的烤片老化效果,不仅一次性烤片数量大,一个托盘一次就能烤片64片,而且烤片速度快,照射烤片时间为10秒到10分钟,比传统热烘箱烤片快10倍以上。

附图说明

图1为本实用新型立体结构示意图;

图2为本实用新型正面结构示意图;

图3为本实用新型内部结构示意图;

图4为图1的局部放大图。

图中,1为箱体,2为托盘,3为灯板,4为紫外灯珠,5为基板,6为垫板,7为沟槽,8为玻片。

具体实施方式

本实施例中,参照图1、图2、图3和图4,所述紫外线照射法制备染色体核型分析样品的装置,包括有箱体1和电控机构,在箱体1内安装有两层用于放置玻片8的抽屉式托盘2,每一托盘2具有64个玻片放置位;在箱体1内设置有65颗紫外灯珠4,各紫外灯珠4的照射方向朝向托盘2上的玻片放置位,每一紫外灯珠4对准一玻片放置位,实现一对一地进行烤片,提高烤片的速度。

所述紫外灯珠4采用波长为254-390nm、强度10-1000mW/cm2的紫外汞灯或LED灯。

所述紫外灯珠4设置于箱体1的顶板底面,用于承载紫外灯珠4的灯板3亦安装于箱体1的顶板底面,各紫外灯珠4形成从上往下凌空照射位于玻片放置位中的玻片8的烤片结构,提高烤片的效果。

所述托盘2包括有基板5和垫板6,垫板6设置于基板5上,在垫板6上设有若干沟槽7,各玻片放置位通过沟槽7在垫板6上分隔而成;在基板5的外端带固定有一托盘条形成拉手部位,以便于将托盘2从箱体内拉出。

工作流程:

1、先将制备好的有病人样品的玻片8摆放放入玻片托盘2中,一个托盘2可放置1-64玻片;

2、将托盘2放入紫外线照射箱中;

3、启动紫外灯电源,按要求设置控制照射时间和强度;

4、完成照射,取出托盘,收取紫外烤片老化制备好的染色体玻片,用于下一步染色工序;

5、染色后,可通过显微镜观察细胞染色体核型染色和分散状态,得出诊断报告。

以上已将本实用新型做一详细说明,以上所述,仅为本实用新型之较佳实施例而已,当不能限定本实用新型实施范围,即凡依本申请范围所作均等变化与修饰,皆应仍属本实用新型涵盖范围内。

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