一种瓶盖自动成像检测系统的制作方法

本实用新型涉及包装设备领域，更具体的是涉及一种瓶盖自动成像检测系统。

背景技术：

目前瓶盖的检测已开始采用全自动化检测设备，其可采集瓶盖的侧部、瓶盖内部以及瓶盖顶部进行采集，从而对瓶盖的变形、圆度、飞边、黑点、脏污以及缺料等问题进行检测和分离，以保证瓶盖的美观、质量达标。瓶盖在通过理盖机进入检测装置时，其瓶盖口朝上，以便于瓶盖内部以及其侧部的图像数据采集，但是还需要对瓶盖的顶部进行图像数据采集，此时需要将瓶盖将进行翻转以便于后续的数据采集工作。

目前市面上存在自动瓶盖检测机通过真空吸附传送线，将瓶盖进行吸附从而实现吊装运输，在真空吸附传送线下方，设置检测装置以此来达到检测瓶盖顶部的目的。当检测到瓶盖存在以上问题时，通常采用剔除装置将瓶盖吹出或者推出传送带，由于负压吸附作用瓶盖紧密贴合于真空皮带上，此时剔除装置需要提供较强的作用力使次品瓶盖脱离真空吸附传送线，次品瓶盖在剔除装置的作用下会与设备的壳体发生碰撞而发生无规则运动，次品瓶盖可能会对传送带上瓶盖的正常输送造成影响，需要对瓶盖进行重新检测，造成检测效率下降；此外，部分瓶盖存在的缺陷可通过后续的处理进行改善，但是瓶盖与机体之间发生碰撞会导致瓶盖发生形变或损坏，造成生产成本的增加；瓶盖脱离之后存留于检测设备的壳体之内，长时间使用会造成次品瓶盖的堆积，需要停机进行人工清洁处理，以致影响设备的正常运行和检测效率。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于：为了解决目前的瓶盖检测装置在瓶盖剔除过程中出现碰撞、损坏导致的产品合格率下降、生产成本增加以及因堆积而造成的检测效率低下的问题，本实用新型提供一种瓶盖自动成像检测系统。

本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案：

一种瓶盖自动成像检测系统，包括工作台以及设置于工作台上的输送机构，所述输送机构包括第一真空吸附输送装置、第二真空吸附输送装置，所述第一真空吸附输送装置的一端与瓶盖整理装置的输送带连接，所述第二真空吸附输送装置位于第一真空吸附输送装置另一端的正上方，所述第一真空吸附输送装置两侧设有用于检测瓶盖侧面的第一成像装置，所述第一真空吸附输送装置正上方设有用于检测瓶盖内部的第二成像装置，所述第二真空吸附输送装置的正下方设有用于检测瓶盖顶部的第三成像装置；所述第一真空吸附输送装置与第二真空吸附输送装置均设有用于剔除次品瓶盖的剔除装置；所述工作台上还设有用于输送次品瓶盖的传送装置，所述传送装置与输送结构通过连接部连通，所述连接部与剔除装置位置相对，所述传送装置的两侧设有防止瓶盖滑落的第一挡板，所述传送装置的输出端设有回收仓，所述第二真空吸附输送装置的输出端设有成品仓。

在本实用新型较佳的实施例中，第一真空吸附输送装置包括输送机、安装于输送机上的输送带以及用于抽取输送机内部空气的真空泵，所述输送带的中央部位设有延其长度方向依次排列的吸附孔，且所述第二真空吸附输送装置与第一真空吸附输送装置的机构相同。

在本实用新型较佳的实施例中，连接部包括用于连接板以及设置于连接板两侧的第二挡板，所述连接板一端的端部与传送装置侧壁连接，另一端的端部与输送机构的侧壁连接。

在本实用新型较佳的实施例中，连接板宽度大于瓶盖的直径，且其宽度沿第一真空吸附输送装置至传送装置方向递减。

在本实用新型较佳的实施例中，第一挡板与连接部相对的位置、第二挡板内壁均设有缓冲层，且所述缓冲层的外表面为粗糙面。

在本实用新型较佳的实施例中，剔除装置包括气泵、喷头以及用于连接气泵和喷头的喷气管，所述喷头的喷口处朝向输送机构，所述气泵的出气口处还设有用于控制喷气的电磁阀

本实用新型的有益效果如下：本实用新型提供的一种瓶盖自动成像检测系统设置的输送机构能够将待检测的瓶盖进行吸附，防止瓶盖在检测过程中发生偏移、滑落，提高瓶盖的检测效率；此外，第一真空吸附输送装置与第二真空吸附输送装置与传送装置之间均通过连接部连通，各个成像装置将图像数据传输至终端进行对比分析后，不合格的瓶盖被剔除装置吹向传送装置在输送至回收仓中进行回收，防止次品瓶盖在机体内堆积，不需要人工进行清理，提高设备的自动化水平，从而提高瓶盖检测的效率和回收效率。

附图说明

为了更清楚地说明本使用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是本实用新型提供的一种瓶盖自动成像检测系统的示意图；

图2是本实用新型提供的一种瓶盖自动成像检测系统的俯视图。

附图标记：1-第一真空吸附输送装置；10-吸附孔；2-第二真空吸附输送装置；3-第一成像装置；4-第二成像装置；5-第三成像装置；6-剔除装置；7-传送装置；8-连接部；13-成品仓；15- 回收仓；71-第一挡板；73、83-缓冲层；81-第二挡板；85-连接板。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

请参照图1和图2，本实施例提供一种瓶盖自动成像检测系统，其主要包括工作台以及设置于工作台上的输送机构。

输送机构包括第一真空吸附输送装置1、第二真空吸附输送装置2，第一真空吸附输送装置1 的一端与瓶盖整理装置的输送带连接，第二真空吸附输送装置位于第一真空吸附输送装置1另一端的正上方。具体地，第一真空吸附输送装置1包括输送机、安装于输送机上的输送带以及用于抽取输送机内部空气的真空泵，输送带的中央部位设有延其长度方向依次排列的吸附孔10，且所述第二真空吸附输送装置2与第一真空吸附输送装置1的机构相同。真空泵将输送机内部的气体抽出至外界，第一真空吸附输送装置1和第二真空吸附输送装置2的内部压强降低，质量较轻的瓶盖在负压作用下被吸附于输送带上，能够有效防止瓶盖在输送带上发生偏移、滑落的问题，从而便于瓶盖各个角度的检测。

第一真空吸附输送装置1两侧设有用于检测瓶盖侧面的第一成像装置3，第一真空吸附输送装置1正上方设有用于检测瓶盖内部的第二成像装置4，第二真空吸附输送装置2的正下方设有用于检测瓶盖顶部的第三成像装置5。第二真空吸附输送装置2的负压作用大于第一真空吸附输送装置 1，当瓶盖输送至第一真空吸附输送装置1的末端时，位于其上方的第二真空吸附输送装置2的底部通过负压作用将其进行吸附，从而使瓶盖在输送的过程中能保持瓶盖底部与第三成像装置5保持相对，此过程中不需要将瓶盖进行翻转即可对瓶盖顶部进行图像数据采集，从而提高瓶盖的检测效率；此外，通过真空吸附能够防止瓶盖在输送时发生堵塞的问题。

第一成像装置3包括四个工业摄像头以及用于固定工业摄像头的第一支架，第一成像装置3 通过第一支架与工作台进行固定，第一成像装置3可获取经过此检测区域瓶盖的各个角度的侧部图像信息。第二成像装置4包括支架和工业摄像头，工业摄像头通过支架与工作台固定连接，第二成像装置4可获取经过此区域的瓶盖内部的图像信息。第三成像装置5包括工业摄像头，固定于工作台底部，工业摄像头的与第二真空吸附输送装置2的底部相对。第一成像装置3、第二成像装置4 以及第三成像装置5均与工业图像分析仪连接，并可将其中的图像数据传递至工业图像分析仪，工业图像分析仪将相关结果信息反馈至瓶盖自动成像检测系统的控制器。

第一真空吸附输送装置1与第二真空吸附输送装置均设有用于剔除次品瓶盖的剔除装置6。此外，工作台上还设有用于输送次品瓶盖的传送装置7，传送装置7与输送结构通过连接部8连通，连接部8与剔除装置6位置相对，传送装置7的两侧设有防止瓶盖滑落的第一挡板71。

具体地，剔除装置6包括气泵、喷头以及用于连接气泵和喷头的喷气管，喷头的喷口处朝向传送装置7，气泵的出气口处还设有用于控制喷气的电磁阀。

具体地，连接部8包括用于连接板85以及设置于连接板85两侧的第二挡板81，连接板85一端的端部与传送装置7侧壁连接，另一端的端部与输送机构的侧壁连接。连接板85宽度大于瓶盖的直径，且其宽度沿第一真空吸附输送装置1至传送装置7方向递减。连接部8的通道宽度变小可降低瓶盖进入传送装置7的速度，从而较少瓶盖与第一挡板71的撞击力度，防止瓶盖在撞击之后发生回弹。

进一步地，第一挡板71与连接部8相对的位置设有缓冲层73、第二挡板81内壁处设有缓冲层83，且缓冲层73和缓冲层83的外表面为粗糙面。通过设置缓冲层可防止一些可经过后续处理达到质量标准的瓶盖在运动过程中与挡板之间发生碰撞而导致瓶盖变形、损坏等问题，提高产品的合格率，减少生产成本。

当瓶盖于第一真空吸附输送装置1上进行输送时，第一成像装置3和第二成像装置4能够获取瓶盖内部和侧部的图像数据并传递至工业图像分析仪进行对比分析，存在质量问题的瓶盖被剔除装置6吹入传送装置7，当瓶盖于第二真空吸附输送装置2上进行输送时，第三成像装置5获取瓶盖顶部的图像数据，存在质量问题的瓶盖亦被剔除装置6吹入传送装置7。

传送装置7的输出端设有回收仓15，第二真空吸附输送装置2的输出端设有成品仓13。需要说明的是此处的传送装置7为皮带式传送机。

在本实施例中需要说明的是，第一真空吸附输送装置1、第二真空吸附输送装置2由电机驱动，第一成像装置3、第二成像装置4、第三成像装置5、剔除装置6的电磁阀均与瓶盖自动成像检测系统的控制器电连，且控制器为PLC。

以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，本实用新型的专利保护范围以权利要求书为准，凡是运用本实用新型的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本实用新型的保护范围内。