温度稳定光谱仪的制作方法

文档序号:16460656发布日期:2019-01-02 22:33阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种温度稳定光谱仪,其特征在于,包括外壳、光栅元件、阵列探测器、支架以及至少一个补偿基底,所述光栅元件、阵列探测器、支架和补偿基底设置在所述外壳内,所述阵列探测器通过所述支架固定在所述外壳内,所述温度稳定光谱仪还包括入射狭缝,所述补偿基底使所述光栅元件与所述入射狭缝之间的距离恒定、所述光栅元件与所述阵列探测器之间的距离恒定;光线通过所述入射狭缝进入所述外壳,照射到所述光栅元件上后进行衍射,然后通过所述阵列探测器进行读取和转化。

2.如权利要求1所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述补偿基底的热膨胀系数大于所述外壳的热膨胀系数。

3.如权利要求2所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述入射狭缝设置在所述外壳上,或者,所述入射狭缝设置在外接SMA光纤连接器上。

4.如权利要求3所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述外壳内设有一个所述补偿基底,所述光栅元件设置在所述补偿基底上。

5.如权利要求3所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述外壳内设有第一补偿基底和第二补偿基底,所述入射狭缝设置在所述第一补偿基底上,所述阵列探测器设置在所述第二补偿基底上。

6.如权利要求5所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述外壳内还设有第三补偿基底,所述光栅元件设置在所述第三补偿基底上。

7.如权利要求2所述的温度稳定光谱仪,其特征在与,所述外壳由铝材料制成。

8.如权利要求7所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述补偿基底由聚甲醛材料制成。

9.如权利要求1至8中任一项所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述光栅元件为平场型凹面光栅,所述光栅元件的焦曲线为直线。

10.如权利要求9所述的温度稳定光谱仪,其特征在于,所述阵列探测器为CCD传感器阵列或CMOS光电传感器阵列,所述阵列探测器中设有光敏线性元件,所述光敏线性元件与所述焦曲线重合。

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