一种连续真空镀膜生产线用玻璃装夹装置测速机构的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜设备，具体为一种连续真空镀膜生产线用玻璃装夹装置测速机构。

背景技术：

目前传统连续镀膜设备上面基片架的检测是通过在真空室体上加装传感器监测基片架进入时的状态，伺服电机带动基片架运动，再利用电脑计算时间和速度来换算得出基片的大概位置，实现的监测属于虚拟监测而不是具体的位置点，因此监测的精度不高，速度控制不准确，从而容易出现镀膜不均匀，影响产品品质。

技术实现要素：

针对上述现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种监测精度高的连续真空镀膜生产线用玻璃装夹装置测速机构。

本实用新型采用的技术方案如下：一种连续真空镀膜生产线用玻璃装夹装置测速机构，包括基片架，还包括光电传感器、PLC，在基片架底部的下横板上开设有一排穿透下横板的等距离分布的腰槽孔，在一侧的真空腔体壁上与腰槽孔对应位置处安装有光电传感器发射端，另一侧的真空腔体壁上安装有光电传感器接收端，光电传感器发射端、光电传感器接收端位于腰槽孔的中线上，PLC与光电传感器连接。

进一步地，相邻腰槽孔之间的间距为20±0.1mm。

进一步地，左边第一个腰槽孔距离下横板左边缘15±0.2mm，右边第一个腰槽孔距离下横板右边缘15±0.2mm。

进一步地，靠近光电传感器发射端一侧的腰槽孔的开口大，靠近光电传感器接收端一侧的腰槽孔的开口小。

本实用新型的测速机构通过基片架上等距离腰槽孔的设计,基片架在传动机构连续工作运动时，通过光电传感器接收端接收到穿过腰槽孔的的信号，PLC分析可以准确的定位到基片架行走的准确位置，位置能精确到毫米级别，该机构不但能够监测到基片架具体位置也能计算和控制基片架速度，实现基片某一位置的往返运动和在线监测功能，为控制镀膜的均匀性提供了可靠的依据。

附图说明

图1是本实用新型的基片架的结构示意图。

图2是图1中A处的局部放大图。

图3是本实用新型的局部结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本实用新型作更全面、细致地描述，但本实用新型的保护范围并不限于以下具体的实施例。

如图1—图3所示，一种连续真空镀膜生产线用玻璃装夹装置测速机构，包括基片架，还包括光电传感器、PLC，在基片架底部的下横板1上开设有一排穿透下横板的等距离分布的腰槽孔2，相邻腰槽孔2之间的间距为20±0.1mm，左边第一个腰槽孔2距离下横板1左边缘15±0.2mm，右边第一个腰槽孔2距离下横板1右边缘15±0.2mm。在一侧的真空腔体壁上与腰槽孔对应位置处安装有光电传感器发射端3，另一侧的真空腔体壁上安装有光电传感器接收端4，光电传感器发射端3、光电传感器接收端4位于腰槽孔2的中线上，靠近光电传感器发射端3一侧的腰槽孔2的开口大，靠近光电传感器接收端4一侧的腰槽孔2的开口小，PLC与光电传感器连接。

本实用新型的测速机构通过基片架上等距离腰槽孔的设计,基片架在传动机构连续工作运动时，通过光电传感器接收端接收到穿过腰槽孔的的信号，PLC分析可以准确的定位到基片架行走的准确位置，位置能精确到毫米级别，该机构不但能够监测到基片架具体位置也能计算和控制基片架速度，实现基片某一位置的往返运动和在线监测功能，为控制镀膜的均匀性提供了可靠的依据。

在前述说明书与相关附图中存在的教导的帮助下，本实用新型所属领域的技术人员将会想到本实用新型的许多修改和其它实施方案。因此，要理解的是，本实用新型不限于公开的具体实施方案，修改和其它实施方案被认为包括在所附权利要求的范围内。尽管本文中使用了特定术语，它们仅以一般和描述性意义使用，而不用于限制。