基于聚合物类对比剂的引入来产生储集层的影像的制作方法

基于聚合物类对比剂的引入来产生储集层的影像
发明领域
[0001]
本说明书总体涉及基于聚合物类对比剂的引入来产生储集层的影像的方法。


背景技术：

[0002]
在钻井之前，了解地下岩层或储集层的地表下地质情况可为有益的。举例来说，了解水如何穿过岩层可以是确定井定位于何处的因素。可以利用成像技术，基于发射到岩层或储集层中的信号来产生地表下地质的影像。钻井之前，可以显示或分析所产生的影像。


技术实现要素：

[0003]
实例方法包括将溶液引入储集层的至少一部分中。溶液包括对比剂和流体。对比剂包括介电常数大于预定义值的聚合物。预定义值的实例可以是水的介电常数。实例方法还包括使用至少一个em发射天线将第一电磁(em)信号导入储集层中。第一em信号穿过引入了溶液的储集层的至少一部分。使用至少一个em接收天线接收穿过储集层的至少一部分之后的第一em信号。测定数据，所述数据代表了第一em信号穿过储集层的第一行进时间与第二em信号穿过储集层的第二行进时间之间的差值。基于数据来产生关于至少一部分储集层的物理特征的信息。实例方法可以包括以下特征中的一个或多个，单独或组合。
[0004]
第一和第二em信号可以包括非连续em信号，所述非连续em信号具有可用于界定开始时间和中止时间的可辨别特征，例如第一拐点、过零点或主峰。非连续em信号中的每一个可以包括em脉冲。em脉冲可以包括方波或正弦波或三角波。数据可以表示穿过引入溶液的储集层的至少一部分而引起的第一em信号的时间延迟。时间延迟可以等于第一行进时间与第二行进时间的差值，第一行进时间是第一em信号穿过储集层中含有对比剂的水饱和性储集层岩石的时间，第二行进时间是第二em信号穿过不含对比剂的水饱和性储集层岩石的时间。
[0005]
第一和第二em信号可以具有大于或等于10000赫兹(hz)(或10千赫兹(khz))的频率。至少一个em发射天线所发射的每个em信号的频率可以等于至少一个em接收天线所接收的每个对应em信号的频率。对比剂中的聚合物的介电常数可以大于或等于一百(100)。所述信息可以包括代表至少一部分储集层的空间图。所述信息可以代表流体在注满条件期间穿过储集层的移动。
[0006]
至少一个em发射天线可以位于储集层的生产井中。至少一个em接收天线可以位于储集层的注入井中。em接收天线可以被配置成接收穿过介于生产井与注入井之间的储集层的至少一部分之后的em信号。至少一个em接收天线可以位于储集层的表面上。em接收天线可以被配置成接收穿过介于生产井与储集层表面之间的储集层的至少一部分之后的em信号。
[0007]
实例方法还包括在发射第一em信号之后，将至少一个em发射天线从生产井中的第一位置移动至生产井中的第二位置，以便产生生产井中的第二位置附近的数据。实例方法还包括在接收到第一em信号后，将至少一个em接收天线从第一位置移动至第二位置以便产
生第二位置附近的数据。
[0008]
实例系统包括注入器，其经配置以将溶液引入储集层的至少一部分中。在一些实例中，引入方式是注射。溶液可以包括对比剂和流体。对比剂包括介电常数大于预定义值的聚合物。至少一个em发射天线经配置以将第一电磁(em)信号导入储集层中。第一em信号穿过储集层的至少一部分。至少一个em接收天线经配置以接收穿过储集层的至少一部分之后的第一em信号。一个或多个处理装置经配置以测定时间延迟，所述时间延迟代表了第一em信号穿过储集层的第一行进时间与第二em信号穿过储集层的第二行进时间之间的差值，以及基于时间延迟来产生关于至少一部分储集层的物理特征的信息。实例方法可以包括以下特征中的一个或多个，单独或组合。
[0009]
举例来说，聚合物可以是瓜尔胶，或聚乙烯醇(pva)，或聚乙烯基吡咯烷酮(pvp)，或an 132，或an 132vhw，或an 132sh，或两性离子型偶极或带中性电荷的聚合物，其中聚合物经配置用于频率范围为10khz到1mhz的em测绘应用中。对于频率范围为10khz到100khz的em测绘应用来说，聚合物可以是瓜尔胶，或聚乙烯醇(pva)，或聚乙烯基吡咯烷酮(pvp)。对于频率范围为100khz到1兆赫兹(mhz)的em测绘应用来说，聚合物可以是an 132，或an 132vhw，或an 132sh，或两性离子型偶极或带中性电荷的聚合物。介电常数可以大于或等于一百(100)。分子量是在10千道尔顿(kda)到10兆道尔顿(mda)范围内。
[0010]
第一和第二em信号可以是非连续em信号，以便确立em信号的开始时间和中止时间。非连续em信号可以是em脉冲。em脉冲可以是方波或正弦波或三角波。
[0011]
时间延迟可以对应于第一行进时间与第二行进时间的差值，所述第一行进时间是第一em信号穿过储集层中的对比剂的时间，第二行进时间是第二em信号穿过水饱和性储集层岩石的时间。至少一个em接收天线可以被配置成接收每个em信号，所述每个em信号的频率等于至少一个em发射天线所发射的每个对应em信号的频率。所述信息可以包括代表至少一部分储集层的空间图。所述信息可以代表流体在注满条件期间穿过储集层的移动。
[0012]
至少一个em发射天线可以定位于储集层的生产井中。至少一个接收器可以定位于储集层的注入井中。至少一个em接收天线可以定位于储集层的至少一部分上方的表面上。em接收天线可以被配置成接收穿过介于生产井与表面之间的储集层的至少一部分之后的em信号。在发射第一em信号之后，可以物理方式将至少一个em发射天线从第一位置发射移动至第二位置以便产生第二位置处的数据。在接收到第一em信号之后，可以物理方式将至少一个em接收天线从第一位置移动至第二位置以便产生第二位置处的数据。
[0013]
使用聚合物类对比剂进行em测绘的优点可以包括以下一个或多个。使用具有高介电常数的聚合物类对比剂可以改进能够用于em测绘的频率范围并且可以提供增强的稳定性。举例来说，一些聚合物类对比剂可能不容易聚集或絮凝。此外，聚合物类对比剂可以保留其一种或多种组成性聚合物的所有本体介电特性，由此产生较大介电值，从而可以形成频率范围的改进和稳定性的提高。另外，一些聚合物还可以防止所引入的水发生指进。指进是储集层中的相对普遍状况，其中随着液体前行，两种液体(例如油和水)的界面绕过储集层的断面，从而产生了不均匀或指状轮廓。一些聚合物当溶解于一种液体(例如水)中时，可以改变聚合物水的移动性。举例来说，因一些聚合物的添加而引起的这种移动性变化可以改善聚合物水与第二流体(例如油)之间的移动性差异，从而可以减少指进并且增加扫描效
率。
[0014]
本说明书中所述的实例系统和方法的优点还可以包括以下一个或多个。实例系统和方法可以改进信噪比并且因此改进成像的总体品质和分辨率。高介电聚合物溶液可以改进能够用于em测绘的频率范围并且是稳定的。另外，只需较少的量(例如低于1重量％)便可以实现高介电特性。
[0015]
本说明书中所述的任何两个或更多个特征，包括此发明内容章节中所述的特征，可以组合以形成本说明书中未具体描述的实施方案。
[0016]
本说明书中所述的方法、系统和设备的至少一部分可以通过在一个或多个处理装置执行指令来控制，所述指令存储于一个或多个非暂时性机器可读存储介质上。非暂时性机器可读存储介质的实例包括只读存储器、光盘驱动器、存储器磁盘驱动器、随机存取存储器等。本说明书中所述的方法、系统和设备的至少一部分可以使用包含一个或多个处理装置和存储器存储指令的计算机系统控制，所述指令可由一个或多个处理装置执行以执行多个控制操作。
[0017]
一个或多个实施方案的细节随后阐述于附图和具体实施方式中。其它特征和优点从具体实施方式和附图以及从权利要求书中将显而易见。
附图说明
[0018]
图1是具有发射器和em接收天线的实例储集层构形的横截面方块图。
[0019]
图2是含有实例井间电磁(em)询问单元的实例储集层的横截面方块图。
[0020]
图3是含有实例井眼到表面em(bsem)询问单元的实例储集层的横截面方块图。
[0021]
图4是实例储集层的横截面方块图，其说明了因将聚合物类对比剂引入储集层中而引起的em信号时间延迟。
[0022]
图5是显示基于聚合物类对比剂的引入而产生储集层影像的实例方法的流程图。
[0023]
不同图中的相同元件符号指示相同的元件。
具体实施方式
[0024]
本说明书中描述了基于聚合物类对比剂引入储集层中来产生储集层影像的实例系统和方法(“系统”)。可以基于发射到储集层中且穿过聚合物类对比剂的电磁(em)信号来产生影像。基于发射到储集层中的电磁(em)信号而产生储集层影像的方法称为基于em的测绘。能够使用的em信号的实例包括微波、长射频(rf)信号和短rf信号。可以使用的聚合物类对比剂的实例包括本说明书中所述的那些。对比剂中使用的聚合物的介电常数可以相对高于岩层水(约70到80)的介电常数。在一些实例中，“高”是相对术语且不需要任一个或多个特定值。
[0025]
操作时，发射em信号穿过储集层，使得em信号通过储集层中的聚合物类对比剂。通过对比剂降低了em信号的速度。em信号穿过水饱和性储集层岩石的速度是可检测且可测量的。穿过不具有聚合物类对比剂的一部分岩层的em信号与穿过具有对比剂的一部分岩层的em信号之间的时间差是可测定的。em信号是由位于例如储集层的至少一部分中的至少一个em发射天线发射，并且被位于例如储集层的，与em发射天线不同的部分中的至少一个em接收天线接收。通过在储集层的不同部分发射和接收的em信号测定穿过储集层的不同部分的
行进时间。在一些实施方案中，em信号穿过不含有聚合物类对比剂的一部分储集层的行进时间与第二em信号穿过含有聚合物类对比剂的储集层的相同部分的行进时间的差值对应于时间延迟。一个或多个处理装置(其实例随后描述)对信号进行处理，以便测定时间延迟且基于时间延迟来产生储集层的em图。
[0026]
参看图1，使用em信号产生影像的实例系统包括至少一个em发射天线1。em信号5由源头产生，并且由em发射天线1发射穿过含有聚合物类对比剂的储集层6的一部分。经配置以产生em信号的源头可以位于井下、表面，或任何其它适当位置。所发射的em信号在穿过聚合物类对比剂之后，由至少一个em接收天线2接收。所发射的em信号、接收到的em信号或两者可以通过适当电子元件监测和记录。举例来说，数位信号处理器(dsp)可以被配置成监测或记录，或监测且记录代表发射的和接收到的em信号的数据。一个或多个处理装置9(例如计算机系统)可以被配置成对储集层进行em测绘，其通过测定代表发射的em信号与接收到的em信号之间的时间延迟的数据，以及基于时间延迟来产生关于储集层的物理特征的信息来进行。时间延迟可以基于所发射的em信号在不存在聚合物类对比剂的情况下的预期行进时间与接收到的em信号在聚合物类对比剂存在下的实际行进时间之间的差值。在一些实施方案中，图1的实例系统可以结合电磁感应极化测量用的1赫兹(hz)到1千赫兹(khz)范围内的频率使用。
[0027]
在一些实施方案中，所述系统是在钻探井眼之后使用。在一个实例中，注入器经配置以将聚合物类对比剂引入储集层的至少一部分中，所述至少一部分已经通过钻探而变得可及。在一些实例中，引入方式是注射。聚合物类对比剂作为含有对比剂和流体(例如水)的溶液的一部分引入。对比剂可以是或包括介电常数大于预定义值的聚合物。预定义值的实例可以是水的介电常数。对比剂的介电常数可以改进储集层中的流体(例如水或烃)与引入储集层中的溶液之间的对比度。为了引入溶液，可以使用一个或多个泵将溶液压入储集层中。可以使用任何适当的引入方法或技术。在一些实例中，引入方式是注射。
[0028]
引入之后，可以将系统的一个或多个组件降入井眼中。在一些实施方案中，举例来说，可以使用适当技术将em发射天线1从井口降入生产井眼中。使用实例生产井眼将流体从储集层中移出。类似地，可以使用适当技术将em接收天线2从井口降入注入井眼中。实例注入井眼将流体(例如水、表面活性剂、泡沫、二氧化碳(co2)、油可混溶的烃类，和油可混溶的聚合物)抽入储集层以维持储集层压力且促进残余的滞留油排出。因此，在一个实例中，em发射天线可以位于生产井眼内部，而em接收天线可以位于注入井眼内部。在一些实施方案中，em发射天线可以位于生产井眼内部，而em接收天线相反可以位于接近于井口的表面上。一般来说，em发射天线可以位于能够让em信号发射穿过储集层中的聚合物类对比剂的任何适当位置；而em接收天线可以位于能够接收到穿过储集层中的聚合物类对比剂的em信号的任何适当位置。
[0029]
em发射天线1经配置以将em信号5导入含有聚合物类对比剂的储集层的一部分中。em信号以适当的功率且以已知的发射频率施加适当的持续时间。举例来说，所施加的em信号的功率可以在千瓦(kw)到兆瓦(mw)范围内。举例来说，所施加的em信号的功率可以是0.1kw、0.2kw、0.5kw、1kw、10kw、100kw、1mw、10mw或100mw。em信号可以施加不同的持续时间。举例来说，em信号可以施加例如数分钟、数秒、数毫秒、数微秒或数纳秒等持续时间。在一些实施方案中，发射器输出的em信号可以是非连续em信号。为了确立信号的开始时间和
中止时间，可以使用非连续信号。非连续信号的实例包括具有能够区分的特征的信号。举例来说，非连续信号包括脉冲，或非连续方波，或非连续正弦波，或非连续三角波。在一些实施方案中，发射器输出的em信号可以是连续em信号。为了在发射器输出的em信号与接收器所接收的em信号之间确立相位差，可以使用连续信号。连续信号的实例包括所施加时间段延长的信号。举例来说，连续信号可以施加几微秒、几毫秒、几秒或几分钟。连续信号包括例如连续方波，或连续正弦波，或连续三角波。信号传输频率可以基于例如以下因素：所测绘的储集层类型、井眼类型、存在于岩层中的岩石和材料，或引入储集层中的溶液的含量。举例来说，发射频率可以大于1hz，或大于100hz，或大于1khz，或大于10khz，或大于100khz，或大于1mhz。在一些实施方案中，发射频率可以在1hz与100khz之间。在一些实施方案中，发射频率可以小于10mhz。
[0030]
在一些实施方案中，em接收天线2经配置以接收发射穿过聚合物类对比剂之后的em信号5。接收到的em信号5的频率可以与所发射的em信号的频率相同，或可以在所发射的em信号的频率的可接受容限内。如前文所解释，处理装置经配置(例如经编程)以测定代表信号时序的数据。处理装置可以处理数据，从而基于数据产生关于至少一部分储集层的物理特征的信息。举例来说，物理特征可以包括储集层的地表下地质，例如储集层的结构特征或储集层的化学组成、储集层的内容物(例如流体或其它材料)、穿过储集层的流体路径，或这些或其它适当特征的任何组合。
[0031]
如前文所述，可以将系统的一些组件降入储集层的井眼中。举例来说，参看图2，em发射天线1可以位于储集层6的生产井3中，并且可以被配置成以穿过生产井3附近的至少一部分储集层6的频率发射em信号5。em接收天线2定位于储集层6的注入井4中并且可以被配置成接收em信号5，接收em信号5的频率与所发射的em信号在穿过介于生产井3与注入井4之间的储集层6中的聚合物类对比剂之后的频率相同。em接收天线接收到em信号之后，可以物理方式移动发射器和em接收天线。举例来说，发射em信号之后，可以物理方式将em发射天线从生产井中的第一位置移动至生产井中的第二位置，以便产生生产井中的第二位置处或附近的数据。举例来说，生产井中的em发射天线的第二位置可以位于第一位置的井上、第一位置的井下(如图2所示)，或第一位置的侧面。在一些实施方案中，第一和第二位置可以是相同的位置。接收到em信号之后，还可以物理方式将em接收天线从注入井中的第一位置移动至注入井中的第二位置的，以便产生注入井中的第二位置附近的数据。举例来说，注入井中的em接收天线的第二位置可以位于第一位置的井上、第一位置的井下(如图2所示)，或第一位置的侧面。利用适当技术选择发射器和em接收天线的第二位置。举例来说，第二位置可以基于软件类技术或此前产生的现有em图而选择。一般来说，为了获得产生储集层的不同部分的影像或增强储集层的现有影像的数据，可以选择发射器和接收天线的第二位置和后续位置。
[0032]
以物理方式移动em发射天线1和em接收天线2之后，将第二em信号从生产井的第二位置的发射器导入储集层且穿过聚合物类对比剂。第二em信号的频率可以与此前从生产井的第一位置发射的em信号相同。举例来说，第二em信号的发射频率可以大于1hz，或大于100hz、大于1khz，或大于10khz，或大于100khz，或大于1mhz。em信号的发射频率可以小于10mhz，或小于100mhz。注入井的第二位置的em接收天线接收穿过含有聚合物类对比剂的储集层的一部分之后的第二em信号。em接收天线所接收的穿过含有聚合物类对比剂的储集层
的一部分之后的第二em信号的频率可以等于em发射天线发射到储集层中的第二em信号的频率，但无需必然等于此前从第一位置发射的em信号。
[0033]
在一些实施方案中，em接收天线可以位于井口附近的储集层表面上。举例来说，参看图3，em发射天线1可以位于储集层6的生产井3中，并且可以被配置成以穿过生产井3附近的含有聚合物类对比剂的至少一部分储集层6的频率发射em信号5。em接收天线2可以位于储集层6的表面上，并且可以被配置成接收穿过介于生产井3与储集层表面之间的储集层6的至少一部分之后的，与所发射em信号频率相同的em信号5。发射且接收到em信号之后，可以物理方式移动发射器和接收器。如此前所述，举例来说，可以将位于生产井中的em发射天线移到生产井中的第二位置(例如第一位置的井下，如图3中所示)。em接收天线可以物理方式移到储集层表面上的第二位置。举例来说，em接收天线在储集层表面上的第二位置可以位于第一位置的左边、第一位置的右边，或与第一位置相同。如此前所述，以物理方式移动em发射天线和em接收天线之后，第二em信号从生产井的第二位置的em发射天线导入储集层用于进一步的em测绘。
[0034]
em发射天线、或em接收天线、或em发射天线和em接收天线在em测绘过程中可以物理方式移动多次。举例来说，em发射天线、或em接收天线、或em发射天线和em接收天线可以移动至少两(2)次，或至少五(5)次，或至少十(10)次，或至少二十(20)次，或至少五十(50)次，或至少一百(100)次，或至少两百(200)次。一般来说，em发射天线、em接收天线或两者可以移动所需的任何适当次数，以在足够的分辨率下获得足量的信息，从而测绘出储集层的目标部分。
[0035]
在一些实施方案中，非连续em信号是由em发射天线发射，穿过含有聚合物类对比剂的储集层的一部分行进，并且由em接收天线接收。为了测定接收到的非连续em信号相对于所发射的非连续em信号的时间延迟，在一些实施方案中，确立并且记录所发射的em信号和接收到的em信号中的每一个的开始时间、中止时间或两者。开始时间可以定义为记录到em信号的上升边缘时的时间。中止时间可以定义为记录到em信号的下降边缘时的时间。在一些实施方案中，开始时间可以定义为记录到em信号的下降边缘时的时间，而中止时间可以定义为记录到em信号的上升边缘时的时间。在一些实施方案中，基于开始时间和中止时间来计算行进时间。举例来说，em信号穿过储集层的行进时间可以按照接收到的em信号的开始时间与所发射的em信号的开始时间之间的差值测定。在一些实施方案中，em信号穿过储集层的行进时间可以按照接收到的em信号的中止时间与所发射的em信号的中止时间之间的差值测定。em信号的开始时间、中止时间和行进时间的测量单位可以是分钟，或秒，或毫秒，或微秒，或纳秒，或皮秒。
[0036]
在一些实施方案中，连续em信号是由em发射天线发射，穿过含有聚合物类对比剂的储集层的一部分行进，并且由em接收天线接收。为了测定接收到的连续em信号相对于所发射的连续em信号的相位差(phase difference)，在一些实施方案中，确立并且记录所发射的em信号和接收到的em信号中的每一个的相位。在一些实施方案中，相位差是基于所发射的连续em信号的相位和接收到的连续em信号的相位计算。举例来说，因穿过储集层而引起的em信号相位差可以按照所发射的em信号的相位与接收到的em信号相位之间的差值测定。em信号的相位和相位差的测量单位可以是度或弧度。
[0037]
在一些实施方案中，处理装置可以经配置(例如编程)以测定因em信号穿过储集层
中的聚合物类对比剂而引起的时间延迟数据。在一些实例中，数据可以代表em信号穿过储集层中的聚合物类对比剂的行进时间与em信号穿过不含对比剂的储集层中的水饱和性储集层岩石的行进时间的差值。在一些实例中，数据可以代表em接收天线接收到的穿过储集层之后的em信号与em发射天线发射到储集层中的相同em信号的相位差。还可以利用其它适当度量标准测定em信号在储集层中所经历的延迟。
[0038]
如此前所述，包含一个或多个处理装置的计算机系统经配置以产生em图，所述em图代表了整个储集层、含有聚合物类对比剂的储集层的一部分，或两者。em图可以是储集层的至少一部分，其距离表面至少60英尺深，或距离表面至少80英尺深，或距离表面至少100英尺深，或距离表面至少200英尺深，或距离表面至少500英尺深，或距离表面至少1000英尺深。一般来说，在给定可利用的技术的情况下，所述系统可以用于产生距离表面任何适当深度的em图。在一些实施方案中，em是空间图，其可以代表流体在注满条件期间穿过储集层的移动路径，或潜在移动路径。
[0039]
图4显示了储集层6在em测绘过程中的横截面。参看图4，em信号5从em发射天线1发射到含有聚合物类对比剂的储集层6的一部分中。如此前所论述，与穿过仅水饱和的储集层岩石7的em信号相比，穿过所注入水饱和的储集层岩石和储集层的高介电性对比剂8的em信号显示延长的行进时间。em信号是由em接收天线2接收。em发射天线，或em接收天线，或em发射天线和em接收天线是由处理装置9监测。处理装置可以经配置以测定当em信号穿过所注入水饱和的储集层岩石行进时与穿过高介电性对比剂行进时的时间延迟或相位差。测定时间延迟或相位差数据的方法在此前已论述。处理装置9还可以配置成利用适当的软件技术将时间延迟或相位差数据转换为关于储集层的物理特征的空间信息。举例来说，可以利用转换软件将数据转换为空间信息。
[0040]
参看图5，所示方法20利用此前所述的技术、基于聚合物类对比剂的引入来产生储集层的影像。操作21包括标识待成像的储集层。可以基于任何适当的准则来标识用于测绘的储集层。操作22包括将包含对比剂和流体的溶液引入储集层的至少一部分。本说明书通篇描述了溶液的实例。操作23包括配置em发射天线以将em信号导入储集层。此前描述了用于将em信号导入至少一部分储集层的技术和参数。就此而言，图2和3显示了生产井眼中的em发射天线，其将em信号导入储集层的至少一部分。
[0041]
操作24包括配置em接收天线以接收穿过含有聚合物类对比剂的储集层的一部分之后的em信号。此前描述了用于接收穿过储集层的至少一部分之后的em信号的技术和参数。操作25包括利用处理装置测定数据，所述数据代表了发射到储集层中的em信号与接收到的穿过储集层的至少一部分之后的em信号之间的差值。此前描述了由所发射的和接收到的em信号测定数据的技术。所测定的数据可以包括时间延迟和相位差。操作26包括在处理装置上执行适当指令，以基于数据来产生关于储集层的物理特征的信息。此前描述了由所测定的数据产生信息的技术。这些技术包括转换由所发射的和接收到的em信号测定的数据。
[0042]
操作27包括确定是否需要对储集层作进一步的em测绘。为了产生储集层的更完整em图，或为了产生更佳品质的影像，或两者，可以要求对储集层作进一步的em测绘。操作28包括以物理方式移动em发射(tx)天线，或em接收(rx)天线，或em发射天线和em接收天线，以及必要或期望时，重复执行发射和接收em信号的操作。利用em发射天线或em接收天线的每
个位置产生关于介于em发射天线与em接收天线之间的储集层的一部分的信息。可以重复执行em信号的发射和接收，以产生储集层的更详尽的em图、储集层的更高分辨率的图，或两者。储集层的成功成像可加以确定和记录。就此而言，成功水平可以通过处理装置确定。利用em测绘将储集层成功成像可以基于例如以下参数确定：所得影像的信噪比、储集层影像面积，和影像分辨率。
[0043]
成像之后，操作29包括从储集层的井眼中移出em发射天线，或em接收天线，或em发射天线和em接收天线，以及中止em影像采集处理。
[0044]
可以用于产生聚合物类对比剂的聚合物实例包括黄原胶、瓜尔胶、聚乙烯醇(pva)、聚乙烯基吡咯烷酮(pvp)、an 132、an 132vhw、an 132sh，或其它两性离子(偶极或带中性电荷)聚合物。分子量是在10千道尔顿(kda)到10兆道尔顿(mda)范围内。视所述范围内的聚合物引起的em时间延迟而定，可以使用聚合物进行频率范围内的em测绘。聚合物在某一频率下引起的em时间延迟是聚合物在某一频率下的介电常数的函数。由于聚合物在某些频率下的介电常数高，因此某些聚合物在某些频率下产生较大或至少可辨别的em信号延迟。选择聚合物来产生聚合物类对比剂可以基于例如以下因素：聚合物在用于em测绘的频率下的介电常数，以及储集层的类型。em时间延迟的精确测量可以基于例如以下因素：通道带宽、脉冲特征，和所用的检测电子元件。举例来说，可以微秒或纳秒的精确度测量em时间延迟。
[0045]
在一些实施方案中，可以跨越相同的频率范围使用多种聚合物。举例来说，黄原胶、瓜尔胶、聚乙烯醇(pva)、聚乙烯基吡咯烷酮(pvp)可以用于频率范围为10khz到100khz的em测绘应用中。在一些实例中，an 132、an 132vhw、an 132或其它两性离子(偶极或带中性电荷)聚合物可以用于频率范围为100khz到1mhz的em测绘应用中。
[0046]
在一些实例中，用于产生聚合物类对比剂的实例聚合物的介电常数可以大于100，或大于150，或大于200，或大于250，或大于500，或大于1000。在一些实例中，用于产生聚合物类对比剂的实例聚合物的介电常数可以小于1百万，或小于2百万，或小于3百万，或小于5百万，或小于1千万。
[0047]
在一些实施方案中，用于产生聚合物类对比剂的聚合物的相对较高介电常数可以在em测绘期间使得储集层中的水饱和岩石与对比剂饱和储集层岩石之间产生较大对比度。适当地选择对比剂溶液的浓度。举例来说，对比剂溶液的浓度可以大于0.05重量％(wt％)，或大于0.1wt％，或大于0.2wt％，或大于0.3wt％，或大于0.4wt％，或大于0.5wt％，或大于0.6wt％，或大于0.7wt％，或大于0.8wt％，或大于0.9wt％，或大于1wt％，或大于2wt％，或大于4wt％，或大于5wt％，或大于6wt％，或大于7wt％，或大于7.5wt％，或大于8wt％，或大于9wt％，或大于9.5wt％。在一些实施方案中，对比剂溶液的浓度可以在0.05wt％到10wt％之间。在一些实施方案中，引入储集层中的对比剂溶液的浓度可以大于储集层岩层中的对比剂溶液的浓度。举例来说，这发生的原因可能是对比剂溶液在引入储集层之后被稀释。所用对比剂溶液的浓度可能基于例如以下因素：所测绘的储集层的类型、岩层中的岩石或其它材料的类型，以及待使用的em测绘技术。
[0048]
含有聚合物类对比剂的溶液可以包括多种对比剂。举例来说，溶液可以包括至少一种对比剂，或至少两种对比剂，或至少三种对比剂，或至少四种对比剂，或至少五种对比
剂，或至少十种对比剂。其它对比剂可以是聚合物类的，具有高介电常数，或聚合物类的且兼有高介电常数。为了在em测绘期间增加储集层的总对比度而选择的对比剂的组合可以基于例如以下因素：待成像的储集层深度和待成像的储集层类型。对比剂溶液包括如此前所述的流体。正如所提及，流体可以是水；然而，可以使用其它适当流体，包括水类溶液。用于制备引入储集层中的溶液的流体可以基于例如以下因素：所测绘的储集层类型、岩层中的岩石或其它材料的类型，以及待使用的em测绘技术。
[0049]
虽然本说明书中所提供的实例显示了竖直井眼，但是此前所述的实例系统和方法可以在整体或部分地呈非竖直的井眼中实施。举例来说，在一些实例中，实例方法可以在相对于地表测量的偏斜井眼、水平井眼或部分水平井眼中执行。
[0050]
本说明书中所述的实例系统和方法的全部或一部分和其不同变型(下文统称为“系统”)可以至少部分地由一个或多个计算机利用一种或多种计算机程序控制，所述计算机程序有形地在一个或多个信息载体(例如一个或多个非暂时性机器可读存储介质)中实施。可以任何形式的编程语言(包括编译或解释语言)编写计算机程序，并且可以任何形式进行部署，包括作为独立程序或作为模块、部分、子程序或适合在计算环境中使用的其它单元。计算机程序能够部署成在一台计算机上或一个站点的多台计算机上执行，或跨越多个站点分布并且通过网络互连。
[0051]
与控制系统有关的行动能够通过一个或多个可编程处理器执行，所述一或多个可编程处理器执行一种或多种计算机程序以控制此前所述的全部或一些井岩层操作。所述方法的全部或一部分能够通过专用逻辑电路控制，例如fpga(现场可编程门阵列)、asic(专用集成电路)，或fpga和asic。
[0052]
适于执行计算机程序的处理器包括例如通用和专用微处理器，以及任何种类的数字计算机的任何一个或多个处理器。一般来说，处理器将从只读存储区域或随机接入存储区域或两者接收指令和数据。计算机的元件包括用于执行指令的一个或多个处理器以及用于存储指令和数据的一个或多个存储区域装置。一般来说，计算机还将包括一个或多个机器可读存储介质，例如用于存储数据的大容量存储装置，例如磁盘、磁光盘或光盘，或可操作地耦接以从所述一个或多个机器可读存储介质接收数据，或将数据传输到所述一个或多个机器可读存储介质，或两者。适于执行计算机程序指令和数据的非暂时性机器可读存储介质包括非易失性存储区域的所有形式，包括例如半导体存储区域装置，例如eprom(可擦除可编程只读存储器)、eeprom(电可擦除可编程只读存储器)，和快闪存储区域装置；磁盘，例如内部硬盘或可拆盘；磁光盘；以及cd-rom(只读光盘)和dvd-rom(数字多功能光盘只读存储器)。
[0053]
所述的不同实施方案的元件可以组合以形成此前未具体阐述的其它实施方案。可以从所述方法中省去元件而对其操作或整个系统的操作无不良影响。此外，各种单独元件可以组合成一个或多个个别元件以执行本说明书中所述的功能。鉴于所述结构，本文在一些实施方案中描述了系统和方法的功能和设备。