1.一种形貌参数测量方法，其特征在于，包括：
根据光栅模型的理论光谱建立理论光谱数据库，其中，所述光栅模型包括非重复结构层和连续重复结构层，所述理论光谱根据所述光栅模型上方的入射层的反射特性矩阵计算得到，且所述入射层的反射特性矩阵根据所述非重复结构层的反射特性矩阵和所述连续重复结构层的散射特性矩阵计算得到；
在所述理论光谱数据库中查找与待测量样品的测量光谱匹配的理论光谱；
根据所述理论光谱确定所述待测量样品的形貌参数。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：
基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算所述光栅模型中非重复结构层的反射特性矩阵；
基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算所述光栅模型中连续重复结构层的散射特性矩阵；
根据所述非重复结构层的反射特性矩阵和所述连续重复结构层的散射特性矩阵计算所述入射层的反射特性矩阵；
根据所述入射层的反射特性矩阵计算所述光栅模型的理论光谱。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，
所述基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算所述光栅模型中非重复结构层的反射特性矩阵，包括：
从所述非重复结构层的下层开始，基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法迭代计算相邻的上一层的反射特性矩阵，直至得到所述非重复结构层中最上层的反射特性矩阵，其中，所述非重复结构层的下层为透射层或者为所述连续重复结构层整体。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述连续重复结构层中包括多个连续的重复单元；
所述基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算所述光栅模型中连续重复结构层的散射特性矩阵，包括：
按照设定分解粒度对所述连续重复结构层进行分解，得到多个分组；
基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算所述连续重复结构层中的一个重复单元的散射特性矩阵；
根据所述一个重复单元的散射特性矩阵分别计算各个分组的散射特性矩阵；
根据散射特性矩阵合并公式将各个分组的散射特性矩阵合并，得到所述连续重复结构层的散射特性矩阵。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述设定分解粒度为{p|p＜n，n为正整数，p为正整数}∪{d|d＝n·2m，n为正整数，m＝0,1,2……，d为正整数}；
所述按照设定分解粒度对所述连续重复结构层进行分解，包括：
将所述连续重复结构层分解成多个分组，每个分组中包含的重复单元的个数均属于{p|p＜n，n为正整数，p为正整数}∪{d|d＝n·2m，n为正整数，m＝0,1,2……，d为正整数}。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述按照设定分解粒度对所述连续重复结构层进行分解，得到多个分组，包括：
1)获取所述连续重复结构层中包含的所述重复单元的个数x；
2)确定小于等于x的最大的所述设定分解粒度形成的集合中的元素值；
3)计算x与所述元素值的差值x’；
4)对x’重复利用步骤2)和3)的方法，直至差值为0；
5)根据所述元素值对所述连续重复结构层进行分解，得到多个分组，使得每个分组中所述重复单元的个数为所述元素值。
7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述根据所述一个重复单元的散射特性矩阵分别计算各个分组的散射特性矩阵，包括：
对于重复单元的个数属于{p|p＜n，n为正整数，p为正整数}的每个分组，如果重复单元的个数最大为q，且q<n，则将q个重复单元的散射特性矩阵合并，得到q个重复单元整体的散射特性矩阵；
对于重复单元的个数属于{d|d＝n·2m，n为正整数，m＝0,1,2……，d为正整数}的每个分组，如果重复单元的个数最大为n·2t，则将n个重复单元的散射特性矩阵合并得到n个重复单元整体的散射特性矩阵，并基于n个重复单元整体的散射特性矩阵，从y＝0开始，重复执行以下操作：将n·2y个重复单元整体的散射特性矩阵与n·2y个重复单元整体的散射特性矩阵合并得到n·2y+1个重复单元整体的散射特性矩阵，并将y加1，直至得到n·2t个重复单元整体的散射特性矩阵。
8.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述连续重复结构层中包括多个连续的重复单元；
所述方法还包括：
如果与连续重复结构层相邻的下层为透射层或者为非重复结构层，则在所述连续重复结构层与所述相邻的下层之间增加至少一层厚度为0的折射率已知的薄膜层，以使所述相邻的下层的反射特性和所述连续重复结构层的散射特性具有可组合性；
并在每个重复单元的上方和下方分别增加至少一层厚度为0的折射率已知的薄膜层，以使各所述重复单元的散射特性具有可组合性。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算所述光栅模型中连续重复结构层的散射特性矩阵，包括：
对于每个连续重复结构层，基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算该连续重复结构层的散射特性矩阵；
根据散射特性矩阵合并公式将该连续重复结构层的散射特性矩阵与该连续重复结构层的下层的反射特性矩阵合并，得到组合矩阵，将所述组合矩阵作为该连续重复结构层对应的反射特性矩阵，其中，所述连续重复结构层的散射特性矩阵根据所述连续重复结构中增加的各所述薄膜层的折射率基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算得到；
所述根据所述非重复结构层的反射特性矩阵和所述连续重复结构层的散射特性矩阵计算所述入射层的反射特性矩阵，包括：
从所述光栅模型中的最上层开始，根据所述光栅模型中最上层的反射特性矩阵，基于四分之一s矩阵算法或s矩阵算法计算所述入射层的反射特性矩阵。
10.一种形貌参数测量装置，其特征在于，包括：
数据库建立模块，用于根据光栅模型的理论光谱建立理论光谱数据库，其中，所述光栅模型包括非重复结构层和连续重复结构层，所述理论光谱根据所述光栅模型上方的入射层的反射特性矩阵计算得到，且所述入射层的反射特性矩阵根据所述非重复结构层的反射特性矩阵和所述连续重复结构层的散射特性矩阵计算得到；
匹配模块，用于在所述理论光谱数据库中查找与待测量样品的测量光谱匹配的理论光谱；
特征确定模块，用于根据所述理论光谱确定所述待测量样品的形貌参数。
11.一种测量设备，其特征在于，包括：
一个或多个处理器；
存储装置，用于存储一个或多个程序；
当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如权利要求1-9中任一所述的形貌参数测量方法。