一种用于纳米压印设备的UV灯监测装置及其监测方法与流程

本发明属于纳米压印设备领域，尤其涉及一种用于纳米压印设备的uv灯监测装置及其监测方法。

背景技术：

纳米压印技术主要包括微接触压印技术、纳米热压印技术和紫外固化压印技术。综合来说紫外固化压印是目前最好的压印技术，其不仅对准性能好、分辨率高，且不需要进行高温高压，避免了模具和衬底因内应力的产生而变形的问题，延长了模具的寿命，缩短了工艺周期。但是紫外固化压印设备中的uv灯在使用一段时间后，uv灯能量会产生衰减，对产品质量造成重大影响，因此需要对uv能量及均匀性进行实时检查，而现有的监测设备会造成紫外光泄露。

技术实现要素：

本发明针对上述的技术问题，提出一种用于纳米压印设备的uv灯监测装置及其监测方法，可对uv灯的能量及均匀性进行实时监测，无需人工干预，自动完成监测，确保了人身安全，且节约时间及人工成本。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为：一种用于纳米压印设备的uv灯监测装置，包括：具有容纳腔的壳体，纳米压印设备的uv灯位于所述壳体内，在壳体内位于uv灯左右两侧连接有导轨，在uv灯下方，与导轨滑动连接有滑杆，所述滑杆通过驱动装置驱动其沿导轨移动，在所述滑杆上连接有三个uv灯能量监测探头，还包括与uv灯能量监测探头以及驱动装置电性连接的控制系统，以使所述滑杆移动时，uv灯能量监测探头监测uv灯能量，并将能量信息反馈给控制系统，以得到uv灯的能量均匀度信息。

在本发明的一些实施例中，自所述uv灯前方向所述uv灯后方设置有三个位置监测点a、b、c，以当滑杆带动uv灯能量监测探头到达三个位置监测点时分别采集能量信息反馈至控制系统，计算能量的均匀度。

在本发明的一些实施例中，所述驱动装置为伸缩杆或驱动电机。

在本发明的一些实施例中，所述壳体不透光的黑色亚克力材质。

在本发明的一些实施例中，所述控制系统为plc控制系统。

一种uv灯监测方法，包括以下步骤：

s1、根据uv灯的尺寸在控制系统中设置滑杆移动的行程；

s2、控制系统控制驱动装置驱动滑杆移动，以使与滑杆连接的三个uv灯能量监测探头分别在三个位置监测点a、b、c监测，并将三个位置监测点a、b、c的能量数据反馈至控制系统；

s3、控制系统计算并输出9点能量数据的各点偏差。

在本发明的一些实施例中，在步骤s2中，三个uv灯能量监测探头到达位置监测点a，位置监测点a处的uv灯亮起，三个uv灯能量监测探头采集位置监测点a处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录，记录完成后，位置监测点a处的uv灯关闭。

在本发明的一些实施例中，在步骤s2中，三个uv灯能量监测探头到达位置监测点b，位置监测点b处的uv灯亮起，三个uv灯能量监测探头采集位置监测点b处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录，记录完成后，位置监测点b处的uv灯关闭。

在本发明的一些实施例中，在步骤s2中，三个uv灯能量监测探头到达位置监测点c，位置监测点c处的uv灯亮起，三个uv灯能量监测探头采集位置监测点c处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录，记录完成后，位置监测点c处的uv灯关闭。

在本发明的一些实施例中，位置监测点c处的uv灯关，驱动装置驱动滑杆回到原点。

与现有技术相比，本发明的优点和积极效果在于：

通过滑杆在导轨内移动，带动三个uv灯能量监测探头，到达三个位置监测点时分别采集能量信息反馈至控制系统，计算能量的均匀度，对uv灯的能量及均匀性进行实时监测，监测过程通过控制系统控制，无需人工干预，自动完成监测，不仅确保了人身安全，且节约时间及人工成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明内部结构示意图；

图2为本发明中uv灯上三个位置监测点的示意图。

以上各图中：1、壳体；11、容纳腔；12、导轨；13、滑杆；14、驱动装置；2、uv灯；31、uv灯能量监测探头；32、uv灯能量监测探头；33、uv灯能量监测探头。

具体实施方式

下面，通过示例性的实施方式对本发明进行具体描述。然而应当理解，在没有进一步叙述的情况下，一个实施方式中的元件、结构和特征也可以有益地结合到其他实施方式中。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

一种用于纳米压印设备的uv灯监测装置，参见图1至图2，包括：具有容纳腔11的壳体1，壳体1不透光的黑色亚克力材质，纳米压印设备的uv灯2位于壳体1内，在壳体1内位于uv灯2左右两侧连接有导轨12，在uv灯2下方，与导轨12滑动连接有滑杆13，滑杆13通过驱动装置14驱动其沿导轨12移动，驱动装置14为伸缩杆或驱动电机，在滑杆13上连接有三个uv灯能量监测探头31、32、33，还包括与uv灯能量监测探头31、32、33以及驱动装置14电性连接的控制系统，控制系统在图中未给出，控制系统为plc控制系统，以使滑杆13移动时，uv灯能量监测探头31、32、33监测uv灯2能量，并将能量信息反馈给控制系统，以得到uv灯2的能量均匀度信息。

在本实施例中，自uv灯2前方向uv灯2后方设置有三个位置监测点a、b、c，以当滑杆13带动uv灯能量监测探头31、32、33到达三个位置监测点a、b、c时分别采集能量信息反馈至控制系统，计算能量的均匀度，通过滑杆13在导轨12内移动，带动三个uv灯能量监测探头31、32、33，到达三个位置监测点a、b、c时分别采集能量信息反馈至控制系统，计算能量的均匀度，对uv灯2的能量及均匀性进行实时监测，监测过程通过控制系统控制，无需人工干预，自动完成监测，不仅确保了人身安全，且节约时间及人工成本。

一种uv灯监测方法，包括以下步骤：

s1、根据uv灯2的尺寸在控制系统中设置滑杆13移动的行程；

s2、控制系统控制驱动装置14驱动滑杆13移动，以使与滑杆13连接的三个uv灯能量监测探头a、b、c分别在三个位置监测点a、b、c监测，并将三个位置监测点a、b、c的能量数据反馈至控制系统；

在步骤s2中，三个uv灯能量监测探头31、32、33到达位置监测点a，位置监测点a处的uv灯2亮起，三个uv灯能量监测探头31、32、33采集位置监测点a处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录，记录完成后，位置监测点a处的uv灯2关闭；

在步骤s2中，三个uv灯能量监测探头31、32、33到达位置监测点b，位置监测点b处的uv灯2亮起，三个uv灯能量监测探头31、32、33采集位置监测点b处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录，记录完成后，位置监测点b处的uv灯2关闭；

在步骤s2中，三个uv灯能量监测探头31、32、33到达位置监测点c，位置监测点c处的uv灯2亮起，三个uv灯能量监测探头31、32、33采集位置监测点c处的能量数据并将能量数据反馈至控制系统记录，记录完成后，位置监测点c处的uv灯2关闭；

s3、控制系统计算并输出9点能量数据的各点偏差。

在本实施例中，位置监测点c处的uv灯关，驱动装置驱动滑杆回到原点。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。