检查装置的制作方法

1.本发明涉及检查方法、检查装置和包括该检查方法的显示装置的制造方法。更详细地，本发明涉及检查显示装置的制造品质的检查方法、执行所述检查方法的检查装置以及包括所述检查方法的显示装置的制造方法。


背景技术：

2.平板显示装置因重量轻和薄等特性而被用作替代阴极射线管显示装置的显示装置。作为所述平板显示装置的代表性的例，具有液晶显示装置和有机发光显示装置。
3.所述显示装置可包括显示区域和非显示区域。在所述显示区域可配置生成光的发光元件。所述显示装置可包括封装所述显示区域来保护所述发光元件的封装层。所述封装层可包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。
4.所述有机封装层可使用如单体这样的有机物来形成。在形成所述有机封装层时，当大量的所述有机物流到所述显示区域的边缘位置而溢出的情况下，可能会产生所述显示装置的不良。


技术实现要素：

5.本发明的一目的在于，提供一种提高了可靠性的检查方法。
6.本发明的其他目的在于，提供一种适合于执行所述检查方法的检查装置。
7.本发明的又一目的在于，提供一种包括所述检查方法的显示装置的制造方法。
8.然而，本发明的目的并不受上述的目的限制，在不脱离本发明的思想和领域的范围内可进行各种扩展。
9.为了实现前述的本发明的其他目的，本发明的一实施例涉及的检查装置可包括：第一发光部，包括射出具有第一波段的第一光的第一光源以及使所述第一光之中具有带宽在120nm以下的第二波段的第二光选择性地透过的带通滤波器(band pass filter)；半镜部，使所述第二光入射到检查对象物；以及拍摄部，获得拍摄了所述第二光被入射的所述检查对象物的第一图像。
10.根据一实施例，所述第二波段的所述带宽可在10nm以下。
11.根据一实施例，所述第一光可为白色光，并且所述第二光可为黄色光。
12.根据一实施例，所述第二波段可为570nm至580nm。
13.根据一实施例，所述第一图像可包括形成在所述检查对象物上的干涉条纹。
14.根据一实施例，所述检查装置还可包括：第二发光部，包括射出具有所述第一波段的第三光的第二光源，所述半镜部使所述第三光入射到所述检查对象物。
15.根据一实施例，所述检查装置还可包括：控制部，控制所述第一光源和所述第二光源，以便择一地射出所述第一光和所述第三光。
16.根据一实施例，所述拍摄部可包括：相机镜筒，具有在第一方向上延伸的形状；相机，配置在所述相机镜筒的第一端部，并且拍摄所述检查对象物；以及镜头，配置在所述相
机镜筒的与所述第一端部相反的第二端部，所述第一发光部还可包括：第一光源镜筒，在与所述第一方向交叉的第二方向上与所述相机镜筒相邻，提供射出所述第一光的空间，并且容纳所述带通滤波器，并且所述第二发光部还可包括：第二光源镜筒，在所述第二方向上与所述相机镜筒相邻，并且提供射出所述第二光的空间。
17.根据一实施例，所述半镜部可包括：第一半镜，配置在所述相机镜筒内，并且具有配置在所述镜头上而将入射的光朝向所述镜头反射的反射面。
18.根据一实施例，所述半镜部还可包括：第二半镜，配置在所述第一光源镜筒内；第三半镜，配置在所述第二光源镜筒内；以及第四半镜，配置在所述第二光源与所述第三半镜之间，并且将被所述第二半镜反射的光入射到所述第三半镜。
19.(发明效果)
20.检查装置通过使具有带宽相对窄的波段的光选择性地透过来照射检查对象物，从而拍摄了照射所述光的所述检查对象物的图像可包括形成在所述检查对象物上的干涉条纹。基于此，可判断包括透明的物质的所述检查对象物的位置。由此，可减小根据个人的熟练度而将所述检查对象物的位置判断为不同的偏差。即，可提高检查装置的可靠性。
21.此外，通过判断包括所述透明的物质的所述检查对象物的位置，可省略包括于显示装置的坝。因此，可减小所述显示装置的死区。
22.然而，本发明的效果并不限于前述的效果，在不脱离本发明的思想和领域的范围内可进行各种扩展。
附图说明
23.图1和图2是示出本发明的一实施例涉及的检查装置的图。
24.图3是示出图1的检查装置所检查的检查对象物的一例的平面图。
25.图4是沿着i-i
′
线截取了图3的剖视图。
26.图5至图9是示出利用图1的检查装置检查图4的检查对象物的一部分的结果的图。
27.图10是比较并示出对图1的检查装置所检查的检查对象物的其他例进行检查的结果的图。
28.图11是示出本发明的其他实施例涉及的检查装置的图。
29.图12a至图12d示出本发明的一实施例涉及的显示装置的制造方法的剖视图。
30.符号说明：
31.l1：第一光；l2：第二光；l3：第三光；1000：检查装置；2000：检查对象物；im1：第一图像；im2：第二图像；if：干涉条纹；ls1：第一光源；ls2：第二光源；bpf：带通滤波器；emp1：第一发光部；emp2：第二发光部；hmp：半镜部；ctp：控制部；hm1：第一半镜；hm2：第二半镜；hm3：第三半镜；hm4：第四半镜；ptp：拍摄部；cbt：相机镜筒；cm：相机；ln：镜头；bt1：第一光源镜筒：bt2：第二光源镜筒；rs：反射面；rm：旋转部件；100：基板；300：发光元件；420：有机封装层；410：第一无机封装层；430：第二无机封装层。
具体实施方式
32.以下，参照附图，更加详细地说明本发明的各实施例。对于附图上的相同的构成要素，使用相同的符号，并且省略对于相同的构成要素的重复说明。
33.图1和图2是示出本发明的一实施例涉及的检查装置1000的图。
34.参照图1和图2，检查装置1000可包括第一发光部emp1、第二发光部emp2、半镜部hmp、拍摄部ptp和控制部ctp。
35.第一发光部emp1可包括第一光源ls1、带通滤波器(band pass filter)bpf和第一光源镜筒bt1。第二发光部emp2可包括第二光源ls2和第二光源镜筒bt2。
36.第一光源ls1可射出具有第一波段的第一光l1。第一光源ls1可在第一方向dr1上射出第一光l1。第二光源ls2可射出具有所述第一波段的第三光l3。第三光l3可与第一光l1实质上相同。第二光源ls2可在第一方向dr1上射出第三光l3。图1是示出第一光源ls1射出第一光l1的情况的图，并且图2是示出第二光源ls2射出第三光l3的情况的图。在一实施例中，可择一地射出第一光l1和第三光l3。将在后面对此进行详细描述。
37.在一实施例中，所述第一波段可约为380nm至约750nm。即，第一光l1和第三光l3可为可见光。具体地，第一光l1和第三光l3可为白色光。换言之，第一光l1和第三光l3的带宽可约为370nm。检查装置1000可利用作为可见光的第一光l1和/或第三光l3使得检查对象物被人眼观察到。
38.在一实施例中，所述检查对象物可为显示装置的半成品或成品。换言之，检查装置1000可为检查所述显示装置的半成品或成品的制造品质的装置。例如，检查装置1000可检查制造出的所述显示装置的半成品或成品是合格品还是不良品。所述检查对象物可被配置在由与第一方向dr1交叉的第二方向dr2以及与第二方向dr2交叉的第三方向dr3定义的平面上。即，所述检查对象物可被配置在由第二方向dr2和第三方向dr3定义的所述平面上，并且检查装置1000可与所述平面间隔开而在第一方向dr1上检查所述检查对象物。
39.带通滤波器bpf可被配置在第一光源镜筒bt1内。即，带通滤波器bpf可被配置在第一光源镜筒bt1内，并且可不被配置在第二光源镜筒bt2内。具体地，第一光l1可入射到带通滤波器bpf，并且第三光l3可不入射到带通滤波器bpf。
40.带通滤波器bpf可被配置在第一光源ls1的下方。带通滤波器bpf可被配置成使第一光源ls1射出的第一光l1入射。带通滤波器bpf可使第一光l1之中具有第二波段的第二光l2透过。换言之，带通滤波器bpf可阻断除第二光l2以外的第一光l1。例如，带通滤波器bpf可吸收或者反射除第二光l2以外的第一光l1。即，带通滤波器bpf可阻断第一光l1的一部分，并且可使第一光l1的其他部分透过。因此，带通滤波器bpf可使入射的光选择性地透过。
41.在一实施例中，第二光l2的带宽可约在120nm以下。即，带通滤波器bpf可使具有约370nm的带宽的第一光l1之中具有约120nm的带宽的第二光l2选择性地透过。例如，带通滤波器bpf可使具有约630nm至约750nm的波段的第二光l2透过。在该情况下，第二光l2可为红色光。第二光l2的带宽可为作为最大波长(例如，约750nm)与最小波长(例如，约630nm)的差异的约120nm。即，带通滤波器bpf可阻断具有约小于630nm的波长的光。然而，具有约120nm的带宽的第二光l2的波段不限于约630nm至约750nm。例如，具有约120nm的带宽的第二光l2的波段可在作为可见光的波段的约380nm至约750nm内任意地选择。
42.在一实施例中，第二光l2的带宽可约在100nm以下。即，带通滤波器bpf可使具有约370nm的带宽的第一光l1之中具有约100nm的带宽的第二光l2选择性地透过。例如，带通滤波器bpf可使具有约640nm至约740nm的波段的第二光l2透过。在该情况下，第二光l2也可为红色光。第二光l2的带宽可为作为最大波长(例如，约740nm)与最小波长(例如，约640nm)的
差异的约100nm。即，带通滤波器bpf可阻断具有约小于630nm的波长的光和具有约大于740nm的波长的光。然而，具有约100nm的带宽的第二光l2的波段不限于约640nm至约740nm。例如，具有约100nm的带宽的第二光l2的波段可在作为可见光的波段的约380nm至约750nm内任意地选择。
43.在一实施例中，第二光l2的带宽可约在80nm以下。即，带通滤波器bpf可使具有约370nm的带宽的第一光l1之中具有约80nm的带宽的第二光l2选择性地透过。例如，带通滤波器bpf可使具有约490nm至约570nm的波段的第二光l2透过。在该情况下，第二光l2可为绿色光。第二光l2的带宽可为作为最大波长(例如，约570nm)与最小波长(例如，约490nm)的差异的约80nm。即，带通滤波器bpf可阻断具有约小于490nm的波长的光和具有约大于570nm的波长的光。然而，具有约80nm的带宽的第二光l2的波段不限于约490nm至约570nm。例如，具有约80nm的带宽的第二光l2的波段可在作为可见光的波段的约380nm至约750nm内任意地选择。
44.在一实施例中，第二光l2的带宽可约在40nm以下。即，带通滤波器bpf可使具有约370nm的带宽的第一光l1之中具有约40nm的带宽的第二光l2选择性地透过。例如，带通滤波器bpf可使具有约450nm至约490nm的波段的第二光l2透过。在该情况下，第二光l2可为蓝色光。第二光l2的带宽可为作为最大波长(例如，约490nm)与最小波长(例如，约450nm)的差异的约40nm。即，带通滤波器bpf可阻断具有约小于450nm的波长的光和具有约大于490nm的波长的光。然而，具有约40nm的带宽的第二光l2的波段不限于约450nm至约490nm。例如，具有约40nm的带宽的第二光l2的波段可在作为可见光的波段的约380nm至约750nm内任意地选择。
45.在一实施例中，第二光l2的带宽可约在10nm以下。即，带通滤波器bpf可使具有约370nm的带宽的第一光l1之中具有约10nm的带宽的第二光l2选择性地透过。例如，带通滤波器bpf可使具有约570nm至约580nm的波段的第二光l2透过。在该情况下，第二光l2可为黄色光。第二光l2的带宽可为作为最大波长(例如，约580nm)与最小波长(例如，约570nm)的差异的约10nm。即，带通滤波器bpf可阻断具有约小于570nm的波长的光和具有约大于580nm的波长的光。然而，具有约10nm的带宽的第二光l2的波段不限于约570nm至约580nm。例如，具有约10nm的带宽的第二光l2的波段可在作为可见光的波段的约380nm至约750nm内任意地选择。
46.另一方面，在所述检查对象物包括透明的物质的情况下，检查装置1000需要使所述检查对象物可视化来进行检查。
47.具有比第一光l1的带宽相对窄的带宽的第二光l2可照射所述检查对象物。通过向所述检查对象物照射具有相对窄的带宽的第二光l2，在所述检查对象物上可形成干涉条纹(interference fringe)。所述干涉条纹也可被称为莫尔条纹(moire fringe)。基于所述干涉条纹，包括所述透明的物质的所述检查对象物可被可视化。即，检查装置1000可检查包括所述透明的物质的所述检查对象物的位置。
48.照射到所述检查对象物的第二光l2的带宽越窄，所述干涉条纹的可视性可越增加。即，越是照射具有更窄的带宽的第二光l2，所述干涉条纹可变得越明显。由此，可更容易判断包括所述透明的物质的所述检查对象物的位置。例如，在照射具有约10nm的带宽的第二光l2的情况下形成于所述检查对象物的所述干涉条纹的可视性可高于在照射具有约
120nm的带宽的第二光l2的情况下形成于所述检查对象物的所述干涉条纹的可视性。这可表示向所述检查对象物越是照射具有窄带宽的第二光l2，所述干涉条纹的可视性越是变高。
49.换言之，可表示第二光l2的带宽可增加所述干涉条纹的可视性，并且可不表示第二光l2的所述第二波段可增加所述干涉条纹的可视性。例如，在照射作为具有约630nm至约750nm的波段的红色光的第二光l2的情况下的所述干涉条纹的可视性可低于在照射作为具有约640nm至约740nm的波段的红色光的第二光l2的情况下的所述干涉条纹的可视性。此外，在照射作为具有约450nm至约490nm的波段的蓝色光的第二光l2的情况下的所述干涉条纹的可视性可与在照射作为具有约500nm至约540nm的波段的绿色光的第二光l2的情况下的所述干涉条纹的可视性实质上相同。即，即使是相同颜色的光，在照射具有不同带宽的第二光l2的情况下，所述干涉条纹的可视性也可变得不同，并且即使具有不同颜色和不同波段，在照射具有相同带宽的第二光l2的情况下，所述干涉条纹的可视性也可实质上相同。
50.检查装置1000可在检查所述检查对象物的可视性的构成时向所述检查对象物照射具有相对宽的带宽的第三光l3，并且可在检查所述检查对象物的非可视性(即，透明)的构成时向所述检查对象物照射具有相对窄的带宽的第二光l2。因此，可提高检查装置1000的可靠性。
51.第一光源镜筒bt1可具有在第一方向dr1上延伸的形状。例如，第一光源镜筒bt1可具有圆筒形状。然而，第一光源镜筒bt1的形状不受限制，可具有各种形状。第一光源镜筒bt1可提供第一光源ls1射出第一光l1的空间。即，第一光源镜筒bt1可提供所述空间使得第一光l1不会与外光干涉。第一光源镜筒bt1可容纳带通滤波器bpf。即，带通滤波器bpf可被配置在第一光源镜筒bt1内。因此，透过了带通滤波器bpf的第二光l2不会与外光干涉，从而可维持第二光l2的带宽。
52.虽未示出，但是第一光源镜筒bt1也可具有滤波器替换部。通过所述滤波器替换部，可替换带通滤波器bpf。例如，具有约120nm的带宽的带通滤波器可通过所述滤波器替换部被替换为具有约10nm的带宽的带通滤波器。即，包括于检查装置1000的具有第一带宽的第一带通滤波器可根据需要而被替换为具有第二带宽的第二带通滤波器。
53.第二光源镜筒bt2可具有在第一方向dr1上延伸的形状。例如，第二光源镜筒bt2可具有与第一光源镜筒bt1相似的形状。第二光源镜筒bt2可与第一光源镜筒bt1相邻。第二光源镜筒bt2可提供第二光源ls2射出第三光l3的空间。即，第二光源镜筒bt2可提供所述空间使得第三光l3不会与外光干涉。
54.半镜部hmp可包括多个半镜。在一实施例中，半镜部hmp可包括第一半镜hm1、第二半镜hm2、第三半镜hm3和第四半镜hm4。半镜部hmp可使第二光l2入射到所述检查对象物，并且可使第三光l3入射到所述检查对象物。即，包括于半镜部hmp的所述多个半镜可被配置在各种位置处使得第二光l2和第三光l3入射到所述检查对象物，并且可具备各种数量的所述多个半镜。
55.拍摄部ptp可包括相机镜筒cbt、相机cm和镜头ln。拍摄部ptp可获得拍摄了第二光l2被入射的所述检查对象物的第一图像。拍摄部ptp可获得拍摄了第三光l3被入射的所述检查对象物的第二图像。
56.相机镜筒cbt可具有在第一方向dr1上延伸的形状。例如，相机镜筒cbt可具有与第
一光源镜筒bt1和第二光源镜筒bt2相似的形状。相机镜筒cbt、第一光源镜筒bt1和第二光源镜筒bt2可彼此相邻。例如，可在第二方向dr2上排列相机镜筒cbt、第一光源镜筒bt1和第二光源镜筒bt2。在图1和图2的例中，第二光源镜筒bt2被配置在相机镜筒cbt与第一光源镜筒bt1之间，但并不限于此。
57.相机镜筒cbt可具有第一端部e1以及与第一端部e1相反的第二端部e2。第一端部e1和第二端部e2可在第一方向dr1上被间隔开。相机镜筒cbt可提供相机cm进行拍摄的空间和镜头ln的焦距。相机镜筒cbt可阻断外光的干涉。
58.相机cm可被配置在相机镜筒cbt的第一端部e1。相机cm可拍摄所述检查对象物。例如，相机cm可为线扫描相机。
59.镜头ln可被配置在相机镜筒cbt的第二端部e2。即，相机cm和镜头ln可彼此被间隔开。镜头ln可使从所述检查对象物反射的光收敛。镜头ln可为调节通过的光的路径的各种镜头。例如，镜头ln可为对物镜头、倍率镜头、聚光镜头等。所述检查对象物可被配置在镜头ln的下部。
60.在一实施例中，第一半镜hm1可被配置在相机镜筒cbt内。第一半镜hm1可被配置在镜头ln上。第一半镜hm1可具有将入射的光朝向镜头ln反射的反射面rs。
61.在一实施例中，第二半镜hm2可被配置在第一光源镜筒bt1内。第二半镜hm2可反射第二光l2。例如，在第一方向dr1上入射到第二半镜hm2的第二光l2可在与第一方向dr1不同的方向上被反射。
62.在一实施例中，第三半镜hm3可被配置在第二光源镜筒bt2内。第三半镜hm3可将入射的光朝向第一半镜hm1反射。
63.在一实施例中，第四半镜hm4可被配置在第二光源镜筒bt2内。第四半镜hm4可被配置在第二光源ls2与第三半镜hm3之间。第四半镜hm4可使入射的光的一部分透过，并且可反射所述入射的光的另一部分。
64.参照图1，第四半镜hm4可反射第二光l2。即，第二光l2可被第二半镜hm2、第四半镜hm4、第三半镜hm3和第一半镜hm1依次反射而入射到所述检查对象物。即，第四半镜hm4可将被第二半镜hm2反射的第二光l2入射到第三半镜hm3。
65.参照图2，第四半镜hm4可使第三光l3透过。即，第三光l3可透过第四半镜hm4，并且可被第三半镜hm3和第一半镜hm1依次反射而入射到所述检查对象物。
66.控制部ctp可控制第一光源ls1和第二光源ls2使得择一地射出第一光l1和第三光l3。在一实施例中，控制部ctp可控制第一光源ls1和第二光源ls2使得它们不会同时射出光。具体地，控制部ctp可控制成只有第一光源ls1和第二光源ls2中的任一个射出光，或者可控制成第一光源ls1和第二光源ls2都不射出光。在一实施例中，检查装置1000包括控制部ctp，由此在检查所述检查对象物的可视性的构成时可使用第二光源ls2，并且在检查所述检查对象物的非可视性(即，透明)的构成时可择一地使用第一光源ls1。
67.图3是示出图1的检查装置1000所检查的检查对象物2000的一例的平面图。例如，检查对象物2000可为显示装置的半成品或成品。作为所述显示装置的例，可列举有机发光显示装置、液晶显示装置、等离子体显示装置、量子点显示装置等。以下，举例详细说明检查对象物2000为有机发光显示装置的半成品或成品的情况，并且显示装置可表示半成品或成品。
68.参照图3，检查对象物2000可被配置在由第二方向dr2和第三方向dr3定义的所述平面上。
69.作为检查对象物2000的所述显示装置可包括显示区域da和非显示区域nda。可在显示区域da显示图像。非显示区域nda可位于显示区域da的外侧。例如，非显示区域nda可在平面图上具有包围显示区域da的形状。
70.在显示区域da可配置多个像素。例如，可沿着第二方向dr2和第三方向dr3将所述多个像素配置成矩阵形态。例如，第二方向dr2可与第一方向dr1垂直，并且第三方向dr3可与第二方向dr2垂直。所述多个像素中的每个像素可包括晶体管和发光元件。所述发光元件可生成光。
71.图4是沿着i-i
′
线截取了图3的剖视图。
72.参照图3和图4，作为检查对象物2000的所述显示装置可包括基板100、晶体管200、栅极绝缘层111、层间绝缘层113、第一有机绝缘层122、第二有机绝缘层124、发光元件300、封装层400、第一坝510和第二坝520。例如，晶体管200可包括有源层210、栅电极220、源电极232和漏电极234。例如，发光元件300可包括像素电极310、发光层320和公共电极330。例如，封装层400可包括第一无机封装层410、有机封装层420和第二无机封装层430。
73.基板100可为透明的绝缘性基板。基板100可为由塑料等形成的柔性基板。例如，基板100可包括聚酰亚胺(polyimide，pi)。基板100也可为由石英(quartz)、合成石英(synthetic quartz)、氟化钙(calcium fluoride)、掺氟石英(f-doped quartz)、钠钙(sodalime)玻璃、无碱(non-alkali)玻璃等形成的刚性基板。
74.基板100可具有显示区域da和非显示区域nda。非显示区域nda可包括第一区域1a、第一坝区域dma1、第二区域2a、第二坝区域dma2和第三区域3a。第一坝区域dma1可位于显示区域da的外侧并且与显示区域da间隔开。第二坝区域dma2可位于第一坝区域dma1的外侧并且与第一坝区域dma1间隔开。第一区域1a可位于显示区域da与第一坝区域dma1之间。第二区域2a可位于第一坝区域dma1与第二坝区域dma2之间。第三区域3a可位于第二坝区域dma2的外侧。
75.在图4的例中，显示区域da的外侧可表示第三方向dr3。即，第一坝区域dma1可在第三方向dr3上与显示区域da间隔开，并且第二坝区域dma2可在第三方向dr3上与第一坝区域dma1间隔开。
76.有源层210可被配置于基板100上的显示区域da。例如，有源层210可包括硅半导体、氧化物半导体等。作为所述硅半导体的例，可列举非晶硅、多晶硅等。
77.虽未在图中示出，但是在基板100与有源层210之间可配置缓冲层。即，有源层210可被配置于所述缓冲层上的所述显示区域da。所述缓冲层可防止杂质从基板100扩散到有源层210。所述缓冲层可包括无机绝缘物质。作为所述无机绝缘物质的例，可列举硅氧化物(sio
x
)、硅氮化物(sin
x
)、钛氧化物(tio
x
)、钽氧化物(tao
x
)等。
78.栅极绝缘层111可被配置在基板100上。例如，栅极绝缘层111可整体被配置于基板100上的显示区域da和非显示区域nda。配置于显示区域da的栅极绝缘层111可在基板100上覆盖有源层210。例如，栅极绝缘层111可包括无机绝缘物质。
79.栅电极220可被配置于栅极绝缘层111上的显示区域da。栅电极220可与有源层210重叠。栅电极220可包括金属、金属氧化物等。作为所述金属的例，可列举银(ag)、钼(mo)、铝
(al)、钨(w)、铜(cu)、镍(ni)、铬(cr)、钛(ti)、钽(ta)、铂(pt)、钪(sc)等。可单独或彼此组合来使用这些金属。然而，所述金属并不限于此。作为所述金属氧化物的例，可列举铟锡氧化物(ito)、铟锌氧化物(izo)等。可单独或彼此组合来使用这些金属氧化物。然而，所述金属氧化物并不限于此。
80.层间绝缘层113可被配置在栅极绝缘层111上。例如，层间绝缘层113可整体被配置于栅极绝缘层111上的显示区域da和非显示区域nda。配置于显示区域da的层间绝缘层113可在栅极绝缘层111上覆盖栅电极220。例如，层间绝缘层113可包括无机绝缘物质。
81.所述缓冲层、栅极绝缘层111和层间绝缘层113可被称为无机绝缘层110。无机绝缘层110可整体被配置于基板100与第一有机绝缘层122之间的显示区域da和非显示区域nda。
82.源电极232和漏电极234可被配置于层间绝缘层113上的显示区域da。源电极232和漏电极234可分别与有源层210连接。源电极232和漏电极234可包括金属、金属氧化物、金属氮化物、透明导电性物质等。有源层210、栅电极220、源电极232和漏电极234可形成晶体管200。即，晶体管200可被配置于基板100上的显示区域da。
83.第一有机绝缘层122可被配置于层间绝缘层113上的显示区域da，并且覆盖晶体管200。例如，第一有机绝缘层122可为平坦化层。第一有机绝缘层122可在层间绝缘层113上覆盖源电极232和漏电极234。第一有机绝缘层122不会在源电极232和漏电极234的周边生成高低差，并且可具有实质上平坦的上表面。第一有机绝缘层122可包括有机绝缘物质。作为所述有机绝缘物质的例，可列举光致抗蚀剂、聚丙烯酸系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚酰胺系树脂、硅氧烷系树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂等。可单独或彼此组合来使用这些物质。然而，所述有机绝缘物质并不限于此。
84.像素电极310可被配置于第一有机绝缘层122上的显示区域da。像素电极310可与源电极232或漏电极234连接。即，像素电极310可被配置在晶体管200上并且与晶体管200电连接。像素电极310可包括金属、导电性金属氮化物、透明导电性物质等。
85.第二有机绝缘层124可被配置于第一有机绝缘层122上的显示区域da。例如，第二有机绝缘层124可为像素定义膜。第二有机绝缘层124可在第一有机绝缘层122上部分地覆盖像素电极310。第二有机绝缘层124可具有使像素电极310的至少一部分露出的像素开口。第二有机绝缘层124可包括有机绝缘物质。
86.第一有机绝缘层122和第二有机绝缘层124可被称为有机绝缘层120。
87.发光层320可被配置在由所述像素开口露出的像素电极310上。即，发光层320可被配置在所述像素开口内。发光层320可被配置在像素电极310与公共电极330之间。发光层320可包括有机发光物质和量子点中的至少一种。
88.在一实施例中，所述有机发光物质可包括低分子有机化合物或高分子有机化合物。作为所述低分子有机化合物的例，可列举铜酞菁(copper phthalocyanine)、n,n
′‑
二苯联苯胺(n,n
′‑
diphenylbenzidine)、三(8-羟基喹啉)铝(tris-(8-hydroxyquinoline)aluminum)等。作为所述高分子有机化合物的例，可列举聚3,4-乙撑二氧噻吩(poly(3,4-ethylenedioxythiophene))、聚苯胺(polyaniline)、聚苯撑乙烯(poly-phenylenevinylene)、聚芴(polyfluorene)等。
89.公共电极330可被配置在发光层320上并且与像素电极310重叠。作为一例，公共电极330可整体被配置在第二有机绝缘层124上。作为其他例，公共电极330也可整体被配置于
显示区域da和非显示区域nda。不同于此，公共电极330也可仅被配置于显示区域da。公共电极330可包括金属、合金、导电性金属氧化物、导电性金属氮化物、透明导电性物质等。
90.像素电极310、发光层320和公共电极330可形成发光元件300。发光元件300可被配置在第一有机绝缘层122上。
91.在第二有机绝缘层124上的显示区域da可配置间隔物130。间隔物130可在形成发光层320时维持掩模(未示出)与基板100之间的隔开距离。因此，间隔物130可防止发光层320因所述掩模而被划伤或撕裂的不良。
92.间隔物130可由与第二有机绝缘层124相同的材料形成。第二有机绝缘层124和间隔物130可实质上同时形成为具有彼此不同的高度。
93.第一坝510和第二坝520可被配置于基板100上的非显示区域nda。第一坝510和第二坝520可在使用如单体(monomer)这样的有机物形成有机封装层420时防止所述有机物朝向基板100的边缘位置方向(例如，图4的第三方向dr3)溢出(overflow，以下称为溢流)的情况。
94.例如，第一坝510可被配置于层间绝缘层113上的第一坝区域dma1。即，第一坝510可在第三方向dr3上与有机绝缘层120间隔开。
95.例如，第二坝520可被配置于层间绝缘层113上的第二坝区域dma2。即，第二坝520可位于第一坝510的外侧，并且在第三方向dr3上与第一坝510间隔开。
96.第一坝510和第二坝52分别可具有多个层被叠层的多层结构。例如，第一坝510可包括第一层511、第二层512和第三层513，并且第二坝520可包括第一层521、第二层522和第三层523。例如，第一层511、521可与第一有机绝缘层122实质上同时形成。第二层512、522可与第二有机绝缘层124实质上同时形成。第三层513、523可与间隔物130实质上同时形成。然而，这是例示，本发明并不限于此。
97.在有机绝缘层120与第一坝510之间可形成第一开口部op1。即，第一开口部op1可被定义为第一坝510与有机绝缘层120间隔开的空间。第一开口部op1可与第一区域1a重叠。
98.在第一坝510与第二坝520之间可形成第二开口部op2。即，第二开口部op2可被定义为第二坝520与第一坝510间隔开的空间。第二开口部op2可与第二区域2a重叠。
99.封装层400可被配置在公共电极330上。封装层400可覆盖发光元件300。封装层400可封装显示区域da来保护发光元件300免受外部的杂质的影响。
100.封装层400可包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层。例如，封装层400可包括第一无机封装层410、有机封装层420和第二无机封装层430。
101.第一无机封装层410可被配置在公共电极330上。例如，第一无机封装层410可沿着公共电极330的轮廓而具有实质上均匀的厚度。
102.第一无机封装层410和第二无机封装层430可整体被配置于基板100上的显示区域da和非显示区域nda。即，第一无机封装层410和第二无机封装层430可覆盖显示区域da并且朝向第一坝510的外侧延伸。
103.有机封装层420可被配置在第一无机封装层410上并且覆盖显示区域da。有机封装层420不会在第一无机封装层410的周边生成高低差，并且可具有实质上平坦的上表面。
104.在例示性的实施例中，有机封装层420可通过利用如透明的单体这样的有机物的喷墨工序形成。在该情况下，在所述有机物的量多或者所述有机物的喷出位置偏向基板100
的外侧方向(例如，第三方向dr3)的情况下，可能会产生所述有机物朝向第一坝510的外侧溢出的溢流现象。因此，需要检查是否产生了所述溢流现象。在未产生所述溢流现象的情况下，有机封装层420可位于第一坝510的内侧。例如，有机封装层420的边缘位置421a可位于第一坝510上。或者，有机封装层420的边缘位置421b可位于第一区域1a。
105.在产生所述溢流现象的情况下，有机封装层420可位于第一坝510的外侧和第二坝520的内侧。即，虽未在图中示出，但是有机封装层420的边缘位置可位于第二区域2a。或者，有机封装层420的边缘位置也可位于第二坝520的外侧。即，虽未在图中示出，但是有机封装层420的边缘位置也可位于第三区域3a。
106.是否产生了所述溢流现象可基于第一坝510的边缘位置的鲜明度来检查。例如，在有机封装层420的所述边缘位置位于第一坝510的内侧的情况下，第一坝510的所述边缘位置可具有相对高的鲜明度。即，在未产生所述溢流现象的情况下，第一坝510的所述边缘位置可具有相对高的鲜明度。不同于此，在有机封装层420的所述边缘位置位于第一坝510的外侧的情况下(即，在有机封装层420覆盖第一坝510的情况下)，第一坝510的所述边缘位置可具有相对低的鲜明度。即，在产生所述溢流现象的情况下，第一坝510的所述边缘位置可具有相对低的鲜明度。
107.由此，可基于第一坝510的所述边缘位置的鲜明度来检查是否产生了所述溢流现象。即，在形成包括如透明的单体这样的有机物的有机封装层420的喷墨工序中，第一坝510的所述边缘位置具有相对低的鲜明度时，可中止所述有机物的喷出。因此，可减少所述溢流现象。
108.即，检查装置1000可利用射出作为白色光的第三光l3的第二光源ls2，基于第一坝510的所述边缘位置的鲜明度，检查是否产生了所述溢流现象。此外，检查装置1000也可利用射出作为白色光的第三光l3的第二光源ls2来检查其他构成要素是否被制造成期望的形态。例如，可检查无机绝缘层110是否被整体配置于显示区域da和非显示区域nda、或者第二有机绝缘层124是否部分地覆盖了像素电极310等。
109.然而，由于有机封装层420包括所述透明的单体，因此基于鲜明度对是否产生所述溢流现象进行判断可能会根据个人的熟练度而存在偏差。即，区分相对低的鲜明度和相对高的鲜明度可根据个人的熟练度而存在偏差。此外，存在难以精密地判断有机封装层420的所述边缘位置的位置的问题。
110.图5至图9是示出利用图1的检查装置1000检查图4的检查对象物2000的一部分的结果的图。例如，图5至图9是示出检查了图4的第一坝区域dma1、第一区域1a和显示区域da的一部分的检查结果的图。具体地，图5至图9是在图4的例示中通过相机cm拍摄了有机封装层420的边缘位置421b位于第一区域1a的情况的图。
111.图5至图9均示出了利用相机cm拍摄了通过第一发光部emp1照射了第二光l2的检查对象物2000的图像。此外，图5至图9示出了利用相机cm拍摄了利用具有各自不同的带宽的带通滤波器bpf而照射了具有各自不同的带宽的第二光l2的检查对象物2000的图像。具体地，图5的第一实验结果run1是利用相机cm拍摄了照射具有约630nm至约750nm的波段(即，约120nm的带宽)的第二光l2的检查对象物2000的图像。图6的第二实验结果run2是利用相机cm拍摄了照射具有约640nm至约740nm的波段(即，约100nm的带宽)的第二光l2的检查对象物2000的图像。图7的第三实验结果run3是利用相机cm拍摄了照射具有约490nm至约
570nm的波段(即，约80nm的带宽)的第二光l2的检查对象物2000的图像。图8的第四实验结果run4是利用相机cm拍摄了照射具有约450nm至约490nm的波段(即，约40nm的带宽)的第二光l2的检查对象物2000的图像。图9的第五实验结果run5是利用相机cm拍摄了照射具有约570nm至约580nm的波段(即，约10nm的带宽)的第二光l2的检查对象物2000的图像。
112.即，第一实验照射了具有约120nm的带宽的红色光，第二实验照射了具有约100nm的带宽的红色光，第三实验照射了具有约80nm的带宽的绿色光，第四实验照射了具有约40nm的带宽的蓝色光，并且第五实验照射了具有约10nm的带宽的黄色光。参照图5和图6可确认，即使照射相同的红色光，照射到有机封装层420上的第二光l2的带宽越窄，干涉条纹if1、if2的可视性越高。
113.第一实验结果run1包括干涉条纹if1，第二实验结果run2包括干涉条纹if2，第三实验结果run3包括干涉条纹if3，第四实验结果run4包括干涉条纹if4，并且第五实验结果run5包括干涉条纹if5。所述干涉条纹if1、if2、if3、if4、if5可因光的干涉现象而产生。更详细地，在向包括透明的单体的有机封装层420上照射具有相对窄的带宽(例如，约120nm以下的带宽)的光时，所述干涉条纹可能会产生在有机封装层420上。
114.可确认，照射到有机封装层420上的第二光l2的带宽越窄，干涉条纹if1、if2、if3、if4、if5的可视性越高。在一实施例中，可基于所述干涉条纹if1、if2、if3、if4、if5来判断有机封装层420的边缘位置421b的位置。因此，照射到有机封装层420上的第二光l2的带宽越窄，可越容易判断有机封装层420的边缘位置421b的位置。
115.第一实验结果run1、第二实验结果run2、第三实验结果run3、第四实验结果run4和第五实验结果run5分别基于第一坝510的边缘位置510a的高的鲜明度来表示出未产生所述溢流现象。然而，也可根据个人的熟练度来判断第一坝510的边缘位置510a的鲜明度相对低的情况。
116.第一实验结果run1的第一干涉条纹if1、第二实验结果run2的第二干涉条纹if2、第三实验结果run3的第三干涉条纹if3、第四实验结果run4的第四干涉条纹if4和第五实验结果run5的第五干涉条纹if5表现出依次更加清晰。基于此，可判断为有机封装层420的边缘位置421b位于第一区域1a。这表示未产生所述溢流现象。即，第二光l2的带宽越窄，可越减小根据个人的熟练度而将检查对象物2000的位置判断得不同的偏差。即，可提高检查装置1000的可靠性。
117.此外，由于第二光l2的带宽越窄，越可精密地判断有机封装层420的边缘位置421b的位置，因此可省略包括于作为检查对象物2000的一例的所述显示装置的第一坝510和第二坝520。换言之，通过精密地判断有机封装层420的边缘位置421b的位置，从而即使所述显示装置不包括第一坝510和第二坝520，也可减少所述溢流现象。因此，可减小因第一坝510和第二坝520引起的所述显示装置的死区。
118.图10是比较并示出对图1的检查装置1000所检查的检查对象物2000的其他例进行检查的结果的图。
119.第一图像im1是利用相机cm拍摄了被第一发光部emp1照射第二光l2的检查对象物2000的图像，并且第二图像im2是利用相机cm拍摄了被第二发光部emp2照射第三光l3的检查对象物2000的图像。具体地，第一图像im1是利用相机cm拍摄了被照射具有约10nm的带宽的第二光l2的检查对象物2000的图像，并且第二图像im2是利用相机cm拍摄了被照射具有
约370nm的带宽的第三光l3的检查对象物2000的图像。
120.第一图像im1包括干涉条纹if。因此，第一图像im1可利用于判断包括在检查对象物2000中的透明的物质的位置。第二图像im2可利用于判断可视性的构成要素的配置关系。因此，检查装置1000可根据需要调节照射到检查对象物2000的光的带宽来提高可靠性。
121.图11是示出本发明的其他实施例涉及的检查装置1100的图。图11所示的检查装置1100除了半镜部hmp以外与图1所示的检查装置1000相同，因此对于相同的构成要素，使用相同的符号，并且省略重复的说明。
122.参照图11，半镜部hmp可包括第一半镜hm1、第二半镜hm2、第三半镜hm3和旋转部件rm。
123.在一实施例中，第一半镜hm1可被配置在相机镜筒cbt内。第一半镜hm1可被配置在镜头ln上。第一半镜hm1可具有将入射的光朝向镜头ln反射的反射面rs。反射面rs包括反射面rs1和反射面rs2。
124.在一实施例中，第二半镜hm2可被配置在第一光源镜筒bt1内。第二半镜hm2可将第二光l2朝向第一半镜hm1反射。例如，在第一方向dr1上入射到第一半镜hm1的第二光l2可在第二方向dr2上被反射。
125.在一实施例中，第三半镜hm3可被配置在第二光源镜筒bt2内。第三半镜hm3可将第三光l3朝向第一半镜hm1反射。
126.在一实施例中，旋转部件rm可使第一半镜hm1旋转。即，旋转部件rm使第一半镜hm1旋转，从而反射面rs1可与第二半镜hm2相向或者反射面rs2可与第三半镜hm3相向。具体地，在射出第一光l1时，反射面rs1可与第二半镜hm2相向，并且在射出第三光l3时，反射面rs2可与第三半镜hm3相向。因此，旋转部件rm使第一半镜hm1旋转，从而可选择第二光l2和第三光l3之中的照射到检查对象物2000的光。
127.图12a至图12d示出本发明的一实施例涉及的显示装置的制造方法的剖视图。
128.参照图12a，可在基板100上的显示区域da形成有源层210。例如，有源层210可使用非晶硅、多晶硅、氧化物半导体等来形成。
129.可在基板100和有源层210上形成栅极绝缘层111。例如，栅极绝缘层111可整体地形成在基板100上的显示区域da和非显示区域nda。例如，栅极绝缘层111可使用无机绝缘物质来形成。
130.可使形成在显示区域da的栅极绝缘层111在基板100上覆盖有源层210。
131.可在栅极绝缘层111上的显示区域da形成栅电极220。例如，栅电极220可使用金属、金属氧化物等来形成。
132.可在栅极绝缘层111和栅电极220上形成层间绝缘层113。例如，层间绝缘层113可整体地形成在栅极绝缘层111上的显示区域da和非显示区域nda。例如，层间绝缘层113可使用无机绝缘物质来形成。
133.可使形成于显示区域da的层间绝缘层113在栅极绝缘层111上覆盖栅电极220。例如，层间绝缘层113可沿着栅极绝缘层111和栅电极220的轮廓具有实质上均匀的厚度。
134.可在栅极绝缘层111和层间绝缘层113与有源层210重叠地形成多个接触孔。此外，可在层间绝缘层113上与所述多个接触孔分别重叠地形成源电极232和漏电极234。源电极232和漏电极234可分别通过所述多个接触孔中的每个而与有源层210连接。由此，可在基板
100上的显示区域da形成包括有源层210、栅电极220、源电极232和漏电极234的晶体管200。
135.可在基板100上的显示区域da形成覆盖晶体管200的第一有机绝缘层122。第一有机绝缘层122可覆盖层间绝缘层113、源电极232和漏电极234。第一有机绝缘层122可使用有机绝缘物质来形成。
136.可在第一有机绝缘层122形成接触孔。所述接触孔可使漏电极234的上表面的至少一部分露出。可在第一有机绝缘层122上的显示区域da形成像素电极310。像素电极310可通过所述接触孔而与漏电极234电连接。例如，像素电极310可使用金属、导电性金属氮化物、透明导电性物质等来形成。
137.可在第一有机绝缘层122上的显示区域da形成第二有机绝缘层124。第二有机绝缘层124可在第一有机绝缘层122上部分地覆盖像素电极310。可在第二有机绝缘层124形成使像素电极310的至少一部分露出的像素开口。第二有机绝缘层124可使用有机绝缘物质来形成。
138.可在第二有机绝缘层124上的显示区域da形成间隔物130。例如，间隔物130可利用半色调掩模与第二有机绝缘层124实质上同时形成。在该情况下，间隔物130可包括与第二有机绝缘层124相同的物质。
139.可在基板100上的非显示区域nda形成第一坝510和第二坝520。第一坝510可形成在第一坝区域dma1。第一坝510与有机绝缘层120间隔开的空间可被定义为第一开口部op1。
140.第二坝520可形成在第二坝区域dma2。第二坝520与第一坝510间隔开的空间可被定义为第二开口部op2。
141.第一坝510和第二坝520可与第一有机绝缘层122、第二有机绝缘层124和间隔物130中的至少一个实质上同时形成。
142.例如，第一坝510可包括第一层511、第二层512和第三层513，并且第二坝520可包括第一层521、第二层522和第三层523。例如，第一层511、521可与第一有机绝缘层122实质上同时形成。第二层512、522可与第二有机绝缘层124实质上同时形成。第三层513、523可与间隔物130实质上同时形成。
143.可在像素电极310上的显示区域da形成发光层320。例如，发光层320可形成在由第二有机绝缘层124的所述像素开口露出的像素电极310上。发光层320可使用有机发光物质和量子点中的至少一个来形成。
144.可在发光层320上的显示区域da形成公共电极330。例如，公共电极330可整体地形成在第二有机绝缘层124上。在例示性的各实施例中，公共电极330也可横跨整个显示区域da和非显示区域nda而形成。不同于此，公共电极330也可仅形成在显示区域da。
145.例如，公共电极330可使用金属、合金、导电性金属氧化物、导电性金属氮化物、透明导电性物质等来形成。由此，可在基板100和有机绝缘层120上的显示区域da形成包括像素电极310、发光层320和公共电极330的发光元件300。
146.参照图12b，可在层间绝缘层113和公共电极330上形成第一无机封装层410。第一无机封装层410可在有机绝缘层120上覆盖发光元件300。例如，第一无机封装层410可整体地形成在基板100和有机绝缘层120上的显示区域da和非显示区域nda。第一无机封装层410可使用无机绝缘物质来形成。
147.形成在显示区域da的第一无机封装层410可覆盖公共电极330。形成在非显示区域
nda的第一无机封装层410可覆盖第一坝510和第二坝520。例如，第一无机封装层410可沿着公共电极330、层间绝缘层113、第一坝510和第二坝520的轮廓具有实质上均匀的厚度。
148.可在第一无机封装层410上形成覆盖显示区域da的有机封装层420。例如，有机封装层420可使用如透明的单体的有机物来形成。
149.在一实施例中，可通过在所述基板100上喷出包括所述有机物的墨液或溶液的喷墨工序来形成有机封装层420。在该情况下，覆盖显示区域da的有机封装层420的一部分可延伸到位于显示区域da的外侧的非显示区域nda。即，有机封装层420的边缘位置可位于非显示区域nda。以下，例示如图所示那样有机封装层420的边缘位置421b位于第一区域1a的情况来进行说明。
150.参照图1和图12c，可利用检查装置1000来检查有机封装层420。具体地，在检查装置1000的第一光源ls1射出的具有第一波段的第一光l1之中可使具有相对窄的带宽的第二波段的第二光l2选择性地透过来照射有机封装层420。可利用相机cm拍摄照射了第二光l2的有机封装层420。即，拍摄部ptp可获得拍摄了有机封装层420的图像来检查有机封装层420的边缘位置421b。
151.通过照射相对窄的带宽的第二光l2，可在包括所述透明的单体的有机封装层420上形成干涉条纹if。因此，通过判断形成在有机封装层420的干涉条纹if的位置，可检查包括所述透明的单体的有机封装层420的位置。例如，可判断出有机封装层420的边缘位置421b位于第一坝510内侧。即，可判断出未产生所述溢流现象。
152.参照图12d，可在有机封装层420上形成第二无机封装层430。具体地，可在判断出未产生所述溢流现象之后，在有机封装层420上形成第二无机封装层430。例如，第二无机封装层430可整体地形成在基板100上的显示区域da和非显示区域nda。第二无机封装层430可使用无机绝缘物质来形成。
153.通过本发明的一实施例涉及的显示装置的制造方法，可利用检查装置1000精密地判断有机封装层420的边缘位置421b的位置。即，所述显示装置的制造方法可精密地检查有机封装层420是否被优选地形成。因此，可提高所述显示装置的可靠性。此外，即使省略所述显示装置的第一坝510，也可判断有机封装层420的位置。因此，可减小所述显示装置的死区。
154.本发明可适用于显示装置和包括显示装置的电子设备的检查装置。例如，本发明可适用于高分辨率智能电话、移动电话、智能平板、智能手表、平板pc、车辆用导航系统、电视机、电脑显示屏、笔记本电脑等的检查装置。
155.以上，参照本发明的例示性的各实施例进行了说明，但是本领域技术人员应当能够理解在不脱离权利要求书所记载的本发明的思想和领域的范围内可对本发明进行各种修正以及变更。