综合管廊管道漏损分析装置的制作方法

文档序号:32339649发布日期:2022-11-26 09:19阅读:40来源:国知局
综合管廊管道漏损分析装置的制作方法

1.本发明涉及综合管廊技术领域,尤其是一种综合管廊管道漏损分析装置。


背景技术:

2.综合管廊又称地下城市管道综合走廊,即在城市地下建造一个隧道空间,将电力、通信、燃气、供热、给排水等各种工程管线集于一体,设有专门的检修口、吊装口和监测系统,实施统一规划、统一设计、统一建设和管理,是保障城市运行的重要基础设施和生命线。
3.由于综合管廊中的管线种类和数量较多,在长期使用过程中,给水管存在漏水甚至爆管的风险;当给水管出现漏水或爆管现象后,导致水流溅射,容易在综合管廊内部产生积水,严重时造成带电线缆短路,影响其他线缆的安全性。
4.目前常采用的措施是将给水管设置在临时保护罩内,使得给水管位于封闭空间中,当给水管出现漏水或爆管时,给水管内的水流至保护罩内,然后通过保护罩上的漏水通道排出,这样就不会在综合管廊内产生积水,避免对综合管廊内的带电线缆等造成不利的影响;但是这种措施无法获得给水管的漏水量,也就不能使维修人员获得给水管的漏水程度,更无法为维修人员提供合适的维修方案。


技术实现要素:

5.本发明所要解决的技术问题是:提供一种综合管廊管道漏损分析装置,在给水管漏水后测算给水管的漏水量。
6.本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:综合管廊管道漏损分析装置,包括廊体和设置在廊体内腔中的给水管;所述给水管上套设有漏水收集箱;所述廊体内腔的底部设置有兼做支墩、并对漏水收集箱进行支撑、且上端开口的漏水计量箱;所述漏水收集箱内腔的底部、且正对漏水计量箱内腔的位置具有竖向设置的至少一个滴水孔;所述漏水计量箱内设置有声音监听器;所述漏水计量箱的下方设置有与其内腔连通的集水坑。
7.进一步的,所述漏水收集箱内腔的底面为中间低、周围高的凹形结构。
8.进一步的,所述滴水孔设置在漏水收集箱内腔底面的最低位置。
9.进一步的,所述漏水计量箱的内腔中设置有上端开口的漏水汇集箱;所述漏水收集箱内腔的底部、且正对漏水汇集箱内腔的位置具有竖向设置的泄水孔;所述漏水汇集箱的侧壁上设置有低位排水孔;所述漏水汇集箱内设置有用于向低位排水孔发射激光光束的低位激光发射器;所述漏水计量箱内腔的底面上设置有底壁感光层。
10.进一步的,所述漏水汇集箱的侧壁上设置有位于低位排水孔上方的高位排水孔;所述漏水汇集箱内设置有用于向高位排水孔发射激光光束的高位激光发射器。
11.进一步的,所述漏水计量箱内腔的侧壁、且正对高位激光发射器的位置设置有侧壁感光层。
12.进一步的,所述低位排水孔与高位排水孔水平设置、且相互平行。
13.进一步的,所述漏水汇集箱的侧壁上设置有位于高位排水孔上方的溢流口。
14.本发明的有益效果是:本发明实施例提供的综合管廊管道漏损分析装置,不仅可将给水管的漏水经漏水收集箱、漏水计量箱排至集水坑内,防止在综合管廊内出现积水,避免对综合管廊内的带电线缆等造成不利的影响,而且在给水管漏水的初期就可测算给水管的漏水量,使得维修人员可获得给水管的漏水程度,进而为维修人员提供合适的维修方案。
附图说明
15.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍;显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来说,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1是本发明实施例提供的综合管廊管道漏损分析装置的结构示意图;
17.图2是本发明实施例提供的综合管廊管道漏损分析装置的局部放大图。
18.图中附图标记为:1-廊体,2-给水管,3-漏水收集箱,4-漏水计量箱,5-滴水孔,6-声音监听器,7-集水坑,8-漏水汇集箱,9-泄水孔,10-低位排水孔,11-低位激光发射器,12-底壁感光层,13-高位排水孔,14-高位激光发射器,15-侧壁感光层,16-溢流口,17-盖板,18-支架,19-线缆,20-排水口。
具体实施方式
19.为了使本领域的人员更好地理解本发明,下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。
20.实施例一:
21.参见图1、图2,本发明实施例提供的综合管廊管道漏损分析装置,包括廊体1和设置在廊体1内腔中的给水管2;所述给水管2上套设有漏水收集箱3;所述廊体1内腔的底部设置有兼做支墩、并对漏水收集箱3进行支撑、且上端开口的漏水计量箱4;所述漏水收集箱3内腔的底部、且正对漏水计量箱4内腔的位置具有竖向设置的至少一个滴水孔5;所述漏水计量箱4内设置有声音监听器6;所述漏水计量箱4的下方设置有与其内腔连通的集水坑7。
22.所述廊体1由底板和两相对设置的侧板围成,用于埋设在地下;所述廊体1的顶部设置有可打开的盖板17。所述廊体1内腔的两侧面上分别固定有多层支架18,每层支架18上支撑有线缆19。其中,所述线缆19可以为通讯线缆、高压电缆等现有的各种线缆。所述给水管2设置在廊体1的内腔中且位于左右两侧的支架18之间,用于水的输送。
23.所述漏水收集箱3套设在给水管2上,用于将给水管2与其他管线隔离起来,当给水管2漏水时,漏出的水流到漏水收集箱3中,避免漏水对其他管线造成不利影响。由于给水管2在焊缝位置处易漏损,因此,本实施例中,所述漏水收集箱3优选套设在给水管2上的焊缝位置处。根据实际情况,所述给水管2上可以设置一个或多个漏水收集箱3。当然,若给水管2还存在其他容易漏水的位置,还应在这些容易漏水的位置设置漏水收集箱3。
24.具体的,所述漏水收集箱3为由顶板、底板和两对侧板围成的长方体结构。所述漏水收集箱3的其中一对侧板上设置有供给水管2穿过的一对通孔,所述给水管2从该一对通孔中穿过、且密封配合,且给水管2上易漏水位置位于漏水收集箱3内。优选的,所述给水管2
与漏水收集箱3内腔的底面接触,这样就主要通过漏水收集箱3的底板对给水管2进行支撑,增大了漏水收集箱3与给水管2的接触面积,提高了支撑的可靠性。
25.所述漏水计量箱4兼做支墩,用于固定在廊体1内腔的底部、且位于漏水收集箱3的正下方,该漏水计量箱4的顶部与漏水收集箱3的底部接触,进而通过漏水计量箱4对漏水收集箱3进行支撑。所述漏水计量箱4为由底板和两对侧板围成的上端开口的长方体结构。优选的,所述漏水计量箱4的底板为廊体1的底板的一部分。所述滴水孔5竖向设置在漏水收集箱3的底板上,首先用于将漏水收集箱3的内腔与漏水计量箱4的内腔连通,以在小漏水量的情况下,使得漏水收集箱3内的漏水主要经滴水孔5滴入漏水计量箱4中。所述声音监听器6安装在漏水计量箱4内,用于监听声音;该声音监听器6采用有线或无线的方式与控制管理中心连接,用于将监听到的特定声音和数据传输至控制管理中心。所述控制管理中心可以是电脑、智能手机、服务器、pad、ipa、平板等。在小漏水了的情况下,当水经滴水孔5滴入漏水计量箱4中时,声音监听器6监听滴水声同时计数,并将信号传输至控制管理中心,以便管理人员测算给水管2的漏水量。
26.所述集水坑7设置在漏水计量箱4的下方;所述漏水计量箱4的底板上设置有与集水坑7连通的排水口20。通过设置集水坑7,用于将漏水计量箱4内的水及时排入集水坑7中,进而通过集水坑7排走。
27.本发明实施例提供的综合管廊管道漏损分析装置,适用于在给水管2小漏水量的情况下,测算给水管2的漏水量的大小。工作时,当声音监听器6仅监听到滴水声时,则表明给水管2出现漏水情况,且处于小漏水量状态,此时给水管2内的水先流至漏水收集箱3中,再经滴水孔5滴入漏水计量箱4,然后经排水口20排至集水坑7中;在规定时间t内,声音监听器6监听到从滴水孔5滴了n滴水,并将数据传输至控制管理中心;那么管理人员就可测算给水管2的漏水量q0=nv0/t;其中,v0为一个水滴的体积,可提前标定好。
28.在给水管2漏水的初期,由于漏水量较少,为了便于漏水在漏水收集箱3内腔的底面汇集,所述漏水收集箱3内腔的底面为中间低、周围高的凹形结构。优选的,所述滴水孔5设置在漏水收集箱3内腔底面的最低位置。
29.实施例二:
30.当给水管2出现大漏水情况时,给水管2的泄漏量大于滴水孔5的滴水量,采用上述方式就无法准确测量给水管2的漏水量。
31.为了测算给水管2在大漏水情况下的漏水量,优选的,参见图1、图2,所述漏水计量箱4的内腔中设置有上端开口的漏水汇集箱8;所述漏水收集箱3内腔的底部、且正对漏水汇集箱8内腔的位置具有竖向设置的泄水孔9;所述漏水汇集箱8的侧壁上设置有低位排水孔10;所述漏水汇集箱8内设置有用于向低位排水孔10发射激光光束的低位激光发射器11;所述漏水计量箱4内腔的底面上设置有底壁感光层12。
32.所述漏水汇集箱8为由底板和一圈侧壁围成的上端开口结构,其设置在漏水计量箱4的内腔中且偏离滴水孔5的位置。优选的,所述漏水汇集箱8的底板为漏水计量箱4的底板的一部分。所述漏水收集箱3的底板上正对漏水汇集箱8内腔的位置设置有泄水孔9,当给水管2出现大漏水情况时,漏水主要经泄水孔9流至漏水汇集箱8中。所述低位排水孔10设置在漏水汇集箱8的侧壁上,且低位排水孔10至漏水计量箱4内腔的底面具有预定高度,这样就可使漏水汇集箱8的水经低位排水孔10以抛物线的形式排至漏水计量箱4的底面上。所述
漏水计量箱4内腔的底面上设置有底壁感光层12;所述底壁感光层12是将感光材料涂布在漏水计量箱4内腔的底面上、并起到感光作用的涂层,用于识别光线的位置。本实施例中,该底壁感光层12用于识别激光光束的位置;通过底壁感光层12与低位激光发射器11的配合,进而获得从低位排水孔10排出的水的流速。具体的,所述低位激光发射器11安装在漏水汇集箱8内,且正对低位排水孔10设置;该低位激光发射器11采用有线或无线的方式与控制管理中心连接。当漏水从低位排水孔10排出后,低位激光发射器11发射激光光束,并从低位排水孔10的水流中穿过,利用激光在水流中发生全反射,激光会随着水流方向传播,进而传播到底壁感光层12上从而获得水流速度。
33.本发明实施例提供的综合管廊管道漏损分析装置,适用于在给水管2大漏水量的情况下,测算给水管2的漏水量的大小。工作时,当声音监听器6监听到一股水流声音时,则表明给水管2出现了漏水情况,且处于大漏水量状态,此时给水管2内的水先流至漏水收集箱3中,再主要经泄水孔9流至漏水汇集箱8内,再经低位排水孔10排至漏水计量箱4,再经排水口20排至集水坑7中;在该过程中,低位激光发射器11测得的水流速度v1,并将数据传输至控制管理中心;那么管理人员就可测算给水管2在单位时间内的漏水量q1=a1v1;其中,a1为低位排水孔10的面积。由于从低位排水孔10排走的水量远远大于经滴水孔5排走的水量,因此,此处忽略了经滴水孔5排走的水量。
34.为了提高漏水汇集箱8的最大排水量,所述漏水汇集箱8的侧壁上设置有位于低位排水孔10上方的高位排水孔13;所述漏水汇集箱8内设置有用于向高位排水孔13发射激光光束的高位激光发射器14。优选的,所述低位排水孔10与高位排水孔13水平设置、且相互平行。
35.所述高位激光发射器14安装在漏水汇集箱8内,且正对高位排水孔13设置;所述高位激光发射器14采用有线或无线的方式与控制管理中心连接,并与底壁感光层12配合以获得从高位排水孔13排出的水的流速。工作时,当声音监听器6监听到两股水流声音时,则表明给水管2出现了漏水情况,且处于更大漏水量状态,此时给水管2内的水先流至漏水收集箱3中,再主要经泄水孔9流至漏水汇集箱8内,再经低位排水孔10和高位排水孔13同时排至漏水计量箱4,再经排水口20排至集水坑7中;在该过程中,低位激光发射器11测得的水流速度v1,高位激光发射器14测得的水流速度v2,并将数据传输至控制管理中心;那么管理人员就可测算给水管2在单位时间内的漏水量q2=a1v1+a2v2;其中,a2为高位排水孔13的面积。
36.上述实施例中,所述漏水计量箱4内腔的尺寸应保证高位排水孔13排出的水流落在底壁感光层12上;但是在一些实施例中,所述漏水计量箱4内腔的尺寸较小,造成高位排水孔13排出的水流落在漏水计量箱4的内腔的侧壁上,进而导致漏水量测算的不准确。为了保证漏水量测算的准确性,优选的,所述漏水计量箱4内腔的侧壁、且正对高位激光发射器14的位置设置有侧壁感光层15。工作时,高位排水孔13排出的水流即可落在底壁感光层12,也可落在侧壁感光层15,进而通过高位激光发射器14与底壁感光层12或侧壁感光层15的配合以测得高位排水孔13排出的水流速度。
37.当给水管2出现爆管情况,而给水管2爆管后的漏水量大于漏水汇集箱8的最大排水量时,为了及时将漏水排走,优选的,所述漏水汇集箱8的侧壁上设置有位于高位排水孔13上方的溢流口16。这样在给水管2爆管的情况下,漏水可从溢流口16及时排走。本实施例中,所述溢流口16为设置在漏水汇集箱8的侧壁顶部的缺口,该缺口位于高位排水孔13的正
上方。工作时,当声音监听器6监听到水流碰撞的声音时,则表明漏水从溢流口16排出,此时就可判定给水管2爆管,爆管由于水流较大,则可采用现有的常规测算爆管漏水量,在此不再赘述。
38.本发明实施例提供的综合管廊管道漏损分析装置,能从给水管2的极小漏水量到爆管均能测算出漏水量的大小,使得维修人员可获得给水管的漏水程度,进而为维修人员提供合适的维修方案。
39.参见图1、图2,作为一种实施方式,所有滴水孔5的中心线与低位激光发射器11或高位激光发射器14发射的激光光束位于同一竖直面内。这样当漏水从滴水孔5滴入漏水计量箱4时,水滴在下落过程中会与处于同一竖直面内的激光光束相交,进而遮挡激光光束,由此就可利用激光发射器发射的光束被水滴遮挡的次数,以测算给水管2在小漏水量的状态下的漏水量大小。
40.下面以所有滴水孔5的中心线与低位激光发射器11发射的激光光束位于同一竖直面为例进行说明:当给水管2处于小漏水量状态时,漏水主要经滴水孔5滴入漏水计量箱4,而低位排水孔10无水流,低位激光发射器11发射的激光光束从低位排水孔10中穿过,水滴在下落过程中与该激光光束相交;在规定时间t

内,低位激光发射器11发射的激光光束被水滴遮挡了n

次,低位激光发射器11将其记录的数据传输至控制管理中心;那么管理人员就可测算给水管2的漏水量q0′
=n
′v0
/t

;其中,v0为一个水滴的体积,可提前标定好。
41.以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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