一种基于测点拟合的雷达天线阵面标校方法及系统与流程

文档序号:35192984发布日期:2023-08-21 10:35阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于测点拟合的雷达天线阵面标校方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校方法,其特征在于,步骤s1包括:

3.根据权利要求1所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校方法,其特征在于,所述对所有的北天东坐标值进行拟合,得到拟合平面的步骤,包括:

4.根据权利要求1所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校方法,其特征在于,所述根据所述拟合平面,分别确定每个测点的目标调整量的步骤,包括:

5.根据权利要求1-4任一项所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校方法,其特征在于,还包括:

6.一种基于测点拟合的雷达天线阵面标校系统,其特征在于,包括:获取模块、处理模块和标校模块;

7.根据权利要求6所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校系统,其特征在于,所述获取模块具体用于:

8.根据权利要求6所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校系统,其特征在于,所述处理模块具体用于:基于最小二乘法,对所有的北天东坐标值进行拟合,得到所述拟合平面。

9.根据权利要求6所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校系统,其特征在于,所述处理模块具体用于:

10.根据权利要求6-9任一项所述的基于测点拟合的雷达天线阵面标校系统,其特征在于,还包括:计算模块和循环模块;


技术总结
本发明公开了一种基于测点拟合的雷达天线阵面标校方法及系统,包括:获取雷达天线阵面中的每个测点的北天东坐标值;对所有的北天东坐标值进行拟合,得到拟合平面,并根据所述拟合平面,分别确定每个测点的目标调整量;基于每个测点的目标调整量,分别对每个测点的位置进行调整,以对所述雷达天线阵面进行标校。本发明通过采用测点拟合法得到雷达天线阵面中各个测点构成的拟合平面,并获取每个测点的调整量,以此对雷达天线阵面中的每个测点进行调整,提升了对雷达天线阵面的标校精度。

技术研发人员:于浚峰,史永东,王来,孙治伟
受保护的技术使用者:北京无线电测量研究所
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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